姚宁
- 作品数：169 被引量：480H指数：11
- 供职机构：郑州大学更多>>
- 发文基金：教育部科学技术研究重点项目河南省科技攻关计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>
- 非晶碳/Mo2C混合膜的场发射特性
- 以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积(MPCVD)系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2。在高真空室中测量了样品场发射特性。开启场强为0.55V/μm,在1.8V/...
- 王朝勇姚宁张兵临鲁占灵方莉俐邓记才张新月赵永梅袁泽明
- 关键词：场发射微波等离子体化学气相沉积非晶碳
- 文献传递
- 能量过滤磁控溅射低温沉积ITO膜及其光电性能研究被引量：2
- 2012年
- 利用能量过滤磁控溅射技术,于低温条件下,在玻璃衬底上制备ITO薄膜,研究了过滤电极金属网栅目数、溅射功率、衬底温度对ITO薄膜光电性能的影响。结果表明:在网栅目数为60目、衬底温度为81℃、溅射功率为165W的条件下,所得ITO薄膜的电阻率为4.9×10-4Ω.cm,可见光区平均透过率达到87%。
- 樊丽红王朝勇路钟杰关瑞红姚宁
- 关键词：ITO薄膜光电性能
- 纳米金刚石薄膜的场电子发射
- 报导了纳米金刚石薄膜的场电子发射。金刚石薄膜是利用微波等离子体化学气相沉积法（CVD）在沉积了Mo膜的陶瓷衬底上制备的。通过X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、Raman光谱等手段确定薄膜是纳米结构。X射线衍射谱显...
- 姚宁李运钧王小平马会中毕兆膜张兵临
- 关键词：场电子发射
- 一种顶发射有机电致发光器件
- 本发明提供了一种顶发射有机电致发光(TOLED)器件，包括阴极、阳极，其中：所述阴极采用场发射薄膜。本发明顶发射有机电致发光器件的阴极采用场发射薄膜，利用场发射薄膜的内场电子发射特性强制性地注入电子，以提高电子注入效率，...
- 姚宁鲁占灵韩昌报邢宏伟
- 文献传递
- 碳纳米管的制备及其场发射应用研究被引量：4
- 2007年
- 由于碳纳米管（CNTs）具有独特的结构和性能，因而自被发现以来一直受到人们的关注。本文介绍了其制作方法；列举了其场发射性能的主要指标；阐述了影响其场发射性能的因素，比如结构、定向性、阵列密度和环境气氛；并介绍了其在平板显示方面的应用。
- 杨艳丽王新昌姚宁张兵临
- 关键词：碳纳米管场发射平板显示
- 非晶碳/Mo_2C混合膜的场发射特性
- 2006年
- 以镀有Mo过渡层的Al2O3衬底,在微波等离子体增强化学气相沉积系统中,制备了非晶碳/Mo2C混合结构薄膜,反应气体为CH4和H2。在高真空室中测量了样品场发射特性,开启场强为0.55 V/μm,在1.8 V/μm电场下样品的发射电流密度为6.8 mA/cm2,发射点点密度大于103/cm2。用SEM观察了表面形貌,Raman和XRD谱分析了薄膜的微观结构和成分。实验结果表明该薄膜是一种好的场致电子发射体。
- 王朝勇姚宁张兵临方莉俐袁泽明
- 关键词：场发射微波等离子体化学气相沉积非晶碳
- MPCVD多晶金刚石薄膜的生长特性研究
- 2010年
- 本文用微波等离子化学气相沉积系统（MPCVD）在单晶硅衬底上制备多晶金刚石薄膜，反应气体为CH4和H2。利用扫描电镜（SEM）和Raman光谱研究了CH4流量和反应时间对多晶金刚石薄膜形貌和碳结构的影响。结果表明：随着CH4流量的增加，金刚石的成核密度增加，并出现二次形核，金刚石颗粒从单晶逐渐转变为多晶结构。多晶金刚石薄膜的生长过程为：生长初期在单晶硅衬底上形成非晶碳层，金刚石在非晶碳层上成核长大，并伴随着二次成核，最终形成多晶金刚石膜。
- 鲁占灵马孝田姚宁崔娜娜田永涛
- 关键词：MPCVDRAMAN光谱
- 衬底处理对碳纳米管场发射性能的影响
- 利用微波化学气相沉积方法在洁净的不锈钢衬底上制备碳纳米管薄膜。为改善碳纳米管薄膜的场发射性能,采用直径为20μm 的金刚砂对衬底进行机械研磨30 min,而后用相同的沉积条件,分别在未处理的不锈钢衬底和研磨后的不锈钢衬底...
- 张新月姚宁张兵临
- 文献传递
- ZnO荧光薄膜的制备及特性研究被引量：2
- 2003年
- 采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜 .通过X射线衍射 (XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析 ,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光 (PL)特性进行了研究 .退火前后的发光峰分别位于光谱绿区 4 99 2nm和 5 17 8nm处 .退火处理明显提高了绿光强度 。
- 边超张兰姚宁张兵临
- 关键词：荧光材料光致发光特性红移
- ZnS薄膜脉冲激光沉积及其发光特性被引量：11
- 2004年
- 综述了ZnS的发光机制 ,脉冲激光沉积 (PLD)制备薄膜的原理、特点 ,分析了在用PLD制备ZnS过程中各主要沉积条件对成膜质量的影响 ,展望了ZnS薄膜的应用前景。
- 纠智先张兵临姚宁
- 关键词：脉冲激光沉积ZNS薄膜等离子体纳米材料
