2024年8月25日
星期日
|
欢迎来到南京江宁区图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
陈伟
作品数:
1
被引量:28
H指数:1
供职机构:
西安工业学院光电工程学院光电科学与工程系
更多>>
相关领域:
理学
更多>>
合作作者
惠迎雪
西安工业学院光电工程学院光电科...
徐均琪
西安工业学院光电工程学院光电科...
杭凌侠
西安工业学院光电工程学院光电科...
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
理学
主题
1篇
膜厚
1篇
膜厚均匀性
1篇
均匀性
1篇
溅射
1篇
非平衡磁控溅...
1篇
磁控
1篇
磁控溅射
机构
1篇
西安工业学院
作者
1篇
杭凌侠
1篇
徐均琪
1篇
惠迎雪
1篇
陈伟
传媒
1篇
西安工业学院...
年份
1篇
2003
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究
被引量:28
2003年
使用磁控溅射和非平衡磁控溅射方法,在玻璃基底上沉积钛膜.实验了在同等工艺条件下平衡和非平衡两种不同的工作模式对膜厚均匀性的影响.结果表明,靶基距是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数,在一定范围内,随着靶基距的增大,膜厚分布均匀性有提高的趋势;磁场分布是影响两种磁控溅射膜厚分布差异的主要因素;非平衡磁控溅射膜厚均匀性随附加励磁线圈电流改变而变化.
惠迎雪
杭凌侠
徐均琪
陈伟
关键词:
磁控溅射
非平衡磁控溅射
均匀性
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张