张西鹏
- 作品数：6 被引量：28H指数：4
- 供职机构：四川大学制造科学与工程学院更多>>
- 发文基金：核燃料及材料国家级重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术更多>>
- 工艺条件对溅射薄膜附着性的影响被引量：13
- 2003年
- 溅射薄膜材料应用很广泛 ,其中薄膜的附着性是影响薄膜材料质量的重要因素 ,膜 /基界面结合强度是制约薄膜材料实际应用的关键之一。本文综述了关于溅射薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要工艺因素 ,为改善薄膜质量提供参考依据。
- 张西鹏李伟范洪远
- 关键词：附着性
- 将平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置
- 2007年
- 采用在真空室内加旋转筒的方法,将某平面用溅射装置改造为微粒用溅射装置。运行结果表明,利用筒体旋转的方法,可以在粒度100μm左右的微粒表面包覆均匀完整的铬膜层,微粒形状对表面涂层的均匀、完整、涂层速度等有重要影响,微粒被筒体带动的力主要为二者间的分子间作用力,离心力起的作用很小。若将用于平面镀涂的溅射装置改造为处理微粒,需对溅射装置中的溅射靶和真空系统进行较大的改造。
- 范洪远张西鹏沈保罗邢忠虎龙冲生邱绍宇邹红
- 关键词：微粒
- 铌-铬复合溅射膜对锆合金基体的附着性被引量：1
- 2004年
- 研究了铬膜和铌膜的复合对锆合金基体上制备的直流磁控溅射薄膜附着性的影响。使用扫描电镜(SEM)观察了膜层界面,用原子力显微镜(AFM)观察了膜层表面,用划痕法测定了薄膜的附着性。结果表明:膜/基界面结合良好,界面成分升降区狭窄;铬膜与铌膜组成的复合薄膜结合紧密;铬膜的组织为致密、边界孔洞少的纤维状晶粒,铬膜厚度为2 靘时,晶粒仍为亚微米级,但晶粒顶面已出现拱形;膜厚同为2 靘时,外层1 靘铌膜+内层1 靘铬膜组成的复合膜的附着性分别是外层1 靘铬膜+内层1 靘铌膜组成的复合膜的2.35倍、2 靘铬膜附着性的3倍,其原因在于膜层组织及力学性能变化、铌膜韧性好和复合顺序。因此,依靠铬膜厚度的增加来提高铬膜保护性的方法具有较大局限性,通过在一定厚度的铬膜外复合铌膜的方法则有较好的可行性。
- 范洪远樊庆文向文欣李伟邱绍宇应诗浩张西鹏沈保罗
- 关键词：锆合金附着性
- 锆合金基体上直流磁控溅射铬膜组织与性能研究
- 该文采用直流磁控溅射技术在锆合金基体上沉积制备了Cr膜,对不同处理条件下薄膜的微观形貌、结构以及薄膜的显微硬度和附着性进行了研究探讨. 锆合金板基体经过不同的预处理后,采用直流磁控溅射方法,在相同的沉积参数下在其表面沉积...
- 张西鹏
- 关键词：磁控溅射显微硬度锆合金
- 文献传递
- 膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响被引量：4
- 2003年
- 研究了膜层厚度对锆合金基体上制备的直流磁控溅射铬膜附着性的影响。用扫描电镜观察了界面形貌,用原子力显微镜观察了膜层表面形貌,用能谱仪测定了界面成分,用划痕法测定了铬膜的附着性。结果表明:膜/基界面结合良好,界面上存在成分梯度,成分升降区狭窄;随着铬膜厚度从0.5μm增加到 2.0μm,晶粒迅速长大、致密的细纤维状组织的端面出现拱形,铬膜层附着性降低约50%;但铬膜厚度达1.0μm后,晶粒长大的速度和铬膜附着性下降的速度同时趋缓,表明铬膜的附着性与其晶粒大小有明显关系。膜层厚度增加引起膜层附着性下降的主要原因是由于厚度增加所带来的膜层组织及力学性能变化和膜层应力增加。
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- 关键词：锆合金厚度附着性
- 物理气相沉积薄膜附着性的影响因素被引量：4
- 2003年
- 综述了关于薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要因素 。
- 张西鹏范洪远李伟
- 关键词：物理气相沉积附着性PVD
