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程传辉

作品数:23 被引量:71H指数:6
供职机构:大连理工大学物理与光电工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 17篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 13篇理学
  • 5篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 10篇酞菁
  • 7篇光谱
  • 7篇发光
  • 5篇电致发光
  • 3篇酞菁铜
  • 3篇谱性质
  • 3篇近红外
  • 3篇光致
  • 3篇光致发光
  • 3篇红外
  • 3篇红移
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学性质
  • 2篇异丙基
  • 2篇紫外
  • 2篇紫外可见
  • 2篇椭偏光谱
  • 2篇介电
  • 2篇介电常数
  • 2篇化学性质

机构

  • 17篇吉林大学
  • 16篇大连理工大学
  • 7篇内蒙古民族大...
  • 4篇东北师范大学
  • 3篇运城学院
  • 2篇香港城市大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 19篇程传辉
  • 14篇杜国同
  • 9篇白青龙
  • 9篇夏道成
  • 7篇张春花
  • 7篇李万程
  • 6篇范昭奇
  • 6篇于书坤
  • 3篇马春雨
  • 3篇何为
  • 3篇杜锡光
  • 2篇张海明
  • 2篇申人升
  • 2篇刘克
  • 2篇张大明
  • 2篇潘裕斌
  • 2篇张希珍
  • 2篇张丹
  • 1篇郭振强
  • 1篇李万成

