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刘静

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：中国建材科学研究院更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电性能
  • 1篇温度
  • 1篇膜结构
  • 1篇X射线分析
  • 1篇ITO
  • 1篇ITO膜

机构

  • 1篇武汉理工大学
  • 1篇中国建材科学...

作者

  • 1篇周静
  • 1篇刘静

传媒

  • 1篇武汉理工大学...

年份

  • 1篇2001
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
X射线分析温度对ITO膜结构与电性能的影响被引量：7
2001年
在不同温度基片上采用阴极磁控溅射法在玻璃上镀 ITO透明导电膜 ,采用 X射线衍射技术分析样品的结构随温度的变化情况 ,测量了样品的方块电阻、电阻率、霍尔迁移率、载流子浓度等电学性能和膜层的可见光透过率。基片温度为 180℃时 ,ITO膜 (2 2 2 )衍射峰很强 ,具有 [111]方向择优取向 ,随基片温度升高 ,(4 0 0 )、(4 40 )衍射峰增强 ,晶面随机取向增加 ,同时晶粒变大。
周静刘静
关键词：ITO膜X射线分析温度电性能
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