李鹏
- 作品数：8 被引量：16H指数：1
- 供职机构：天津师范大学物理与电子信息学院更多>>
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- 相关领域：理学一般工业技术电子电信机械工程更多>>
- 磁控溅射AlN薄膜的光学性能研究
- 利用磁控溅射方法在不同的沉积条件下制备了AlN薄膜样品,所采用的基体为K9光学抛光玻璃。用XRD测试和分析了薄膜的物相及结晶状态,AFM观测了薄膜表面的形貌和粗糙度。由于AlN薄膜透明且绝缘性能好、对可见光的吸收小,是一...
- 吉亚萍黄美东李鹏张琳琳
- 文献传递
- 基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响
- 采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜，研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明，用此方法获得的AlN薄膜是晶态的，温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高，薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光...
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：氮化铝薄膜基底温度
- 磁控溅射TiN的色泽研究
- 用反应直流溅射方法，在抛光后的W18Cr4V高速钢基体的表面上制备TiN膜层。利用SEM对薄膜表面形貌进行了观测，通过色度计研究了氮气流量、偏压对TiN薄膜色泽的影响。结果表明，偏压和氮气流量对TiN色泽都有影响，而后者...
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射色泽
- 文献传递
- 负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响
- 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜，在其他参数不变的情况下，着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明，随着负偏压的增加，沉积速率不断增加，但在一定的负偏压达到最大值后，沉积速率又随偏压增大而减小...
- 佟莉娜黄美东李鹏张琳琳王丽格
- 关键词：多弧离子镀TIN薄膜沉积速率
- 溅射沉积TiO_2薄膜结构及性能的基础研究被引量：1
- 2010年
- 采用超高真空反应射频磁控溅射方法,利用高纯Ti靶在光学玻璃基底上制备具有一定厚度的TiO2薄膜样品.通过扫描探针显微镜对其表面形貌进行观测和分析,利用XRD初步探讨了退火对薄膜结构及其透射率的影响,并研究了不同O2/Ar流量比对薄膜沉积速率的影响.
- 吉亚萍张琳琳李鹏侯兴刚黄美东
- 关键词：磁控溅射TIO2薄膜退火
- 磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较被引量：14
- 2011年
- 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜.
- 李鹏黄美东佟莉娜张琳琳王丽格李晓娜
- 关键词：TIN磁控溅射电弧离子镀
- 负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响被引量：1
- 2011年
- 利用反应磁控溅射制备AlN薄膜,研究了基底负偏压对薄膜结构及其性能的影响.XRD和SEM结果表明:用此方法获得的AlN薄膜呈晶态,负偏压对AlN择优取向产生一定的影响,随着偏压的增大,薄膜表面晶粒尺寸有长大趋势.根据透射谱测试和包络线计算结果可知,薄膜在可见光和红外区域透射率高,随着偏压的增大,薄膜的折射率也随之增大.
- 张琳琳黄美东李鹏王丽格佟莉娜
- 关键词：ALN薄膜
- 磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能
- 在常温下，采用反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜，采用XRD，光栅光谱仪、椭偏仪对样品进行测试，拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数。结果表明氧化钛纳米薄膜呈非晶态，在可见光波段吸收小、是透明的，是...
- 王丽格黄美东张琳琳李鹏佟莉娜
- 关键词：氧化钛薄膜磁控溅射透射谱折射率
