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陈伟

作品数：1 被引量：28H指数：1
供职机构：西安工业学院光电工程学院光电科学与工程系更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇膜厚
  • 1篇膜厚均匀性
  • 1篇均匀性
  • 1篇溅射
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇西安工业学院

作者

  • 1篇杭凌侠
  • 1篇徐均琪
  • 1篇惠迎雪
  • 1篇陈伟

传媒

  • 1篇西安工业学院...

年份

  • 1篇2003
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究被引量：28
2003年
　使用磁控溅射和非平衡磁控溅射方法,在玻璃基底上沉积钛膜.实验了在同等工艺条件下平衡和非平衡两种不同的工作模式对膜厚均匀性的影响.结果表明,靶基距是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数,在一定范围内,随着靶基距的增大,膜厚分布均匀性有提高的趋势;磁场分布是影响两种磁控溅射膜厚分布差异的主要因素;非平衡磁控溅射膜厚均匀性随附加励磁线圈电流改变而变化.
惠迎雪杭凌侠徐均琪陈伟
关键词：磁控溅射非平衡磁控溅射均匀性
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共1页<1>
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