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陈娣

作品数:6 被引量:6H指数:1
供职机构:兰州理工大学理学院应用物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金甘肃省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术机械工程理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇纳米
  • 3篇中频磁控溅射
  • 3篇纳米复合薄膜
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学沉积
  • 2篇TI-SI
  • 2篇磁学
  • 2篇磁学性质
  • 1篇电子发射
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇性能研究
  • 1篇英文
  • 1篇射电
  • 1篇碳膜
  • 1篇铁掺杂
  • 1篇氩离子
  • 1篇钛硅

机构

  • 6篇兰州理工大学
  • 2篇学研究院
  • 1篇中国科学院

作者

  • 6篇陈娣
  • 5篇姜金龙
  • 4篇王琼
  • 3篇黄浩
  • 3篇魏智强
  • 2篇杨华
  • 2篇朱维君
  • 1篇张霞
  • 1篇郝俊英
  • 1篇冯旺军
  • 1篇王玉宝

传媒

  • 2篇稀有金属材料...
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2014
  • 2篇2013
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
一种Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法
一种Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法,其目的是提供一种在大气和水环境中都具有低摩擦系数的Ti-Si-C纳米复合薄膜的制备方法,利用非平衡中频磁控溅射技术,使用TiSi条和石墨条按不同比例拼装成靶材,以氩气为溅射气体,...
姜金龙朱维君黄浩陈娣王琼杨华魏智强
文献传递
电化学沉积铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜
2016年
利用液相电化学方法,以乙酰丙酮铁的甲醇溶液为碳源,在单晶硅表面制备了铁-非晶碳磁性纳米复合薄膜。通过扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和Raman光谱技术分析了薄膜组成、形貌和结构。结果表明:Fe掺杂的非晶碳膜为含有Fe、Fe_3O_4纳米晶和非晶碳基的复合结构。和未掺杂非晶碳膜相比,Fe掺杂的薄膜具有更高的sp2碳含量和无序度。磁滞回线显示Fe掺杂的薄膜具有软磁特性,沿薄膜表面方向为易磁化方向。
王玉宝陈娣张霞魏智强姜金龙
关键词:电化学沉积铁掺杂非晶碳膜磁学性质
高压液相电化学沉积过渡金属/类石墨纳米复合薄膜研究
本文采用电化学方法以有机溶剂甲醇作为碳源在单晶硅基底上沉积了过渡金属(Fe、Co、Ni)/类石墨碳(Graphite-likecarbon,GLC)结构的纳米复合薄膜,对所制备的复合薄膜表面形貌、微观结构、磁学性质和场发...
陈娣
关键词:电化学沉积纳米复合薄膜磁学性质场致电子发射
文献传递
钛硅多元掺杂类金刚石薄膜在不同气氛环境下的摩擦学性能研究被引量:4
2013年
采用中频磁控溅射技术在单晶硅表面制备了钛硅多元掺杂的含氢类金刚石薄膜.在球-盘摩擦试验机上考察了不同气氛环境对薄膜摩擦学性能的影响.利用扫描电子显微电镜和拉曼光谱分析了磨损表面形貌和转移层结构,探讨了薄膜的摩擦磨损机理.结果表明:薄膜在真空和氮气环境下摩擦系数较小、磨损率低,表现为磨粒磨损;在氧气和高湿度大气环境下摩擦系数较大、磨损率高,表现为黏着磨损;在低湿度空气环境下薄膜摩擦系数最低,表现为磨粒磨损和黏着磨损混合磨损机理;转移层发生摩擦诱导石墨化和聚乙炔链CC键双氢化两种摩擦化学过程.
姜金龙黄浩陈娣王琼冯旺军郝俊英
关键词:类金刚石薄膜中频磁控溅射摩擦学性能
甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响(英文)被引量:1
2014年
以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究了甲烷流量对薄膜沉积速率、结构、力学和摩擦学性能的影响。结果表明,甲烷流量对薄膜结构、力学和摩擦学性能有显著影响,随甲烷流量增加薄膜从包含约10 nm晶的锥状纳米晶/非晶复合结构向非晶结构转变,在低甲烷流量下沉积的薄膜具有高硬度、高应力和高磨损率;在高甲烷流量下薄膜硬度和应力降低,而摩擦学性能提高。薄膜力学和摩擦学性能的变化被认为是随甲烷流量增加薄膜结构演化的结果。
姜金龙陈娣王琼黄浩朱维君郝俊英
关键词:中频磁控溅射力学性能
氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响被引量:1
2014年
通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜。采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构。结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C:Si:H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响。随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加。氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加。
姜金龙陈娣王琼杨华魏智强
关键词:X射线光电子能谱
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