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排序方式：

建立电子学科创新实践、实训基地的探索被引量：38: 2004年; 针对提高本科学生的动手能力和创新能力等问题,通过系统地研究和设计各实践环节(专业实验、开放设计性实验、毕业实习和毕业设计),建立专业实验基地,创建开放性与设计性实验等环节,筹建创新实践基地,逐步达到提高学生的动手操作能力、实验理解能力、自主设计能力、综合测评能力和论文撰写能力的目的。; 曹万强潘永才王晓临; 关键词：创新实践基地设计性实验

新型光刻技术的现状与进展被引量：14: 2007年; 大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺——光刻技术也面临着愈来愈多的难题。新兴的193nm浸入式技术、157nm极短紫外光刻(EUV)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键。介绍了193nm浸入式技术、157nm光刻技术、电子束投影(EPL)光刻技术以及纳米压印光刻技术。指出纳米压印光刻技术具有生产效率高、成本低、工艺过程简单等优点,能实现分辨率达5nm以下的水平,是最具发展前途的下一代光刻技术之一。; 杨向荣张明王晓临曹万强; 关键词：光刻光源

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王晓临