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苏德志

作品数:3 被引量:3H指数:1
供职机构:北方工业大学更多>>
发文基金:北京市自然科学基金北京市教育委员会科技发展计划教育部科学技术研究重大项目更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇氧化锌薄膜
  • 2篇射频溅射
  • 2篇溅射
  • 2篇光致
  • 2篇非极性
  • 2篇ZNO
  • 1篇性能研究
  • 1篇生长温度
  • 1篇锌源
  • 1篇工作气体
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇北方工业大学

作者

  • 3篇苏德志
  • 2篇赵全亮
  • 1篇狄杰建
  • 1篇王大伟
  • 1篇何广平
  • 1篇袁俊杰

传媒

  • 1篇北方工业大学...

年份

  • 2篇2014
  • 1篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
一种在硅基衬底上制备非极性氧化锌薄膜的方法
本发明提出了一种在Si基衬底上制备高(110)取向非极性氧化锌薄膜的方法,以Si为衬底,ZnO靶材作为锌源和氧源,Ar为工作气体,O<Sub>2</Sub>为反应气体,采用磁控溅射法,通过控制真空度小于8×10<Sup>...
赵全亮何广平狄杰建袁俊杰王大伟苏德志李中翔
文献传递
(110)和(002)择优取向ZnO薄膜的制备及光学性能研究
2014年
运用射频溅射法在Si和LaNiO3/Si衬底上分别制备了高度(002)和(110)取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征,发现ZnO/LaNiO3/Si薄膜的(110)取向度高达96%,ZnO/Si薄膜为(002)择优取向,两种薄膜表面均致密平整,晶粒尺寸小于80nm.光致发光结果表明,ZnO/LaNiO3/Si薄膜的光致发光峰主要为带边发射的紫外光,而ZnO/Si薄膜的光致发光峰主要为过量氧导致的缺陷引起的缺陷发光峰.因此,采用LaNiO3薄膜作为ZnO在Si衬底上生长的过渡层,能够有效抑制缺陷发光,改善ZnO薄膜的发光性能.
苏德志赵全亮李中翔
关键词:氧化锌薄膜射频溅射光学性能
ZnO/LNO薄膜的磁控溅射制备与性能研究
ZnO材料具有宽的直接带隙(3.36eV)和较大的激子束缚能(60meV),在室温下容易获得强的激子发射,可能成为紫外激光的重要材料,尤其在紫外光发光二极管、激光器和探测器上具有重要应用价值.目前的研究中,(110)取向...
苏德志
关键词:ZNO非极性射频溅射光致发光
文献传递
共1页<1>
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