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冯伯儒
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109
被引量:225
H指数:9
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中国科学院光电技术研究所
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侯德胜
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1989
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1987
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激光在微电子器件制造中的应用
被引量:3
1991年
本文比较系统地介绍了激光在半导体微电子器件制造中的应用。对准分子激光器与光刻技术、激光图形发生,全息掩模与硅片检测、掩模缺陷激光修补与激光化学气相沉积,以及其它方面的一些激光应用作了比较详细的叙述。
冯伯儒
关键词:
半导体器件
激光
激光器
光刻
深紫外光刻技术的发展
冯伯儒
姚汉民
关键词:
X射线光刻
集成电路器件
微光刻技术的发展
被引量:29
2000年
阐述了光刻技术的发展及其分辨极限 ,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述。
冯伯儒
张锦
侯德胜
陈芬
关键词:
微光刻技术
准分子激光光刻
集成电路
微细图形光刻计算机模拟软件
1998年
本文介绍了新近开发成功的BEHAVE软件。该软件具有良好的交互式界面,全面高效的计算模拟功能,是研究探讨微细图形光刻中的驻波效应以及整个微细图形光刻工艺计算模拟的强有力工具。
范建兴
冯伯儒
张锦
陈芬
崔铮
关键词:
计算机模拟
光刻技术
一种新型光刻系统的研究
被引量:1
2001年
介绍了一种新型的光刻系统-全内反射全息光刻系统。着重讨论了设计该系统时的几个重要因素,给出了用该系统开展的实验研究结果。
陈芬
刘立军
彭宗举
冯伯儒
张锦
关键词:
全息光刻
光刻系统
无铬相移掩模光刻技术
被引量:5
1996年
本文论述了相移掩模(PSM)提高光刻分辨率的基本原理、主要类型、无铬 PSM 的制作方法,简述了曝光实验和实验结果.用 NA=0.28的 g 线光刻机得到了0.5μm的实际分辨率.
冯伯儒
陈宝钦
关键词:
无铬
光刻技术
大规模集成电路
投影光刻技术的计算机模拟研究
被引量:5
1996年
投影光刻技术的计算机模拟分为三部分:空间像强度分布计算,曝光计算和显影计算。本文分别讨论了各部分数学模型的建立,计算方法及特点,并给出了一些研究结果。
范建兴
冯伯儒
张锦
周崇喜
关键词:
投影光刻
计算机模拟
光刻技术
用银盐干板的多重图像全息存贮
被引量:1
1987年
本文叙述用银盐全息干板记录多重全息光栅和图像的方法、实验系统和装置,给出了实验结果,并与硫砷玻璃多重图像存贮作了比较。
侯德胜
冯伯儒
关键词:
全息干板
全息存贮
银盐
全息光栅
双反射面形成光驻波场的研究
被引量:1
2001年
分析了镜面的反射系数与光驻波场的关系 ,详细讨论了影响双反射面形成的驻波场的各种因素 ,并对TE波和TM波驻波场的光强分布进行了模拟和比较 ,最后得到了一些对实验有指导意义的结论。
陈献忠
陈元培
姚汉民
冯伯儒
李展
关键词:
反射系数
计算机模拟
反射面
一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统
一种采用光栅组合的成像干涉光刻方法及其光刻系统,其特征是使用由一个水平光栅和一个垂直光栅组成的光栅组合和转动光阑相配合,为成像干涉光刻系统中的掩模提供Y方向倾斜照明和X方向倾斜照明,使传统成像干涉光刻在三次曝光之间需调整...
张锦
冯伯儒
刘娟
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