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张锦超

作品数：19 被引量：0H指数：0
供职机构：清华大学深圳研究生院更多>>

合作作者

文献类型

  • 19篇中文专利

主题

  • 10篇光栅
  • 8篇探测器
  • 8篇光谱
  • 8篇光谱仪
  • 8篇光探测
  • 8篇光探测器
  • 6篇设计方法
  • 5篇入射
  • 5篇入射角
  • 4篇衍射
  • 4篇衍射效率
  • 4篇制作方法
  • 4篇闪耀
  • 3篇光学
  • 3篇光学性
  • 3篇光学性能
  • 3篇光学元件
  • 2篇闪耀光栅
  • 2篇拼合
  • 2篇全息

机构

  • 19篇清华大学

作者

  • 19篇周倩
  • 19篇张锦超
  • 19篇倪凯
  • 16篇董昊
  • 14篇许明飞
  • 14篇田瑞
  • 5篇李星辉
  • 5篇胡海飞
  • 3篇王晓浩
  • 3篇燕鹏
  • 2篇王兰兰
  • 2篇朱祥文
  • 2篇王欢欢
  • 2篇李阳

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 6篇2016
  • 7篇2015
  • 4篇2014
共 19 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种闪耀凹面光栅制作方法
本发明涉及一种闪耀凹面光栅制作方法，它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为：通过复制工艺复制凹面闪耀光栅，复制完毕，保温、降温，然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离，最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行...
周倩倪凯田瑞李阳许明飞张锦超逄锦超董昊
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一种在光学元件上制作涂镀层的方法及光学元件
一种在光学元件上制作涂镀层的方法，包括如下步骤：鉴别光学元件的表面形貌特征，确定其凹凸形态；对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件，通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌，仿真并比较...
王晓浩周倩胡海飞李星辉倪凯燕鹏张锦超逄锦超
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一种全息光栅的曝光方法及曝光光路
本发明公开了一种全息光栅的曝光方法及曝光光路，曝光方法包括调节两个曝光光源的位置，形成曝光光路的步骤：（1）确定两个曝光光源的初始位置；（2）计算仿真的初始光路工作后形成光栅的成像质量参数；（3）在初始光路中设置补偿镜；...
周倩倪凯田瑞逄锦超许明飞董昊张锦超
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一种双入射狭缝光谱仪的设计方法以及双入射狭缝光谱仪
本发明公开了一种双入射狭缝光谱仪的设计方法以及双入射狭缝光谱仪，使用凹面光栅、两个入射狭缝和两个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定第一入射狭缝的入射角以及凹面光栅的槽型周期；2)估算凹面光栅的闪耀角，确定凹面光栅...
倪凯周倩逄锦超张锦超田瑞许明飞董昊
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一种高分辨率光谱仪的设计方法以及光谱仪
本发明公开了一种高分辨率光谱仪的设计方法以及光谱仪，使用凹面光栅、两个入射狭缝和一个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定波长λ2和λ3的值，将整个光谱检测范围划分为两个波段范围；2)根据两个波段范围复用一个光探测器...
倪凯周倩逄锦超张锦超田瑞许明飞董昊
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闪耀凹面光栅制作装置及制作方法
本发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置，包括凸面闪耀母光栅，所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块，所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。本发明还公...
周倩倪凯逄锦超田瑞许明飞董昊张锦超
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一种光谱仪的设计方法以及光谱仪
本发明公开了一种光谱仪的设计方法以及光谱仪，使用凹面光栅、三个入射狭缝和三个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定第二入射狭缝的入射角以及凹面光栅的槽型周期；2)估算凹面光栅的闪耀角，确定凹面光栅的表面材料和槽型结构...
倪凯周倩逄锦超张锦超田瑞许明飞董昊
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一种凹面光栅光谱仪
本发明公开一种凹面光栅光谱仪，包括入射狭缝、凹面光栅、遮光板、反射镜和光探测器，光探测器直接接收光谱中的短波段，反射镜将光谱中的长波段反射到光探测器上，使得短波段与长波段复用一个光探测器，并且，光探测器和反射镜的位置满足...
周倩倪凯逄锦超张锦超田瑞许明飞董昊
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用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法
本发明公开了一种用于制作菲涅尔光栅的优化设计方法，包括以下步骤：(1)将菲涅尔光栅的菲涅尔面型等效为曲面面型，基于菲涅尔面型等效的曲面面型确定菲涅尔光栅的光程差函数：Φ(λ)＝＜AP<Sub>1</Sub>P<Sub>2...
周倩张锦超李星辉倪凯逄锦超胡海飞董昊王欢欢朱祥文王兰兰
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一种高分辨率光谱仪的设计方法以及光谱仪
本发明公开了一种高分辨率光谱仪的设计方法以及光谱仪，使用凹面光栅、两个入射狭缝和一个光探测器搭建光谱仪，包括以下步骤：1)确定波长λ2和λ3的值，将整个光谱检测范围划分为两个波段范围；2)根据两个波段范围复用一个光探测器...
倪凯周倩逄锦超张锦超田瑞许明飞董昊
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