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杨艳芹
作品数:
2
被引量:1
H指数:1
供职机构:
武汉科技学院电子信息工程学院
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
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合作作者
王水兵
武汉科技学院电子信息工程学院
李颂战
武汉科技学院电子信息工程学院
刘文琮
武汉科技学院电子信息工程学院
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BST薄膜
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湖北大学
作者
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杨艳芹
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刘文琮
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李颂战
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王水兵
传媒
1篇
功能材料
年份
2篇
2007
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2
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溅射工艺对BST薄膜取向行为的影响
被引量:1
2007年
采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上沉积了Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜。借助XRD、AFM和SEM研究了衬底温度、退火温度、溅射气压等不同的溅射参数对Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜的晶化行为和显微结构的影响。在室温下沉积并未经退火处理的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜是无定形态,在较高温度下沉积的薄膜晶化相对较好;随着在氧气气氛中退火温度的升高,X射线衍射峰的半峰宽变窄,衍射峰强度增强;在0.37~1.2Pa气压下沉积的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜有(110)和(200)主衍射峰,且其强度随溅射气压的增加而增强;当溅射气压继续升到3.9Pa,(110)和(200)衍射峰明显增强,说明Ba0.65Sro.35Ti03薄膜具有(110)+(200)择优取向。AFM和SEM结果显示薄膜晶粒细小均匀、结构致密、表面平整,且无裂纹、无孔洞。分析结果显示优化工艺参数制备的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜是用以制备非致冷红外探测器的优质材料。
李颂战
杨艳芹
王水兵
刘文琮
关键词:
BST薄膜
晶化
The preparation and Refractive Index of Nano BST Thin Films
Radio frequency magnetron sputtering technique is used to deposit Ba0.65Sr0.35TiO3 (BST) thin films on fused q...
杨艳芹
刘文琮
李颂战
祁亚军
章天金
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