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郑军

作品数:54 被引量:88H指数:5
供职机构:兰州空间技术物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金中国博士后科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 28篇专利
  • 21篇期刊文章
  • 4篇会议论文
  • 1篇标准

领域

  • 12篇金属学及工艺
  • 7篇机械工程
  • 5篇一般工业技术
  • 4篇理学
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  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 18篇磁控
  • 14篇溅射
  • 14篇磁控溅射
  • 10篇摩擦学
  • 9篇润滑
  • 9篇摩擦学性能
  • 6篇涂层
  • 6篇溅射沉积
  • 5篇真空镀膜
  • 5篇碳膜
  • 5篇磨损
  • 5篇耐磨
  • 5篇金属
  • 4篇镀膜
  • 4篇硬质
  • 4篇硬质涂层
  • 4篇脉冲
  • 4篇耐磨损
  • 4篇耐磨损性
  • 4篇耐磨损性能

机构

  • 54篇兰州空间技术...
  • 3篇中国空间技术...
  • 1篇安徽工业大学
  • 1篇广东工业大学
  • 1篇北京空间机电...
  • 1篇重庆大学
  • 1篇中国核工业集...
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  • 1篇安徽多晶涂层...
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  • 1篇广州今泰科技...
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  • 1篇无锡泓瑞航天...

作者

  • 54篇郑军
  • 49篇周晖
  • 24篇张延帅
  • 12篇万志华
  • 11篇赵栋才
  • 9篇马占吉
  • 9篇桑瑞鹏
  • 9篇张凯锋
  • 7篇肖更竭
  • 7篇冯兴国
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  • 6篇王启民
  • 6篇郑玉刚
  • 3篇何延春
  • 3篇胡汉军
  • 3篇霍丽霞
  • 3篇张腾飞
  • 3篇郝宏
  • 2篇武生虎
  • 2篇王瑞

传媒

  • 5篇润滑与密封
  • 4篇中国表面工程
  • 2篇理化检验(物...
  • 2篇表面技术
  • 2篇宇航材料工艺
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇真空与低温
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国空间技术...

