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赵杰
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2
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东南大学微电子中心
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孙勤生
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年份
2篇
1996
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多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型
1996年
采用深能级瞬态谱仪(DLTS)测试多晶硅n+p二极管势垒区深能级谱。利用DLTS实验结果,对G.Baccarina等提出的均匀陷阱模型进行修正,提出多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型。运用该修正模型,可采用迭代法求得多晶硅电学参数──势垒高度Eb、电导率激活能Ea与多晶硅掺杂浓度Nc间关系。计算结果表明,多晶硅晶粒间界的线性陷阱模型具有理论合理性。
赵杰
张安康
魏同立
孙勤生
关键词:
深能级瞬态谱
晶粒间界
多晶硅
多晶硅/二氧化硅界面的俄歇谱分析
1996年
利用扫描俄歇微探针对多晶硅/二氧化硅界面进行分析,发现多晶硅/二氧化硅界面不是突变的,而存在着一个过渡区。根据多晶硅薄膜的成核理论,分析了该过渡区产生的原因,并利用"幸运载流子"模型,定量分析该过渡区对MOS结构热载流子注入效应的影响。
赵杰
张安康
魏同立
陈明华
邵建新
成巨龙
关键词:
俄歇电子能谱
多晶硅
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