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陈兵
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1
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供职机构:
华东冶金学院化学工程系
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合作作者
张国栋
华东冶金学院化学工程系
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1990
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n-InP在浓电解质溶液中的光电化学稳定性
1990年
本文研究了支持电解质KCl浓度对n—InP光电化学稳定性的影响,指出在pH=1的饱和KCl溶液中,光照时能够形成1—2个分子层厚度的表面氧化膜,这层膜的存在能够保护电极免受光腐蚀,而不降低光生空穴的界面迁移速度。
张国栋
陈兵
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光电化学
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