年份

  • 2篇2023
  • 1篇2022
  • 3篇2021
  • 5篇2020
  • 14篇2019
  • 5篇2018
  • 4篇2017
  • 3篇2016
  • 8篇2015
  • 1篇2013
  • 5篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2009
54 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种调制高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层的方法
本发明提供一种调制高功率脉冲磁控溅射制备AlCrN涂层的方法,属于真空技术领域。具体地说,是利用调制高功率脉冲磁控溅射技术,通过优化工艺参数,反应磁控溅射制备AlCrN涂层,与现有制备技术相比,该技术能够获得组织致密、表...
郑军周晖王启民贵宾华张延帅
文献传递
球形TC4合金粉末的制备、表征及雾化机理被引量:4
2020年
采用真空气体雾化法制备了TC4合金粉末,并采用激光粒度分析仪、扫描电子显微镜和霍尔流速计等对制备的粉末粒度分布、组织形貌、松装密度、流动性等进行了测试分析。结果表明:真空气体雾化法制备的TC4合金粉末粒度呈正态分布,尺寸集中分布在32.52~182.50μm左右,粉末中值粒径d50为92.70μm,粉末球形度高,氧含量低(0.14%);粉末具有较低的松装密度和良好的流动性,粒径在38~106μm的粉末其流动性为25~50 s/(50 g),松装密度为2.52~2.56 g/cm^3。TC4合金粉末中粒径较大的颗粒表面呈发达的近似等轴的胞状枝晶组织,而颗粒粒径越小,其表面越光滑。少部分小颗粒粘附在大颗粒表面上,出现连体的“卫星”状。
冯凯李丹明张凯锋郑军何成旦周晖
关键词:TC4合金球形粉末雾化机理
偏压对MPP制备AlTiSiN纳米复合涂层结构及性能的影响被引量:4
2020年
目的实现对AlTiSiN纳米复合涂层微观组织结构的调控及力学性能优化。方法利用可调控脉冲磁控溅射技术,通过调控基体偏压(-50^-250 V)制备了不同偏压条件下的AlTiSiN纳米复合涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)、原子力显微镜(AFM)、薄膜综合性能测试仪及球盘摩擦试验仪,测试了涂层的微观组织结构、组成成分、表面形貌、力学性能及摩擦学性能。结果偏压对涂层元素组成影响不大。微观组织结构方面,不同偏压条件下制备AlTiSiN纳米复合涂层的晶面衍射峰宽化现象明显,呈现纳米晶组织结构。-200 V条件下制备的涂层的晶面衍射峰呈“馒头峰”形态,表明涂层结晶性能出现明显下降,呈类非晶组织结构;偏压升至-250 V时,高能离子对涂层生长表面的持续轰击作用,使得涂层生长表面升温明显,导致结晶性能出现明显改善。涂层表面光滑致密,表面粗糙度最低可达1.753 nm。力学性能方面,随基体偏压的升高,涂层硬度在取得最大值后逐渐下降,最高硬度可达25.9 GPa,H/E^*系数可达0.13。摩擦学性能方面,偏压为-200 V时,涂层磨损率取得最小值4.7×10^-15 m^3/(N×m)。结论改变基体偏压,成功实现了涂层微观组织结构的调控生长,进而达到了优化涂层组织结构、力学性能及摩擦学性能的目的。
贵宾华周晖郑军马占吉杨拉毛草张延帅
关键词:力学性能摩擦学性能
真空阴极电弧离子源磁场分析与设计被引量:2
2019年
真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。
蒋钊唐德礼陈庆川周晖肖更竭郑军马占吉杨拉毛草
关键词:电弧放电磁场
一种类富勒烯碳基复合薄膜及其制备方法
本发明涉及一种类富勒烯碳基复合薄膜及其制备方法,属于表面工程技术领域。本发明所述的复合薄膜中,采用碳膜作为过渡层,而且碳膜中的sp<Sup>2</Sup>键含量逐渐减少,sp<Sup>3</Sup>键含量逐渐增多,使过渡...
冯兴国周晖张凯锋郑军郑玉刚万志华刘兴光
文献传递
一种聚焦式阳极层离子源装置
本发明公开了一种聚焦式阳极层离子源装置,包括壳体,在所述壳体内间隔相对设置有阳极环与阴极环,在所述壳体上还固定设置有进气管,所述阳极环与所述阴极环表面均为圆锥面,所述阴极环包括外阴极环与内阴极环,所述外阴极环与所述内阴极...
肖更竭周晖赵栋才马占吉武生虎郑军徐嶺茂桑瑞鹏
文献传递
溅射沉积MoS2/Sb2O3复合固体润滑膜的磨损过程及润滑失效分析
采用球-盘摩擦磨损试验机对溅射沉积MoS2/Sb2O3复合固体润滑膜进行了滑动摩擦磨损寿命试验。测量了球-盘摩擦副在不同磨损阶段的磨损形貌与磨损状况,并对磨痕位置S、Mo元素进行了XPS分析。结果表明:摩擦磨损试验过程中...
万志华郑军赵云平胡继星张延帅
关键词:固体润滑膜磨损结合能润滑失效
文献传递
一种强韧一体化类富勒烯碳氮多层复合薄膜及其制备方法
本发明涉及一种强韧一体化类富勒烯碳氮多层复合薄膜及其制备方法,属于表面工程技术领域。所述薄膜结构依次为金属基体、软硬交替过渡层和类富勒烯碳氮层,其中,所述软硬交替过渡层以一层Ti膜和一层TiN膜为一个周期重复交替,金属基...
冯兴国周晖郑军万志华张延帅胡汉军
一种高可靠沿面击穿放电触发式脉冲引弧电源
本发明公开了一种沿面击穿放电触发式脉冲引弧电源,并设计了触发式脉冲引弧电源包括整流电路、电容充放电电路和触发控制电路三部分;当电弧主电源的输出电压高于空载输出电压的75%,或输出电流低于30A时,触发控制电路判定阴极电弧...
蒋钊肖更竭周晖郑军赵栋才杨拉毛草魏广张腾飞张延帅贵宾华
文献传递
一种装配阴极溅射环的阳极层离子源
本发明涉及一种装配阴极溅射环的阳极层离子源,属于离子源清洗、刻蚀和薄膜辅助沉积技术领域。所述离子源是在现有通用结构的阳极层离子源的阴极外环上紧密贴合安装阴极外环溅射环和/或在阴极内环上紧密贴合安装阴极内环溅射环获得;所述...
郑军周晖赵栋才肖更竭徐嶺茂蒋钊
文献传递
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