您的位置： 专家智库 > 作者详情>龚恩乐

龚恩乐

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

题名
作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇碳氮薄膜
  • 2篇硼碳氮薄膜
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射法制备
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇生长速率
  • 1篇结晶度
  • 1篇工作气压
  • 1篇磁控溅射法

机构

  • 2篇哈尔滨工业大...

作者

  • 2篇龚恩乐
  • 1篇方之颢
  • 1篇刘镒
  • 1篇于杰

传媒

  • 1篇世界科技研究...

年份

  • 2篇2008
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
相关度排序
工作气压对磁控溅射法制备硼碳氮薄膜结晶度的影响(英文)
2008年
本文用六方氮化硼和石墨靶材采用射频(频率为13.56 MHz)磁控溅射法沉积硼碳氮薄膜,得到的硼碳氮薄膜可用红外,拉曼表征。工作气压从0.2 Pa升高到6.0 Pa。我们可以观察到工作气压可以明显的改变硼碳氮薄膜的晶体结构和结晶度。硼碳氮薄膜的半高宽随工作气压的增加而变化并且在工作气压1.0 Pa时得到较好结晶度的薄膜。
龚恩乐刘镒方之颢于杰
关键词：硼碳氮薄膜射频磁控溅射工作气压结晶度
硼碳氮薄膜的磁控溅射法制备及其结构研究
本论文的主要工作是采用射频磁控溅射制备硼碳氮(BCN)薄膜，研究了各实验参数对硼碳氮薄膜的生长行为和结构的影响，对硼碳氮薄膜制备工艺进行了系统的、深入的研究。采用磁控溅射方法，以六方氮化硼和石墨为靶材，以氩气和氮气为工作...
龚恩乐
关键词：硼碳氮薄膜磁控溅射法生长速率
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0