传媒

  • 3篇化工新型材料
  • 2篇光电子.激光
  • 2篇吉林大学学报...
  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇Journa...
  • 1篇Chines...
  • 1篇化学学报
  • 1篇材料导报
  • 1篇辽宁师范大学...
  • 1篇发光学报
  • 1篇应用化学
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 1篇2022
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 4篇2010
  • 1篇2009
  • 5篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
23 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
用椭圆偏振光谱法研究取代基对酞菁薄膜光学常数的影响
2009年
利用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪研究十六氟铜酞菁(F16CuPc)和铜酞菁(CuPc)薄膜的光学性质.在248-1 650 nm使用逐点拟合的方法对测得椭偏光谱进行分析,获得两种薄膜的折射率、消光系数、复介电常数和吸收系数.讨论了外环氟取代基对酞菁光学性质的影响,结果表明,共轭酞菁大环上的外围取代基对薄膜的响应波长和非正常色散影响较大.分析了两种酞菁的电子结构及吸收谱成因,并由吸收边外推得到两种材料的光学禁带宽度(Eg).
于书坤范昭奇夏道成程传辉白青龙杜国同
关键词:光学常数椭偏光谱取代基介电常数
铒镱共掺磷酸盐玻璃波导放大器及上转换性质被引量:10
2006年
研究了采用离子交换和电场辅助退火法制作的铒镱共掺磷酸盐波导放大器的增益特性,测量了Er2O3,Yb2O3掺杂浓度分别为2·2wt%和4·7wt%,长度为1·2cm的器件增益,在130mW,976nm泵浦光泵浦下,输入信号光功率小于1mW时,在1535nm处得到8·5dB的小信号相对增益;当泵浦功率为30mW时,可观测到绿色的上转换辐射光,发光强度随泵浦功率增加而增大;通过单色仪和光电倍增管接收此光,确定是铒粒子由2H11/2和4S3/2能级分别跃迁至基态的上转换辐射光.
张丹刘克张大明程传辉张希珍张海明潘裕斌
关键词:光增益
新型不对称酞菁的电致发光性质研究
2010年
制作了以3种新型不对称酞菁铜为发光层的电致发光器件并研究了其电致发光性质。3种新型不对称酞菁铜为2(3)-(对叔丁基苯氧基)酞菁铜(1),2(3),9(10),16(17)三--(对叔丁基苯氧基)酞菁铜(2)和2(3),16(17)-二-(对叔丁基苯氧基)酞菁铜(3)。其中以(1)和(3)为发光层的器件结构ITO/NPB(40 nm)/Phthalocynine(Pc)(30 nm)/AlQ(43.8 nm)/LiF(0.5 nm)/Al(120 nm)。其中以(2)为发光层的器件结构为:ITO/NPB(30 nm)/Pc(30 nm)/BCP(20 nm)/AlQ(30 nm)/LiF(0.5 nm)/Al(120 nm)。以(1),(2)和(3)为发光层与Q带相关联的发射波长分别出现在869和1 062 nm;1 050和1110 nm;和1 095和1 204 nm。上述发射波长的不同是因为取代基的数目和真空镀膜的分子聚集态不同造成的,所以3种不对称酞菁铜的发射峰值和半峰宽差别较大,而且由此也引起斯托克司位移的不同。
夏道成李万程韩双程传辉李泉泉王进张伟李珠
关键词:酞菁电致发光
基于四取代铜酞菁的有机近红外电致磷光器件被引量:10
2010年
制备了结构为ITO/NPB/TPBI:(4-tert)CuPc/BCP/Alq3/Al的近红外(NIR)有机电致发光器件(OLED),器件在室温下的发射峰位于1110nm附近,来源于(4-tert)CuPc分子的磷光发射,器件的最佳掺杂浓度为14wt%。制备了结构为ITO/NPB/TPBI:(4-tert)CuPc/DCJTB/BCP/Alq3/Al的器件,结果表明,DCJTB层的加入没有改变器件的NIR电致发光(EL)峰位置,而器件的NIR发光强度与没有DCJTB层的器件相比,提高了50%左右,这是由于DCJTB向(4-tert)CuPc进行了有效的能量传输。
范昭奇程传辉申人升李万成王瑾白青龙夏道成杜国同
关键词:酞菁
1^1,8(11),15(18),22(25)-四苯氧基金属酞菁的合成与表征被引量:1
2008年
以3-硝基邻苯二腈为前体制备了四苯氧基取代的金属酞菁6-9,对合成化合物进行了质谱、氢核磁、元素分析、红外及紫外可见光谱表征,表征结果证明了它们的分子结构.这些酞菁在有机溶剂中具有很好的溶解性.由于酞菁外围的苯氧基取代基能在一定程度上减弱酞菁的聚合效应,它们不易聚合.产物7和9在极性较小的溶剂(如C6H6和CHCl3)中的紫外吸收光谱与其在极性较大的溶剂(如THF和DMF)中的紫外吸收光谱相比,在740 nm左右多了一个额外的吸收峰,这种现象是不多见的.
夏道成马春雨程传辉于书坤常玉春杜国同
关键词:金属酞菁
α(β)-四-苯氧基金属酞菁的合成、表征和光谱性质被引量:2
2010年
以3-硝基邻苯二腈和4-硝基邻苯二腈为原料分别合成了1,8,15,22-四-苯氧基酞菁铜(镍)和2,9,16,23-四-苯氧基酞菁铜(镍),通过IR和UV-Vis光谱进行了表征,并讨论了取代基的取代位置和中心离子对酞菁Q带最大吸收波长的影响。
白青龙张春花程传辉夏道成范昭奇杜国同
关键词:光谱性质
甲氧基苯氧基取代1:3和3:1不对称酞菁锌的合成及光谱性质被引量:2
2011年
以4-硝基邻苯二腈和对甲氧基苯酚为原料合成了4-甲氧基苯氧基邻苯二腈,在醋酸锌存在条件下,再将4-甲氧基苯氧基邻苯二腈和邻苯二腈按1∶9和9∶1比例混合,反应后分别得到了β-一(4-甲氧基苯氧基)酞菁锌和β-三(4-甲氧基苯氧基)酞菁锌,通过IR光谱,紫外-可见光谱和质谱表征了其结构,并讨论了取代基数目对酞菁Q带最大吸收波长的影响,结果表明,取代基数目增多,其Q带最大吸收波长红移。
白青龙张春花程传辉李万程申仁升杜国同赵龙
关键词:紫外可见光谱红移
2(3)-四-(2-异丙基-5-甲基苯氧基)钛氧酞菁的合成及其近红外发光特性被引量:3
2008年
通过分步合成的方法,在钛氧酞菁的外围引入了四个苯氧基团,合成了一种2(3)-四-(2-异丙基-5-甲基苯氧基)钛氧酞菁。通过质谱、核磁、元素分析、紫外可见吸收光谱、近红外光荧光谱和循环伏安法对其结构和性质进行了表征,并利用旋涂加真空热蒸发的方法制得了该材料的电致发光器件(ITO/PVK∶TiOPc/BCP/LiF/Al)。结果表明,四取代的钛氧酞菁固态的近红外光荧光峰值在1 080 nm左右;其近红外电致发光的峰值波长落在1 050 nm左右。在PVK掺杂的器件中,钛氧酞菁的质量分数为30%时有较强的发光强度。
何为程传辉于书坤杜锡光杜国同
关键词:近红外有机发光器件
酞菁氧钛薄膜光学常数的测量研究被引量:4
2008年
使用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪,对在单晶硅片上真空蒸镀的酞菁氧钛(TiOPc)薄膜的光学性质进行了研究。在248~1650nm(0.75~5ev)的范围内分别使用柯西模型、逐点拟合模型、洛伦兹模型和高斯模型对测得的椭偏光谱进行拟合分析,获得了TiOPc薄膜的折射率、消光系数和复介电常数。通过比较,我们发现高斯模型拟合的均方差较小,拟合数据和测试数据重合度好,而且拟合得到的光学常数的图线光滑连续,因此认为高斯模型最适用于描述TiOPc薄膜的光学性质。由高斯模型拟合所得的消光系数推出了TiOPc薄膜的吸收谱,结果发现TiOPc薄膜在紫外可见近红外区有一系列的吸收峰,分析了其电子结构及吸收谱成因,并由吸收谱推算了其光学禁带宽度。
于书坤夏道成高强李万程程传辉何为杜国同
关键词:光学常数椭偏光谱酞菁氧钛介电常数
α和β-四(4-甲氧基苯氧基)酞菁锌的合成、表征和电化学性质被引量:10
2011年
以3-硝基邻苯二腈和4-硝基邻苯二腈为原料经过两步反应合成了α和β-四甲氧基苯氧基酞菁锌,通过IR光谱、UV-Vis光谱、MS谱、1H NMR谱和元素分析表征了其结构,其结果与标题化合物的结构一致.这两种酞菁在有机溶剂中有良好的溶解性.通过循环伏安法研究其能带结构和电化学过程,结果表明,甲氧基苯氧基在α-位时(与苯氧基在β-位时相比)酞菁单体的HOMO能级升高,LUMO能级降低,带隙变窄,有利于酞菁分子的电子传输.它们在二氯甲烷中的电化学过程都是单电子准可逆过程,而且氧化还原过程均发生在酞菁环上.最后提出了两种酞菁的电化学反应机理.
白青龙张春花程传辉李万程杜国同
关键词:循环伏安法电化学过程反应机理
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