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林国画

作品数:14 被引量:23H指数:3
供职机构:华北光电技术研究所更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程更多>>

文献类型

  • 11篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 13篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 3篇理学

主题

  • 7篇杜瓦
  • 6篇探测器
  • 6篇红外
  • 4篇冷屏
  • 4篇焦平面
  • 3篇短波
  • 3篇偏振
  • 3篇红外焦平面
  • 2篇杂散
  • 2篇杂散辐射
  • 2篇碲镉汞
  • 2篇滤光片
  • 2篇集成式
  • 2篇焦平面器件
  • 2篇焦平面探测器
  • 2篇光学
  • 2篇红外焦平面器...
  • 2篇红外探测
  • 2篇红外探测器
  • 1篇带通滤光片

机构

  • 14篇华北光电技术...

作者

  • 14篇林国画
  • 5篇张磊
  • 3篇孟令伟
  • 2篇东海杰
  • 1篇诸子玲
  • 1篇张土山
  • 1篇张友
  • 1篇李燕兰
  • 1篇张艳冰
  • 1篇刘明
  • 1篇张薇
  • 1篇徐海涛
  • 1篇唐剑
  • 1篇吴卿
  • 1篇宁提
  • 1篇康键
  • 1篇王冠
  • 1篇徐长彬
  • 1篇孟令超

