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范乐

作品数:38 被引量:69H指数:5
供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金中国科学院科研装备研制项目更多>>
相关领域:一般工业技术核科学技术电子电信理学更多>>

文献类型

  • 27篇期刊文章
  • 6篇会议论文
  • 5篇专利

领域

  • 15篇核科学技术
  • 15篇一般工业技术
  • 9篇电子电信
  • 6篇理学
  • 3篇金属学及工艺

主题

  • 11篇溅射
  • 9篇加速器
  • 7篇镀TI
  • 7篇不锈
  • 7篇不锈钢
  • 7篇超高真空
  • 7篇磁控
  • 7篇磁控溅射
  • 6篇吸气剂
  • 6篇TIN膜
  • 5篇真空管道
  • 5篇直流磁控
  • 5篇直流磁控溅射
  • 5篇粒子加速器
  • 5篇非蒸散型吸气...
  • 4篇衍射
  • 4篇衍射极限
  • 4篇光源
  • 4篇二次电子
  • 4篇法兰

机构

  • 38篇中国科学技术...
  • 2篇安徽大学

作者

  • 38篇范乐
  • 34篇王勇
  • 30篇尉伟
  • 20篇王建平
  • 20篇洪远志
  • 12篇张波
  • 12篇张耀锋
  • 10篇裴香涛
  • 6篇张玉方
  • 6篇刘祖平
  • 5篇李为民
  • 4篇管长应
  • 4篇蒋道满
  • 3篇朱存宝
  • 3篇耿会平
  • 3篇张善才
  • 3篇王洁
  • 2篇赵飞云
  • 2篇徐延辉
  • 2篇张宇心

传媒

  • 10篇真空科学与技...
  • 6篇真空
  • 5篇强激光与粒子...
  • 2篇中国科学技术...
  • 2篇Chines...
  • 1篇核技术
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇TFC‘20...

