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孙涛
作品数:
1
被引量:5
H指数:1
供职机构:
华中科技大学光电子科学与工程学院激光技术国家重点实验室
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
机械工程
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合作作者
朱大庆
华中科技大学光电子科学与工程学...
赵茗
华中科技大学光电子科学与工程学...
金曦
华中科技大学光电子科学与工程学...
杨振宇
华中科技大学光电子科学与工程学...
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杨振宇
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赵茗
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孙涛
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朱大庆
传媒
1篇
光学学报
年份
1篇
2006
共
1
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聚合物纳米孔隙增透膜制备工艺的研究
被引量:5
2006年
论述了聚合物纳米孔隙增透膜的制备工艺流程,分析了聚合物材料分子量、实验环境温度和湿度、溶剂挥发性等条件对纳米孔隙增透膜的影响。研究表明,聚合物材料分子量的增大、温度的降低、湿度的升高以及采用挥发性弱的溶剂都将导致增透膜孔隙尺寸的增大,孔隙越大其对光的散射损耗就会增大,所以增透膜的透过率就越低。通过大量的试验分析得出一组较理想的工艺参量:使用低分子量的聚合物材料(小于15 kg/mol),环境温度大于25℃、环境相对湿度小于30%,在采用低沸点的溶剂如四氢呋喃等措施下可有效降低增透膜散射损耗。
杨振宇
朱大庆
赵茗
金曦
孙涛
关键词:
薄膜光学
纳米材料
增透膜
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