赵培
- 作品数：12 被引量：14H指数：3
- 供职机构：中国科学院上海技术物理研究所更多>>
- 发文基金：“上海－应用材料研究与发展”基金江苏省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程农业科学一般工业技术更多>>
- 退火处理对ITO和ITO：Zr薄膜性能的影响被引量：3
- 2008年
- 利用磁控溅射在室温条件下沉积ITO薄膜和ITO:Zr薄膜,对比研究在空气中退火处理对ITO和ITO:Zr薄膜性能的影响。结果表明,Zr的掺杂促进了(400)晶面的取向,随着退火温度的升高,薄膜表面颗粒增大,表面粗糙度有所降低。室温下Zr的掺杂显著改善了薄膜的光电性能,随着退火温度的升高,ITO和ITO:Zr薄膜的方阻都表现为先降后升的趋势,ITO:Zr薄膜在较低的退火温度下可见光透过率就可达到80%以上,直接跃迁模型确定的光学禁带宽度Eg呈现了先升后降的变化。ITO:Zr薄膜比ITO薄膜显示了更高的效益指数,揭示了ITO:Zr薄膜具有更好的光电性能。
- 张波董显平徐晓峰赵培吴建生
- 关键词：ITO薄膜磁控溅射退火处理光电性能
- 共溅射法制备ITO：Zr薄膜及其特性研究被引量：3
- 2008年
- 采用ITO靶和Zr靶共溅射在玻璃衬底上沉积了ITO∶Zr薄膜,研究了衬底温度、氧流量对ITO∶Zr薄膜性能的影响。表征和对比了ITO∶Zr薄膜晶体结构和表面粗糙度的变化。ITO∶Zr薄膜在低温生长时就可以得到良好的光电性能,衬底温度的提高显著改善了薄膜的光电性能;一定范围的氧流量也可以改善薄膜的性能,但过量的氧却使得ITO∶Zr薄膜的光电性能变差。透射谱表明各参数的变化引起了明显的"Burstin-Moss"效应。当优化溅射条件为工作气压0.5Pa、氧流量0.3sccm、直流溅射功率45W(ITO靶)和射频功率10W(Zr靶)、沉积速率8nm/min和一定的衬底温度时,可以获得方阻10～20Ω/sq和可见光透过率85%(含基底)以上的ITO:Zr薄膜。
- 张波董显平徐晓峰赵培吴建生
- 关键词：ITO薄膜磁控溅射衬底温度氧流量
- 溅射条件对ZnS薄膜的光学常量和微结构的影响被引量：2
- 2008年
- 为了研究制备条件对射频溅射ZnS薄膜光学常量和微结构的影响,在浮法玻璃上制备了不同溅射气压、溅射功率和溅射温度的ZnS薄膜,利用紫外可见近红外分光光度计在300～2500nm的波长范围内测量了薄膜的透射和反射光谱,并通过光谱拟和计算出ZnS薄膜的光学常量以及禁带宽度.通过X射线衍射分析了薄膜的微结构随溅射温度的改变.研究结果表明,随着制备条件的不同,ZnS薄膜的光学常量和微结构会发生变化.
- 赵培刘定权徐晓峰张凤山
- 关键词：射频溅射ZNS微结构
- ZnS薄膜的粗糙度对于Ag膜性质的影响
- 电介质-金属-电介质(DMD)多层薄膜具有红外高反、可见高透及导电的特点,在宽光谱分色、太阳能应用、热反镜以及电磁屏蔽等领域有着广泛的应用。在所有的金属材料中,Ag在可见区有最小的吸收,所以是制备高性能DMD多层薄膜的理...
- 赵培刘定权徐晓峰张凤山
- 关键词：射频溅射光学常数表面电阻
- 文献传递
- 锌镉碲单晶的生长和退火方法以及退火专用坩埚
- 本发明公开了一种锌镉碲单晶的生长和退火方法以及退火专用坩埚，该方法是利用三元固熔体Zn<Sub>1-x</Sub>Cd<Sub>x</Sub>Te相图的规律，通过采用富碲溶剂的方法实现在较低温度下形成Zn<Sub>1-x...
- 王仍方维政赵培张雷袁诗鑫张惠尔胡淑红戴宁
- 文献传递
- 作物种子等离子体激活装备关键技术及示范应用研究
- 2021年
- 针对传统农垦作物种子处理技术的不足,利用等离子体辉光放电产生真空紫外激活种子的活力,提高种子抗逆性和作物产量。对比研究了国内外等离子体种子激活装备放电关键技术,开发等离子体激活自动化生产线,实现农垦类种子等离子体激活处理的连续化生产,探讨了农垦类种子等离子体激活生产工艺和示范基地应用研究。研究表明:激活处理效果重复性好,产量和酶的活性提高,收获期提前,处理速度快,生产效率高,农垦类作物种子等离子体激活生产线及其生产工艺为种子激活智能处理提供了较好的范式。
- 张波王良邵汉良赵培
- 关键词：等离子体作物种子
- 一种可见/红外宽光谱分色片的膜系结构
- 本发明公开了一种可见/红外宽光谱分色片的膜系结构。该膜系结构以介质－金属－介质(DMD)结构为基础，通过在外侧增加匹配层的方法增加通带的宽度。首先根据中远红外的反射率要求选择Ag层的厚度。再根据通带中心的位置选择两侧相邻...
- 赵培刘定权王仍张凤山
- 文献传递
- 一种新型透明导电氧化物薄膜—ITO∶Ta被引量：5
- 2010年
- 利用磁控溅射,在玻璃基底上沉积了ITO∶Ta薄膜。研究了在不同衬底温度下ITO和ITO∶Ta薄膜的光电性能。高价金属元素Ta掺杂促进薄膜晶化的同时,导致了(400)晶面择优取向的形成。低温沉积的ITO∶Ta薄膜比ITO薄膜展示了较好的光电性能,Ta掺杂使得室温沉积ITO薄膜的效益指数分别由0.003×10-3Ω-1上升到了0.880×10-3Ω-1。透射谱表明,参数的变化引起明显的Burstin-Moss效应,通过直接跃迁的模型研究了光学禁带的变化。
- 张波于波徐晓峰赵培
- 关键词：磁控溅射衬底温度
- 锌镉碲单晶的生长和退火方法以及退火专用坩埚
- 本发明公开了一种锌镉碲单晶的生长和退火方法以及退火专用坩埚，该方法是利用三元固熔体Zn<Sub>1－x</Sub>Cd<Sub>x</Sub>Te相图的规律，通过采用富碲溶剂的方法实现在较低温度下形成Zn<Sub>1－x...
- 王仍方维政赵培张雷袁诗鑫张惠尔胡淑红戴宁
- 文献传递
- 超薄Ag膜特性和宽光谱分色片研究
- 介质/金属/介质型宽光谱分色片具有透射可见近红外波段、反射中远红外波段的性质，被广泛应用在航空航天多光谱遥感仪器中。由于超薄Ag膜具有优良的性质，所以超薄Ag膜是制备宽光谱分色片的首选材料。
本论文详细研究了超薄A...
- 赵培
- 关键词：光学性质
