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董慧莲

作品数：8 被引量：8H指数：1
供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
相关领域：机械工程电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇红外
  • 2篇独立控制
  • 2篇氧化铟
  • 2篇液晶
  • 2篇液晶光阀
  • 2篇液晶显示
  • 2篇液晶显示器
  • 2篇透明导电
  • 2篇透明导电膜
  • 2篇抛光
  • 2篇抛光设备
  • 2篇抛光液
  • 2篇显示器
  • 2篇进给
  • 2篇进给系统
  • 2篇加工件
  • 2篇焦距
  • 2篇工件
  • 2篇光阀
  • 2篇光谱

机构

  • 8篇哈尔滨工业大...
  • 1篇哈尔滨大学
  • 1篇黑龙江大学

作者

  • 8篇董慧莲
  • 3篇赵恒谦
  • 3篇张伟
  • 3篇徐晓峰
  • 2篇秦强运
  • 2篇李春霞
  • 2篇李洪玉
  • 1篇左保军
  • 1篇杨茂华
  • 1篇付苓
  • 1篇徐进
  • 1篇范志刚
  • 1篇王秀光

传媒

  • 2篇光学技术
  • 2篇光电子技术
  • 1篇黑龙江大学自...
  • 1篇哈尔滨工业大...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇1999
  • 2篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1995
  • 1篇1994
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
独立控制外部循环的抛光液进给系统
独立控制外部循环的抛光液进给系统，它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统，属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题...
李洪玉张伟陈宇鑫秦强运董慧莲
文献传递
长焦距宽波段光学系统二级光谱及畸变——波差法参数求解(续)被引量：1
1999年
本文论述了用波差法求解星模拟器上的光学系统各透镜光焦度和曲率半径的方法。为了校正长焦距、宽谱段光学系统二级光谱与畸变，系统的前后组分别在正逆光路下，各自保留约同值反号的位置色差及球差，用波像差法能较准确的解出其解。
李春霞付苓董慧莲左保军
关键词：波像差星模拟器光学系统二级光谱
长焦距宽谱段透射式光学系统的二级光谱与畸变被引量：7
1998年
本文所述的光学系统被用于星模拟器上。本设计成功的关键在于对双胶、双分透镜组来说，打破了常规地选用火石玻璃－火石玻璃（Ｆ－Ｆ）的组合；在系统总焦距不变及二级光谱维持最小值的前提下，最大限度的降低了每块透镜的光焦度；再辅以前后组在正光路和逆光路中各色光的像面位置及像差的精细配合，使在第一阶段唯一没有满足要求的畸变由１９″降低到２．３１８″，达到了所要求的指标。
李春霞杨茂华董慧莲
关键词：二级光谱光焦度光学系统
红外写入液晶光阀透明导电膜的改善措施
1997年
针对氧化钢掺铟透明导电膜透过率仅56％的情况，从理论上探讨了改善措施，设计了双层增透膜和三层增透膜，设计了计算机程序，绘制了透过率随波长变化曲线，进行了实验，制备了三层增透膜，绘制了曲线，其在10．6um处透过率达71％。
徐晓峰董慧莲赵恒谦
关键词：透明导电膜液晶显示器
提高红外写入液晶光阀透明电极导电性能方法的研究被引量：1
1995年
介绍了一种改善红外写入液晶光阀半导体透明导电膜导电性能的一种方法。通过对氧化铟掺铟比例的研究，经过大量科学实验，并采用X光电子能谱仪对两者的比例进行了定量分析，发现在对膜层透过特性影响不大的情况下，两者之间的质量百分比在90％比10％左右时，其膜层导电性能有明显提高，从方电阻十几kΩ／□降至730Ω／□。我们将此法制备的以BaF2为基底，在中心波长为10．6μm处透过率为56％，方电阻为730Ω／□的透明导电膜应用在红外写入液晶光阀透明电极上，得到了令人满意的效果。
徐晓峰赵恒谦董慧莲王秀光
关键词：红外半导体薄膜技术
红外液晶显示器透明导电膜的研制
1994年
介绍了氧化铟掺铟红外透明导电膜的制备工艺,对影响其电学和光学的因素进行了分析,并探讨了红外透明导电的机理。以 BaF_2为基片的表面上制备了红外透明导电膜,对10.6 μm波长的透光率为56%,面电阻为730Ω/□。用该技术制备的样品作为红外透明电极,在红外液晶显示器中得到了应用。
赵恒谦徐晓峰董慧莲
关键词：氧化铟透明导电膜液晶显示器
光学透射元件双面减反射膜的非对称性及其分析
1998年
分析了由于光学透射元件双面减反射膜不对称所引起的光学性能变化。以双面镀膜的平板玻璃模型为例，对ＭｇＦ２薄膜进行了数值计算和分析，得到了不同工作条件、不同要求下的双面膜厚度的许可误差容限。
范志刚张伟董慧莲徐进
独立控制外部循环的抛光液进给系统
独立控制外部循环的抛光液进给系统，它涉及一种数控抛光设备的抛光液进给系统，属于超精密光学加工设备领域。本发明的目的是解决现有数控抛光设备抛光液循环系统只能使用一种抛光液、且加工不同尺寸工件时抛光液用量不可控的局限性的问题...
李洪玉张伟陈宇鑫秦强运董慧莲
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