鲁江涛
- 作品数：4 被引量：5H指数：1
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家杰出青年科学基金中国博士后科学基金上海市博士后基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法
- 本发明涉及一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法，属于高功率激光元器件技术领域。该方法通过调控电场在基板亚表面中的分布，可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面中的深度分布信息。该方法的步...
- 程鑫彬鲁江涛宋智鲍刚华焦宏飞王占山
- 文献传递
- 表面层对1064nm高反射镜损伤阈值影响
- 2011年
- 采用电子束蒸发的方法制备了3种具有不同表面层材料及结构的中心波长为1 064 nm的零度高反镜,3种膜系表面层分别为1/4波长光学厚度的HfO2,1/2波长光学厚度的SiO2,以及1/4波长光学厚度的SiO2。光谱测试表明:三者在1 064 nm处均有较高的反射率(高于99.8%),利用热透镜的方法测量得到3个膜系辐照激光正入射情况下,薄膜对光的吸收比例分别为3.0×10-6,5.0×10-6和6.5×10-6,其损伤阈值分别为32.5,45.2和28.4 J/cm2。并在膜层内部电场分布和膜层材料物理特性的基础上分析了3种不同表面层膜系吸收和损伤阈值差别的原因。
- 鲁江涛焦宏飞程鑫彬马彬丁涛张锦龙沈正祥周刚
- 关键词：表面层激光损伤阈值电场分布
- 一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法
- 本发明涉及一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法，属于高功率激光元器件技术领域。该方法通过调控电场在基板亚表面中的分布，可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面中的深度分布信息。该方法的步...
- 程鑫彬鲁江涛宋智鲍刚华焦宏飞王占山
- 文献传递
- 单层膜体吸收与界面吸收研究被引量：5
- 2011年
- 采用热透镜测量方法进行了SiO2和HfO2单层膜的体吸收与界面吸收分离研究.首先推导了光从薄膜侧及基底侧入射时单层膜内的驻波场分布,给出了单一厚度薄膜分离体吸收和界面吸收的计算方程式以及求解薄膜消光系数的方法.利用电子束蒸发工艺制备了半波长光学厚度(λ=1064nm)的SiO2和HfO2单层膜,通过热透镜的测量数据实际分离了两种薄膜的体吸收和界面总吸收.计算结果表明,对于吸收小至10-6量级的薄膜来说,薄膜的界面吸收相对于体吸收不可忽略;制备HfO2薄膜的体吸收和界面吸收都比SiO2薄膜大.
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- 关键词：光热技术消光系数
