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熊小涛

作品数:33 被引量:142H指数:7
供职机构:北京科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金北京市科技新星计划更多>>
相关领域:一般工业技术文化科学金属学及工艺理学更多>>

文献类型

  • 20篇期刊文章
  • 8篇专利
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 8篇一般工业技术
  • 7篇文化科学
  • 6篇金属学及工艺
  • 6篇理学
  • 3篇电气工程
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇溅射
  • 5篇超导
  • 5篇磁控
  • 4篇导体
  • 4篇室壁
  • 4篇离子
  • 4篇教学
  • 4篇超导体
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇虚拟仿真实验
  • 3篇氧化铬
  • 3篇硬质
  • 3篇硬质薄膜
  • 3篇软磁
  • 3篇共享
  • 3篇合金
  • 3篇仿真
  • 2篇等离子体
  • 2篇等离子体发射
  • 2篇等离子体发射...

机构

  • 32篇北京科技大学
  • 4篇中国科学院
  • 2篇长沙矿冶研究...
  • 2篇浙江大学
  • 2篇首都钢铁公司
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇冶金部

作者

  • 32篇熊小涛
  • 13篇杨会生
  • 10篇王燕斌
  • 7篇孙建林
  • 6篇马如璋
  • 5篇曹国辉
  • 5篇李阳
  • 4篇马庆珠
  • 4篇贠冰
  • 3篇崔华
  • 3篇陈宁
  • 3篇王耘波
  • 3篇高克玮
  • 2篇涂国超
  • 2篇钱大益
  • 2篇薛润东
  • 2篇赖武彦
  • 2篇徐祖雄
  • 2篇朱逢吾
  • 2篇李红

传媒

  • 3篇物理学报
  • 2篇实验室研究与...
  • 2篇实验技术与管...
  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇北京科技大学...
  • 1篇陶瓷学报
  • 1篇科学通报
  • 1篇金属学报
  • 1篇低温与超导
  • 1篇中国科学(A...
  • 1篇中国科学(E...
  • 1篇真空
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇金属功能材料
  • 1篇科技信息
  • 1篇北京高教学会...

年份

  • 4篇2018
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2007
  • 3篇2006
  • 3篇2005
  • 2篇2004
  • 2篇2003
  • 2篇2002
  • 1篇1997
  • 2篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1994
  • 1篇1993
  • 1篇1992
33 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极
本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法,其特征在于:法兰(28)安装于真空室壁上,在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27),基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜;对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极,铁磁性靶...
杨会生王燕斌熊小涛
浅谈实验室大型仪器设备共享与管理
高校实验室是教学、科研的重要基地,是培养具有创新意识和实践能力的人才摇篮。高校实验室如何利用现有设备资源,最大限度满足学生的实践需求,为学生提供更多的实践机会和更好的实践环境是亟待解决的问题;北京科技大学中心实验室通过几...
崔华熊小涛孙建林
关键词:实验室设备共享
无磁屏蔽型铁磁性靶材溅射阴极及其溅射方法
本发明提供了一种磁控溅射阴极及其溅射方法,其特征在于:法兰(28)安装于真空室壁上,在法兰(28)上有密封胶圈(26)和固定螺栓孔(27),基片(37)置于阴极上方进行溅射镀膜;对于具有轴对称的圆形磁控溅射阴极,铁磁性靶...
杨会生王燕斌熊小涛
(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-x)Cr_x作为种子层对NiFe/FeMn交换偏置的影响被引量:6
2002年
采用一种新的种子层材料 :(Ni0 81 Fe0 1 9) 1 -xCrx,通过改变种子层中Cr原子的含量 ,使得在其上生长的NiFe FeMn双层膜的织构和晶粒尺寸产生极大的差异 ,系统研究了NiFe FeMn双层膜中FeMn晶粒尺寸和织构对交换偏置的影响 .实验结果表明 ,在FeMn的γ相 (111)织构较好的前提下 ,交换偏置场的大小与织构的差异没有关系 ;FeMn的晶粒尺寸对交换偏置场有很大影响 ,较小的反铁磁层晶粒对交换偏置场有利 ,过大的反铁磁层晶粒不利于交换偏置场 .将 (Ni0 81 Fe0 1 9) 0 5Cr0 5与传统的种子层材料Ta进行了对比 ,发现前者具有很多优点 。
滕蛟蔡建旺熊小涛赖武彦朱逢吾
关键词:交换偏置铁磁材料反铁磁材料
射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能被引量:8
2005年
研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表 明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式, 即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要 决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要 采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出 高硬度的氧化铬薄膜.
熊小涛阎良臣杨会生王燕斌
关键词:氧化铬磁控溅射力学性能
一种透射电镜试样化学减薄夹具
一种透射电镜试样化学减薄夹具,属于实验设备技术领域,涉及到透射电镜制样的工具。包括耐酸的上卡套、下卡套、密封圈和防腐螺钉。透射电镜试样放置在两卡套中间,通过卡套的夹紧作用,使试样两面的密封圈紧紧贴在试样表面,起到密封的效...
崔华蔡元华熊小涛钱大益
霍尔离子源制备类金刚石薄膜研究被引量:3
2003年
采用霍尔离子源沉积类金刚石薄膜是近年来新出现的一种方法 ,本文研究了自行研制的霍尔离子源的性能以及采用此离子源制备类金刚石薄膜及工艺参数的影响。结果表明 ,霍尔离子源在较低的电压即可起辉 ,可提供稳定的能量较低的离子束流。采用霍尔离子源沉积类金刚石薄膜的沉积速率约为 0 5nm/s。随着霍尔离子源灯丝电流的升高 ,离子源放电电压下降 ,制备的类金刚石薄膜的硬度下降。放电电流的变化对类金刚石薄膜的硬度影响不大。
孙书龙杨会生王燕斌熊小涛
关键词:类金刚石薄膜
TI系超导体1223相的(57)~Fe Mssbauer谱研究
1994年
高T_c氧化物超导体的一共同特点是在结构上都有Cu-O层.大量研究表明:Cu-O平面对这类超导体的超导电性起关键作用.为了正确认识Cu-O面在超导电性中所起的作用并探索高T_c氧化物超导体的超导机制,取代Cu晶位的元素掺杂效应已引起人们的广泛重视.由于铁和铜在原子序数、电子结构和离子半径等方面比较接近。
王耘波李阳曹国辉马如璋熊小涛彭获田周思海
关键词:超导体穆斯堡尔谱高TC
虚拟仿真实验在大型仪器设备开放共享中作用的探讨
在高校大型仪器设备开放共享中存在着仪器设备的数量远远无法满足实验教学需要,部分大型仪器设备不适于开放共享,无法开展相应的实验教学,以及开放共享的仪器设备利用率低等问题.随着虚拟仿真实验平台的建设及推广应用,实验教学资源信...
贠冰孙建林熊小涛
关键词:资源共享
氧化铬硬质薄膜的开裂行为研究
2006年
硬质薄膜的可靠性研究对其应用有重要的意义。本文采用压痕法研究了射频反应磁控溅射制备的氧化铬薄膜的开裂行为,结果表明当载荷较低时,厚的薄膜抗开裂性能比较好,但是当载荷超过一定值以后,厚的薄膜更容易开裂。镀前如果基体等离子清洗功率过大沉积的薄膜反而容易开裂。采用同样工艺在不同基体上沉积的薄膜,由于膜与基体的结合力不同,膜中的内应力不同。其抗开裂性能会有很大不同。
瞿春艳王燕斌杨会生熊小涛
关键词:射频磁控溅射开裂
共4页<1234>
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