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黄润兰

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院大连化学物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程化学工程电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇超光滑
  • 2篇面粗糙度
  • 2篇SIC材料
  • 2篇表面粗糙度
  • 2篇超光滑表面
  • 2篇粗糙度
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇气相沉积
  • 1篇化学反应
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光化学
  • 1篇光化学反应
  • 1篇光学
  • 1篇光学加工
  • 1篇硅镜
  • 1篇测定仪
  • 1篇大尺寸

机构

  • 4篇中国科学院
  • 2篇中南大学
  • 1篇大连理工大学

作者

  • 4篇黄润兰
  • 2篇肖鹏
  • 2篇李刚
  • 2篇公发全
  • 2篇刘万发
  • 1篇史晓波
  • 1篇董闯
  • 1篇戚奎华
  • 1篇焦彤
  • 1篇田长荣
  • 1篇韩圣安
  • 1篇桑凤亭
  • 1篇赵成文
  • 1篇鞠玉玫
  • 1篇顾长立
  • 1篇孙龙

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇分析仪器
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2000
  • 1篇1991
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
大尺寸硅镜超光滑表面加工的面型控制
2000年
使用机械 -化学抛光法加工大尺寸单晶硅可获超光滑表面 ,但很难保证良好的面型。提出通过采用开圆孔并连续注入抛光剂的方法来避免抛光盘中心蜂窝眼的出现 ,可以保证得到良好的面型。最后实验达到较好的面型精度 ,PV值 0 .2 68λ,rms值 0 .0 65λ。
焦彤孙龙黄润兰鞠玉玫韩圣安桑凤亭
关键词:超光滑单晶硅表面粗糙度
SiC材料超光滑表面纳米加工
SiC材料是近二三十年间发展起来的新型光学加工材料,它具有高杨氏模量(270-310Gpa)、较高导热率(172W/(m·℃))、耐热冲击性、高的比刚度、机械能各项同性等一系列优良的物理性质, 受到越来越多的重视。采用S...
公发全肖鹏黄润兰李刚刘万发
文献传递
化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工被引量:2
2007年
利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光,表面粗糙度达到0.6 nm(RMS),表面纳米级划痕得到很好改善,获得了较高表面质量的超光滑表面。
公发全肖鹏黄润兰李刚刘万发董闯
关键词:化学气相沉积SIC材料光学加工超光滑表面表面粗糙度
量子收率测定仪
1991年
本文报导用于光化学反应研究的量子收率测定仪.该仪器主要由200瓦氙灯光源和带恒温夹套的石英反应器等十几个部件构成.核心部件光反应器的两个窗口和反应器壁烧结成为一个整体,可耐强酸、强碱和各种溶剂.采用草酸铁钾化学光度计测量单色光强度,可达2~8×10^(-8)爱因斯坦/秒,相对误差为±3%;测量催化光还原水产氢体系的量子收率,相对误差为±10%,在可比条件下与文献结果一致.
赵成文戚奎华黄润兰史晓波田长荣顾长立
关键词:测定仪光化学反应
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