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弥歉

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：西安工业学院光电工程学院更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇端部
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇类金刚石
  • 1篇类金刚石膜
  • 1篇光谱
  • 1篇红外
  • 1篇红外光
  • 1篇红外光谱

机构

  • 1篇西安工业学院

作者

  • 1篇潘永强
  • 1篇朱昌
  • 1篇方勇
  • 1篇弥歉

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究被引量：2
2005年
本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简单、可实现大面积沉积 ,而且类金刚石膜的沉积速率较大 ,最大可达 0 .8nm s,其折射率依不同工艺在 1.8～ 2 .2之间可调。并对不同工艺条件下制备的类金刚石膜的硬度进行了测试和分析。
潘永强朱昌弥歉方勇
关键词：类金刚石膜红外光谱
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共1页<1>
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