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庞霖

作品数:3 被引量:6H指数:1
供职机构:清华大学机械工程学院精密测试技术及仪器国家重点实验室更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇微光学
  • 3篇微光学元件
  • 3篇光学
  • 3篇光学元件
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶
  • 1篇曝光量
  • 1篇重铬酸盐明胶
  • 1篇微结构
  • 1篇浸渍
  • 1篇复合材料
  • 1篇成膜特性
  • 1篇复合材

机构

  • 3篇清华大学
  • 2篇四川大学

作者

  • 3篇金国藩
  • 3篇严瑛白
  • 3篇庞霖
  • 2篇郭履容
  • 1篇邬敏贤
  • 1篇伊德尔
  • 1篇陈波
  • 1篇韦辉

传媒

  • 2篇中国激光
  • 1篇2000年中...

年份

  • 2篇2001
  • 1篇2000
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
用于微光学元件制作的溶胶-凝胶复合材料
提出一种sol-gel光记录复合材料.利用此光记录材料,只需曝光、显影即可直接制作复合材料微结构元件.另外,由于有机无机sol-gel元件制作是利用此材料中侧链可聚合基团的光引发聚合,因此,光照过程中,光聚合的收缩作用必...
庞霖严瑛白伊德尔金国藩
关键词:微光学元件复合材料曝光量
制作重铬酸盐明胶微光学元件的化学裂解刻蚀方法
2001年
从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解方法可以获得 5 0 0lines mm的刻蚀分辨率。应用化学裂解方法 ,利用投影曝光系统和灰度掩摸 ,制作了单元线宽为 30 μm ,深度为 0 8μm的连续浮雕明胶微棱镜列阵。
庞霖严瑛白金国藩邬敏贤郭履容陈波
关键词:微光学元件重铬酸盐明胶
基于微结构制作的溶胶凝胶浸渍成膜特性被引量:6
2001年
针对制作溶胶 凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶 凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离以上关系 ,且随速度的增大 ,膜厚增加缓慢。对成膜过程的分析表明 ,挥发过程对溶胶
庞霖严瑛白金国藩韦辉郭履容
关键词:微光学元件溶胶-凝胶微结构
共1页<1>
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