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磁控溅射TiAlVN薄膜中V含量对其结构和抗腐蚀性能的影响被引量：11: 2011年; 向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能。采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌,用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能。结果表明:TiAlVN薄膜属于面心立方(fcc)和六方密排(hcp)二重结构,晶格常量比TiAlN薄膜小,晶粒尺寸比TiAlN薄膜大,含V10.20%的TiAlVN薄膜质量相对较好;TiAlVN薄膜的腐蚀电流明显小于TiAlN薄膜,抗腐蚀性能增强,含V 10.20%的TiAlVN薄膜的抗腐蚀性能约为TiAlN薄膜的4倍。; 宋庆功辛慧; 关键词：磁控溅射 TIALN薄膜抗腐蚀性能

TiAlN基薄膜抗腐蚀性能的研究进展与展望被引量：3: 2010年; 本文叙述了TiAlN薄膜的腐蚀机制,介绍了多层化及添加其它元素可获得具有更好抗腐蚀性能的薄膜材料,综述了这些薄膜抗腐蚀性能的研究进展。并对今后的研究方向做出了展望。; 辛慧宋庆功; 关键词：TIALN薄膜多层膜

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辛慧