年份

  • 2篇2023
  • 6篇2022
  • 3篇2021
  • 1篇2018
  • 1篇2016
  • 3篇2014
  • 2篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 4篇2008
  • 6篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2003
38 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
真空管道自体溅射镀TiN膜研究
本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置。首先提出真空管道自体真空镀膜新概念,采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。在真空管道内壁获得了均匀的、高品质的TiN膜层,...
王勇尉伟张耀锋王建平范乐赵飞云
关键词:TIN膜辉光放电
文献传递
激活后的NEG薄膜在氖气保护下的应用研究
2023年
NEG薄膜目前已成为新一代同步辐射光源储存环真空室表面处理的主要手段,HALF光源拟采用镀Ti-Zr-V NEG薄膜的方式以满足储存环真空度的设计要求。在一些情况下,需要打开真空室以更换某些故障件或安装插入件等,这将使NEG薄膜暴露大气,严重损伤薄膜的吸气性能及使用寿命,此外也需要数周时间使真空度恢复到原有水平。因此采取向真空室充入Ne气的方法能在一定程度上保护激活后的NEG薄膜,从而避免再次激活薄膜以延长使用寿命和节省时间,另外进行了充入N_(2)的对比实验。结果表明,充入Ne气后,真空度恢复后能满足静态真空度的要求,无需激活,从而延长NEG薄膜的使用寿命并且节省时间。而充入N_(2)后,真空度恢复后达不到静态真空度的要求。但通过低温激活,NEG薄膜均能恢复一定活性并达到静态真空度要求。相对于N_(2),在Ne气保护作用下真空度恢复的更好。通过对残余气体的分析,发现低温激活前后Ne的含量均极低,对束流的稳定性不会产生影响,进一步证明了充入Ne气的可行性。
徐晓鹏马文静尉健亚葛晓琴范乐洪远志夏小维黄涛王思慧
关键词:HALF超高真空
合肥同步辐射光源直线加速器真空系统被引量:1
2014年
国家同步辐射实验室的合肥光源为了适应科学研究的发展,自2009年开始进行重大维修改造项目。新的合肥光源注入器要求工作在800 MeV,为满足注入器的性能提升,直线加速器的真空系统进行了重新设计及安装调试,指标达到设计要求,目前运行状态良好,为合肥光源的满能量模式调试提供必要的技术支持。
尉伟洪远志范乐张波裴香涛胡飞王勇
关键词:同步辐射光源直线加速器真空系统
直流磁控溅射法在管道内壁镀TiZrV薄膜被引量:8
2010年
用氩气作为放电气体,采用直流磁控溅射法,成功地在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。分别利用能量弥散X射线谱和X射线光电子能谱测量薄膜的成分组成,应用扫描电子显微镜和X射线衍射仪对薄膜进行了测试,并对TiZrV的二次电子产额进行了测量。测试结果表明:TiZrV的成分基本保持在Ti原子分数为30%,Zr原子分数为30%,V原子分数为40%左右,位于"低激活温度区"内;薄膜具有无定形的结构,由微小的纳米晶粒组成;加热激活后TiZrV的二次电子产额有所下降,其峰值由2.03降到1.55,低于不锈钢和无氧铜。
张波王勇尉伟范乐王建平张玉方李为民
关键词:非蒸散型吸气剂直流磁控溅射粒子加速器
TiZrV吸气剂薄膜的性能研究
采用独立设计组装的磁控溅射装置完成了对不锈钢管道的镀TiZrV薄膜处理。对TiZrV薄膜的相关性能包括二次电子产额(SEY)、光致解吸(PSD)产额和吸气性能进行了研究。在200℃下加热2h后TiZrV的SEY有所下降,...
张波王勇尉伟范乐裴香涛洪远志王建平张玉方李为民
关键词:不锈钢管道直流磁控溅射吸气剂性能表征
文献传递
用于管道内壁面的溅射镀膜装置
本实用新型涉及真空溅射镀膜技术,具体涉及一种用于管道内壁进行镀膜的装置。它包括现有溅射镀膜中使用的与涡轮分子泵排气机组及反应气体流量控制系统连通的进气辅助真空室、与真空度测量控制系统及膜厚测量控制系统连通的辅助真空室、高...
王勇尉伟张耀锋范乐王建平
文献传递
加速器真空室常用材料二次电子产额的测量被引量:2
2008年
通过电子枪的优化设计、测量电路的设计以及测量方法的选择,成功设计了一种加速器真空室常用材料二次电子产额的测量装置。用此系统测量了原电子能量在0~3 keV时不锈钢、无氧铜、TiN膜等材料的二次电子产额,某些相同材料的测量结果与国内外资料相近似。实验结果可为新一代加速器真空室的设计以参考,对于国内在此领域的深入研究有一定的借鉴意义。
朱存宝张耀峰尉伟王建平范乐张波王勇
关键词:电子枪优化设计
TiZrV吸气剂薄膜的性能研究被引量:2
2012年
采用独立设计组装的磁控溅射装置完成了对不锈钢管道的镀TiZrV薄膜处理。对TiZrV薄膜的相关性能包括二次电子产额(SEY)、光致解吸(PSD)产额和吸气性能进行了研究。在200℃下加热2h后TiZrV的SEY有所下降,峰值由2.03降到1.55。不锈钢真空室在镀TiZrV薄膜处理后其PSD效应显著降低,在200℃下加热24h后,各气体的PSD产额与初始值相比可降低两个量级左右。TiZrV薄膜对CO和H2有较好的吸气效果,相同激活条件下对CO的抽速比H2高一个量级,吸气容量则较之低两个量级;另外,随着加热温度的提高和时间的延长,其吸气能力会有所提高。
张波王勇尉伟范乐裴香涛洪远志王建平张玉方李为民
关键词:直流磁控溅射吸气性能
不锈钢材料及TiN镀膜处理后PSD测试实验研究
PSD性能是评价电子储存环真空室材料及材料表面处理优劣的一个重要指标。对一约1.5m长不锈钢管道真空室进行了镀TiN薄膜处理,并在合肥光源机器研究用光束线(MSB)的PSD实验站上对该真空室在镀TiN薄膜处理前后分别进行...
张耀锋王勇尉伟王建平范乐管长应刘祖平
关键词:不锈钢表面处理电子储存环真空室
真空室材料二次电子产额特性研究
设计了针对加速器真空室材料样品的二次电子产额测试装置。对测试装置的设计及测试过程进行了详细介绍,并给出了常见真空室材料的二次电子产额测试结果以及不锈钢材料在经过镀TiN薄膜处理前后的测试对比结果,分析了影响二次电子产额的...
张耀锋王勇尉伟王建平范乐管长应刘祖平
关键词:电子云真空室镀膜加速器
共4页<1234>
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