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刘静
作品数:
1
被引量:7
H指数:1
供职机构:
中国建材科学研究院
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相关领域:
理学
一般工业技术
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合作作者
周静
武汉理工大学
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周静
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刘静
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武汉理工大学...
年份
1篇
2001
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X射线分析温度对ITO膜结构与电性能的影响
被引量:7
2001年
在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀 ITO透明导电膜 ,采用 X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况 ,测量了样品的方块电阻、电阻率、霍尔迁移率、载流子浓度等电学性能和膜层的可见光透过率。基片温度为 180℃时 ,ITO膜 (2 2 2 )衍射峰很强 ,具有 [111]方向择优取向 ,随基片温度升高 ,(4 0 0 )、(4 40 )衍射峰增强 ,晶面随机取向增加 ,同时晶粒变大。
周静
刘静
关键词:
ITO膜
X射线分析
温度
电性能
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