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吴飞鹏

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院感光化学研究所更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇引发剂
  • 2篇树枝体
  • 2篇嵌段
  • 2篇嵌段共聚
  • 2篇嵌段共聚物
  • 2篇全息
  • 2篇全息记录
  • 2篇全息记录材料
  • 2篇镧系
  • 2篇镧系金属
  • 2篇稀土
  • 2篇稀土金属
  • 2篇稀土金属离子
  • 2篇离子
  • 2篇离子型
  • 2篇两亲嵌段共聚...
  • 2篇金属
  • 2篇金属离子
  • 2篇聚丙烯
  • 2篇聚丙烯酸

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇何勇
  • 5篇王尔鉴
  • 5篇吴飞鹏
  • 5篇李妙贞
  • 2篇朱麟勇
  • 2篇常志英
  • 1篇张云龙

传媒

  • 1篇感光科学与光...

年份

  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2000
  • 2篇1999
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
离子型聚醚树枝体－线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物/稀土金属离子发光复合物及其制备方法
本发明属于稀土金属发光材料领域，它由离子型聚醚树枝体-线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物和稀土金属离子组成，两者的摩尔数比为5×10<Sup>-7</Sup>～5×10<Sup>-4</Sup>∶2×10<Sup>-5</Sup...
朱麟勇王尔鉴李妙贞常志英吴飞鹏何勇
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阳离子电沉积法制备光致抗蚀剂的研究被引量：1
1999年
当前，印制电路板已广泛应用于航空、航天、通信、通用电器和计算机等各个领域，而光致抗蚀剂是印制电路板生产中的重要化学品，由于印制电路向着微型化、轻量化、大容量、高密度和高可靠性的方向发展，传统的工艺和材料将不能满足上述要求．因此，电沉积（ｅｌｅｃｔｒｉ...
何勇张云龙吴飞鹏李妙贞王尔鉴
关键词：抗蚀剂电沉积光致抗蚀剂印制电路板涂装
方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途
本发明属于高分子化学和感光高分子材料领域，特别是涉及可见光/近红外光光敏聚合复合引发剂—方酸染料/碘翁盐复合物及其用途。复合物是由方酸染料和碘翁盐以碘翁盐的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相...
何勇李妙贞王尔鉴吴飞鹏
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离子型聚醚树枝体－线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物/稀土金属离子发光复合物及其制备方法
本发明属于稀土金属发光材料领域,它由离子型聚醚树枝体－线性聚丙烯酸两亲嵌段共聚物和稀土金属离子组成,两者的摩尔数比为5×10<Sup>－7</Sup>～5×10<Sup>－4</Sup>:2×10<Sup>－5</Sup...
朱麟勇王尔鉴李妙贞常志英吴飞鹏何勇
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方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途
本发明属于高分子化学和感光高分子材料领域,特别是涉及可见光/近红外光光敏聚合复合引发剂——方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途。复合物是由方酸染料和碘鎓盐以碘鎓盐的重量是方酸染料重量的1～10倍,在溶剂中通过静电相互作用和偶极...
何勇李妙贞王尔鉴吴飞鹏
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