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钟涛

作品数:19 被引量:48H指数:3
供职机构:电子科技大学更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术天文地球理学更多>>

文献类型

  • 7篇专利
  • 5篇学位论文
  • 4篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 12篇电子电信
  • 4篇自动化与计算...
  • 1篇天文地球
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 5篇电路
  • 5篇集成电路
  • 4篇介质层
  • 3篇导电类型
  • 3篇重掺杂
  • 3篇功耗
  • 2篇低功耗
  • 2篇淀积
  • 2篇多层结构
  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇硬件
  • 2篇元胞
  • 2篇外延层
  • 2篇微控制器
  • 2篇介质
  • 2篇控制器
  • 2篇寄生
  • 2篇计算机
  • 2篇交叠

机构

  • 19篇电子科技大学

作者

  • 19篇钟涛
  • 6篇乔明
  • 6篇张波
  • 6篇王豪才
  • 5篇方冬
  • 2篇阙肖峰
  • 2篇孙天亮
  • 1篇胡俊
  • 1篇周正伟

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 2篇微电子学
  • 2篇2002年全...

年份

  • 1篇2024
  • 4篇2023
  • 2篇2022
  • 4篇2021
  • 1篇2013
  • 5篇2002
  • 1篇2000
  • 1篇1999
19 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
抗电磁辐射的塑胶激光雷达外罩
本发明公开了抗电磁辐射的塑胶激光雷达外罩,涉及激光雷达技术领域。包括一体注塑成型的下端开口的罩体,罩体包括顶部的屏蔽隔光区、中部的红外透光区及底部的安装密封区;罩体在屏蔽隔光区的内表面设有螺孔与屏蔽片,屏蔽片设有贯穿屏蔽...
阙肖峰杨允王家兴钟涛
CMOS集成电路的功耗优化和低功耗设计技术被引量:38
2000年
总结了当前已发展出的各个层次的 CMOS低功耗设计技术和低功耗设计方法学的研究进展。重点介绍了时序电路的优化、异步设计、高层次电路设计和优化技术。
钟涛王豪才
关键词:CMOS功耗优化集成电路低功耗设计
井周超声成像测井仪检测系统设计和实现
超声成像测井是测井技术中的一个重要发展方向,具有成像分辨率高、反映井壁信息多等特点。在井周超声成像测井仪的仪器电路研制过程中,会有功能验证、硬件检测、软件维护和仪器保养方面的问题,因此提出了井周超声成像测井仪检测系统的设...
钟涛
关键词:硬件电路功能模块
高单元密度低压槽栅MOS器件的研究与设计
槽栅MOSFET作为功率MOSFET中的典型代表器件,具有功率密度大、开关速度快、驱动损耗低等优点,常用作高速开关完成各种电能形式的相互变换。高转换效率要求器件具有较低的损耗,同时在芯片小型化的发展趋势下,减小器件尺寸、...
钟涛
关键词:低损耗
基于广义薄片传输条件的天线-超表面设计方法研究
超材料是由亚波长尺寸的结构单元以特殊排布方式构成的人工复合材料,是探究电磁波与物质的相互作用的重要载体。相比于传统三维体结构超材料,二维形式的超表面具有超薄、易加工等特点,得到了广泛关注和研究。但目前还面临着一些技术上的...
钟涛
关键词:天线辐射场远场方向图
基于三层阻抗片模型的超表面结构设计方法
超表面综合设计过程可以采用阻抗片模型对超表面进行等效。本文提出了一种基于广义薄片传输条件的三层阻抗片模型设计方法,给出了设计过程中的等效传输线模型及计算公式。根据理论模型和需要实现的目标场方向图计算了每一层阻抗片的值,最...
钟涛阙肖峰车光凤胡俊
校园会议管理系统的设计与实现
随着计算机和网络技术的飞速发展,建立高等院校信息管理系统已经是建设现代化高校的必不可少的条件。在高校中各种行政会议、学术交流随着教学和科研的的发展也变得越来越来频繁,建立一套基于计算机和网络的校园会议管理系统已显得很有必...
钟涛
关键词:数据库程序设计B/S模式
具有栅间介质区的分离栅MOS器件及制造方法
本发明提供一种具有栅间介质区的分离栅MOS器件及其制造方法,包括:第一导电类型衬底、第一导电类型第一外延层、第一导电类型第二外延层、第一导电类型第三外延层、第二导电类型阱区、第二导电类型重掺杂区、第一导电类型重掺杂区、第...
乔明钟涛方冬张泽奇刘文良张波
一种低功耗的Muller-C元件设计
Muller-C元件是异步电路的基本构成元件.本文在CMOS工艺下实现了静态和半静态的Muller-C元件.改进了Muller-C元件的弱反馈实现.HSPICE仿真验证了新元件结构具有正确的功能,结构简单,具有低功耗低输...
钟涛王豪才
关键词:异步电路集成电路
文献传递
一种沟槽分离栅器件的制造方法
本发明提供一种沟槽分离栅器件的制造方法,包括如下步骤:(1)刻蚀半导体衬底形成沟槽;(2)于所述沟槽内形成分离栅介质层;分离栅介质层由至少一层介质层构成;(3)于所述沟槽内淀积多晶硅形成分离栅;(4)在所述分离栅上形成隔...
乔明钟涛方冬王正康张波
文献传递
共2页<12>
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