- 微细制版中的干法刻蚀技术研究
- 1991年
- 本文简述了干法刻蚀在微细制版,特别是电子束制版中的重要性,较详尽地介绍了本研究所用的实验装置,刻触原理,工艺参数选择,实验结果及应用情况,并给出了一些典型的图表数据。
- 江泽流
- 关键词：微细加工干法刻蚀制板
- 电子束直写直栅和T形栅工艺技术应用被引量：1
- 2002年
- 介绍了用电子束直写技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅和T形栅的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用。
- 刘玉贵王维军罗四维江泽流
- 关键词：电子束曝光技术GAAS器件
- 亚半微米铬掩模版制作技术研究
- 介绍用Leica VB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4″铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术.
- 王维军罗四维江泽流刘玉贵
- 关键词：亚半微米电子束抗蚀剂干法刻蚀
- 文献传递
- 电子束直写直栅和T型栅工艺技术应用
- 介绍用EBL(E-Beam Lithography)技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅条的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用.
- 刘玉贵王维军罗四维江泽流
- 关键词：电子束曝光技术T型栅
- 文献传递
- 提高Spindt型场发射冷阴极阵列发射均匀性的方法
- 1998年
- 本文提出采用栅孔直径整匀法以及改进的纵向高阻Ｓｉ镇流电阻法。
- 张友渝江泽流宗婉华王文喜张大立王民娟
- 关键词：冷阴极
- 喷雾显影技术在亚微米制版中的应用研究
- 1991年
- 阐述了离心式中心喷雾显影工艺技术在精细图形制作中的重要性,实验装置、工作原理、工艺参数选择、实验结果以及在制版中的应用实例。
- 江泽流
- 电子束与光学混合制版技术在GaAs器件研制中的应用
- 介绍用光学设备制作GaAs器件光刻中除栅条掩模版外的其它各层掩模版,而用高分辨率的电子束设备制作线宽不大于0.5um、并能与光学设备制作的各层掩模版精确套刻的栅条掩模版,即电子束与光学混合制版技术.
- 罗四维王维军江泽流刘玉贵
- 关键词：电子束GAAS器件干法刻蚀
- 文献传递
- 电子束与光学混合制版技术在GaAs器件研制中的应用被引量：1
- 2003年
- 介绍了用光学制版设备制作GaAs器件光刻中除栅条掩模版外的其它各层掩模版,用高分辨率电子束制版设备制作线宽≤0.5μm、并能与光学设备制作的各层掩模版精确套刻的栅条掩模版,即电子束与光学混合制版技术。对解决两类制版系统制作的掩模版精确互套的方法、干法刻蚀等工艺过程做了必要的阐述。
- 罗四维王维军江泽流刘玉贵
- 关键词：电子束GAAS器件掩模版干法刻蚀砷化镓
- 微细制版中的干法刻蚀技术研究
- 江泽流吴翠英王育中
- 关键词：光致抗蚀剂干法电子束光刻
- 亚半微米铬掩模版制作技术研究被引量：1
- 2002年
- 介绍了用LeicaVB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4英寸铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术。
- 王维军罗四维江泽流刘玉贵
- 关键词：亚半微米干法刻蚀掩模版
