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陈强

作品数:4 被引量:5H指数:1
供职机构:西安交通大学理学院更多>>
发文基金:教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇电气工程

主题

  • 4篇磁性
  • 4篇磁性薄膜
  • 3篇磁性能
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇学成
  • 1篇微结构
  • 1篇显微组织
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇纳米晶薄膜
  • 1篇晶化
  • 1篇化学成分
  • 1篇回火
  • 1篇磁性材料

机构

  • 4篇西安交通大学

作者

  • 4篇李晓园
  • 4篇祝要民
  • 4篇宋晓平
  • 4篇陈强

传媒

  • 2篇金属功能材料
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 2篇2004
  • 2篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
SmCo薄膜的不均匀晶化及其磁性能被引量:1
2004年
采用不同的磁控溅射和回火工艺制备了SmCo磁性薄膜。用能谱仪对不同工艺溅射的样品进行了化学成分分析;用透射电子显微镜和振动样品磁强计(VSM)研究了薄膜的显微结构和磁性能。结果表明:溅射态的薄膜为非晶态并具有软磁特征;当回火温度位于400~450℃之间时,薄膜的微观组织均匀细小,且随着回火温度增加,矫顽力增大,并在450℃回火的样品中得到了最大的矫顽力。回火温度500℃后,薄膜微观组织中晶粒出现了不均匀粗化,矫顽力明显降低。
祝要民李晓园宋晓平陈强
关键词:磁控溅射回火磁性薄膜晶化磁性能显微组织
磁控溅射磁性薄膜成分含量和均匀性控制被引量:1
2004年
用轮番溅射工艺在多靶磁控溅射设备上制备了SmCo薄膜。通过改变Sm,Co纯金属靶的溅射时间间隔和溅射功率来调整薄膜的化学成分和均匀性。实验表明,可以通过调整溅射电流来优化薄膜的化学成分。沿垂直膜面俄歇电子(AES)逐层分析证明,优化溅射工艺制备的薄膜化学成分分布均匀。电子衍射表明薄膜溅射态为非晶结构,经过400℃退火处理,薄膜开始晶化。VSM分析表明溅射态的薄膜为软磁特征。晶化后的薄膜表现为硬磁特征,450℃退火时薄膜的矫顽力最大,达80320A/m。薄膜呈现一定的各向异性。
祝要民李晓园宋晓平陈强
关键词:磁性薄膜磁控溅射化学成分磁性能
SmFe纳米颗粒磁性能研究
2003年
磁性纳米颗粒由于晶粒尺寸处于纳米级 ,可以做到完全单畴 ,很多研究表明这种结构下其磁性能与同样相成分的块体材料相比 ,具有明显的不同。本文采用磁控溅射方法得到非晶SmFe薄膜 ,通过时效处理后 ,得到均匀分布在铜基体上的磁性纳米颗粒。研究表明 。
李晓园祝要民宋晓平陈强
关键词:磁性能磁性薄膜磁性材料
SmCo非晶及纳米晶薄膜的磁性及微结构被引量:3
2003年
稀土过渡族金属磁性薄膜作为高密度磁记录材料引起科技界的广泛关注。作为磁记录介质要求具有小的磁粒尺寸才可能有高的记录密度。通过溅射制出非晶膜 ,再通过控制回火使其晶化得到小的磁粒尺寸是比较好的方法。我们用多靶磁控溅射制备出非晶SmCo薄膜。研究其晶化和磁性能及微结构之间的变化关系。
祝要民李晓园宋晓平陈强
关键词:纳米晶磁性微结构磁性薄膜
共1页<1>
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