传媒

  • 7篇激光与红外
  • 2篇红外与激光工...
  • 2篇红外
  • 1篇第十三届全国...
  • 1篇二〇〇六年全...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2022
  • 3篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2013
  • 3篇2006
  • 1篇1998
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
从短波光学系统的初步设计看短波杜瓦的开发
2006年
通过 SWIR 光学系统的设计发现了目前短波杜瓦组件在设计中需改变的设计思路,即短波杜瓦内部可以不设计单独的冷屏,将孔径光阑放在光路中合适的位置即可。
林国画
关键词:冷屏
一种光学集成式杜瓦组件的设计与制备被引量:2
2019年
红外探测器杜瓦集成光学技术通过将光学系统集成在杜瓦组件内部,使之处于恒定的低温环境中,实现光学系统的低温化、无热化和小型化,有效提高红外成像系统的探测精度、灵敏度和对环境温度变化的适应能力。本文通过短焦距、大视场集成光学中测杜瓦组件的研制,获得了杜瓦内集成低温光学系统的设计方法,对于开展杜瓦集成光学技术研究具有一定的参考意义。
张磊林国画康键范博文
关键词:红外探测器杜瓦集成光学
光学元件表面疵病影响杜瓦光学特性的仿真分析被引量:2
2020年
红外探测器光学元件表面疵病、污染可能会降低系统的探测性能。杜瓦中窗片、滤光片表面存在不同程度的麻点、划痕,采用光学仿真软件LightTools计算分析光学元件表面不同疵病等级情况下的光学参数,引入杂散辐射系数和信杂比的概念对杜瓦光学特性进行评估,合理判断光学元件的表面疵病容限。同时仿真分析滤光片位置造成的表面疵病对杜瓦光学特性的影响。结果表明:随着窗片、滤光片表面疵病等级增加,接收像面非均匀性增加、信号强度减弱,且在相同疵病等级情况下,滤光片与芯片距离越近,疵病对杜瓦光学特性影响越大,因此在杜瓦设计时必须严格控制光学元件表面疵病容限,并合理设置滤光片封装位置。
张璐张磊林国画
像素级滤光片的微米级装配工艺研究
2024年
为满足红外探测器多通道精细分光的应用需求,像素级滤光片需精准地集成在红外探测器组件的冷头上,且滤光片X、Y、Z向装配精度需要控制在10μm以内,以降低不同通道间的杂散光干扰。基于320×256@30μm中波红外探测器进行像素级滤光片设计。以探测器上相邻的四个像元为一组,每个像元在像素级滤光片上的对应区域有各自的吸收谱段。通过对比分析胶黏剂和金属滤光片支架分别作为像素级滤光片的支撑结构时的四像元光谱吸收曲线,发现前者的Z向装配间距可低至2~10μm,截止波段外的杂散光吸收较后者可降低25%~50%。结果表明,将胶黏剂作为滤光片的微支撑结构的装配工艺能够有效解决像素级滤光片的杂散光干扰问题。
冯志攀方志浩刘建娇付志凯邢艳蕾刘亚泽林国画王冠
关键词:红外探测器封装工艺
集成式偏振红外焦平面探测器的制备被引量:7
2019年
集成式偏振红外焦平面探测器是红外探测器应用的新的发展方向,国内近几年开展了相关的研究工作,本文围绕集成式长波320×256碲镉汞偏振红外焦平面探测器的研制,叙述了从技术路线选择到偏振结构的设计、制备等方面开展的工作及阶段测试结果,这些工作为后续的研制打下了良好的基础。
林国画张敏孟令伟宁提刘明
关键词:光刻
从短波光学系统的初步设计看短波杜瓦的开发
通过SWIR光学系统的设计发现了目前短波杜瓦组件在设计中需改变的设计思路,即短波杜瓦内部可以不设计单独的冷屏,将孔径光阑放在光路中合适的位置即可。
林国画
关键词:冷屏
文献传递
冷屏黑层抑制杂散辐射分析研究被引量:3
2013年
通过对冷屏抑制杂散辐射原理的分析,得出测量冷屏内表面的反射是研究工作的切入点,从而从基本能量传递方程中确定表征冷屏内表面黑层特性的BRDF。通过对2.5~14μm冷屏黑层BRDF的测试,发现在接收角度变小的情况下,黑层BRDF出现较大的变化,确定了下一步改进的方向。
林国画东海杰孟令超孟令伟
关键词:冷屏双向反射分布函数杂散辐射
长波碲镉汞集成偏振探测器的设计
2022年
红外探测器已经得到了广泛的应用,近年来,对红外探测器的探测、识别能力提出了更高的要求,迫切需要红外探测器进行创新发展。随着微电子工艺的快速进步,使多种功能的芯片集成在红外探测器上成为可能,也为红外探测器进行创新提供了基础。本文介绍了偏振探测功能在长波碲镉汞探测器上的集成设计、相应的设计验证结果以及成像试验情况,这些工作的介绍为集成红外探测器的开发提供了良好的借鉴。
林国画李燕兰张磊张璐邢艳蕾
关键词:消光比
红外带通滤光片77K光谱漂移特性实验研究被引量:2
2020年
红外带通滤光片是决定红外探测器组件光谱响应范围的重要元件。滤光片光谱的截止波长在低温下会产生漂移,从而影响组件的光谱响应范围。为探究滤光片在低温下的光谱漂移情况,选取了几种典型的红外带通滤光片,并分别在常温和77 K温度下使用自制的低温光谱测试杜瓦对其进行了光谱测试。结果表明,低温下滤光片的前截止波长均向短波方向漂移。该漂移量的大小主要与工作波段有关。工作波长越长,漂移量越大。中波红外带通滤光片的截止波长在低温下的漂移量小于100 nm。基片材料对截止波长漂移的影响较小。该结论对于红外探测器滤光片的光谱设计具有重要的参考价值。
田亚张磊林国画方志浩付志凯
关键词:红外带通滤光片
红外焦平面探测器杜瓦组件杂散辐射研究被引量:2
2018年
在对红外焦平面探测器杜瓦组件杂散辐射分析的过程中,建立了分析模型,通过对模型进行光线追迹,找到了窗片、滤光片、冷屏、探测器芯片的反射是产生杂散辐射的原因。针对这些原因,采取了相应抑制杂散辐射的方式,包括通过镀膜降低窗片、滤光片反射率,通过发黑、设计多层隔板来提高冷屏的吸收能力,通过在探测器芯片上制作可靠性高的微纳结构来降低表面反射率等,起到了较好的效果。
林国画张磊张敏
关键词:杂散辐射
共2页<12>
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