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卢正启

作品数：15 被引量：47H指数：4
供职机构：中国科学院物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金武汉市青年科技晨光计划更多>>
相关领域：理学化学工程自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 15篇中文期刊文章

领域

  • 11篇理学
  • 3篇化学工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 7篇磁光
  • 5篇巨磁电阻
  • 5篇巨磁电阻效应
  • 5篇磁电
  • 5篇磁电阻
  • 5篇磁电阻效应
  • 4篇非晶
  • 4篇磁光薄膜
  • 3篇多层膜
  • 3篇自旋
  • 3篇自旋阀
  • 3篇矫顽力
  • 3篇光记录
  • 3篇非晶薄膜
  • 3篇磁光记录
  • 2篇计算机
  • 2篇溅射
  • 2篇磁特性
  • 1篇信息存贮
  • 1篇性能研究

机构

  • 9篇华中理工大学
  • 4篇中国科学院
  • 1篇北京科技大学
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇武汉华中理工...
  • 1篇科学技术情报...

作者

  • 15篇卢正启
  • 10篇李佐宜
  • 5篇胡作启
  • 4篇缪向水
  • 3篇胡用时
  • 3篇郑远开
  • 3篇邱进军
  • 2篇赖武彦
  • 1篇刘卫忠
  • 1篇刘卫忠
  • 1篇张泽
  • 1篇彭子龙
  • 1篇熊锐
  • 1篇沈峰
  • 1篇柴春林
  • 1篇林更琪
  • 1篇于军
  • 1篇徐庆宇
  • 1篇蔡建旺
  • 1篇谢基凡

传媒

  • 4篇功能材料
  • 2篇大自然探索
  • 2篇物理学报
  • 2篇磁记录材料
  • 1篇物理
  • 1篇上饶师范学院...
  • 1篇磁性材料及器...
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇上饶师专学报

年份

  • 1篇2002
  • 1篇2000
  • 5篇1998
  • 1篇1997
  • 6篇1996
  • 1篇1995
共 15 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
DyFeCo磁光薄膜的制备和特性研究
1996年
本文采用射频磁控溅射方法制备了ＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压，溅射功率对ＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响，实验表明：反射率随氩气压升高而降低，矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减少，高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差，本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减少。反射率随溅射功率增加而升高，到达最大值后又逐渐下降，矫顽力随溅射功率增加而逐渐增大，到达最大值后，磁光克尔回线反向，然后矫顽力又逐渐减小。为了满足高信噪比，记录信息稳定的磁光记录要求，氩气压选为３．５—５．５Ｔｏｒｒ、溅射功率选为３００Ｗ—３５０Ｗ较佳。
卢正启李佐宜胡作启缪向水崔英林更琪胡用时
关键词：矫顽力溅射功率磁光薄膜非晶薄膜
三层磁性耦合膜的磁化过程
1995年
从理论上计算了三层磁性耦合的磁化过程。假定每层膜具有单轴各向异性，且易轴方向垂直于膜面，各层磁化曲线都为矩形。第一层与第三层组成成份和膜厚完全相同。我们得到了各种各样磁化过程及其条件。尤其指出了得到矩形磁化过程条件。磁光记录需要矩形磁化过程，为进一步多层膜磁光记录研究提供了依据。
卢正启
关键词：交换耦合非晶薄膜磁光记录磁化过程
界面对TbFeCo薄膜磁畴的形成和移动的影响
1996年
本文用振动样品磁强计和磁光克尔回线测试仪研究了非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜和ＡＩＮ薄膜之间的界面对非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜磁畴的形成和移动的影响，得出结论：ＡＩＮ薄膜的表面粗糙程度对非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜的磁和磁光性能有影响。当表面光滑时，非晶ＴｂＦｅＣｏ薄膜的磁滞回线和磁光克尔回线的矩形比高。
胡作启李佐宜卢正启刘卫忠缪向水林更棋王家赋
关键词：磁畴
SmDyFeCo磁光薄膜的制备和性能研究
1996年
本文采用射频磁控溅射方法制备了ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜。研究了氩气压、溅射功率对ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响。实验表明，反射率随氩气压升高而降低。矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减小。高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差。本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减小。反射率随溅射功率增加而升高，到达最大值后又逐渐下降。矫顽力随溅射功率增加而逐渐增大，到达最大值后，磁光克尔回线反向，然后矫顽力又逐渐减小。本征磁光克尔角随溅射功率增加而增大，到达最大值后又逐渐减小。为了满足高信噪比，记录信息稳定的磁光记录要求，氩气压选为０．４７～０．７３Ｐａ。
卢正启李佐宜胡作启缪向水崔瑛林更琪胡用时
关键词：矫顽力反射率磁光薄膜
非晶稀土-过渡金属磁光薄膜热稳定性研究
1998年
采用射频磁控溅射方法制备非晶 Dy Fe Co磁光薄膜。样品的克尔回线、转矩曲线的测试显示 ,薄膜具有优良的磁和磁光性能。退火研究表明 ,随着退火时间的增加 ,矫顽力下降 ,垂直磁各向异性能减少 ,但克尔角变化不明显 ,其内在机制与薄膜中的微缺陷和应力的弛豫过程有关。
熊锐李佐宜卢正启林更其胡作启杨晓非邱进军
关键词：磁光薄膜退火热稳定性
SmTbFeCo磁光记录材料温度特性的平均场理论研究
1997年
基于平均场理论，提出重稀土-轻稀土-过渡族（HRE－LRE-TM）非晶薄膜温度特性的计算方法，详细讨论了薄膜成分对薄膜磁学和磁光性能的影响。研究表明，用适量的轻稀土元素替代重稀土元素，室温下饱和磁化强度增大，克尔角有所提高，薄膜的补偿点温度下降，而居里点温度基本保持不变，并区饱和磁化强度和矫顽力随温度变化趋向缓慢，从而可以拓宽磁光介质的使用温度范围。其对重稀土-过渡族非晶薄膜掺入轻稀土元素是否改善磁学和磁大性能作出了满意的解释。
卢正启李佐宜郑远开
关键词：非晶薄膜磁光记录材料平均场理论
磁性多层膜在磁光数据存贮技术中的应用被引量：1
1996年
本文系统地讨论了磁性多层膜在短波长记录、磁超分辨，磁场调制直接重写和光强调制直接重写技术中的应用原理和发展前景。磁性多层膜对改进磁光盘的记录特性和功能具有重大作用，是综合运用多种提高记录密度方法和直接重写方式的关键因素。
卢正启李佐宜
关键词：磁性多层膜计算机磁光盘存贮器
AgCo颗粒膜的制备工艺及巨磁电阻效应被引量：1
1998年
采用磁控射频溅射法制备了AgCo颗粒膜；研究了薄膜成份及制备工艺对薄膜巨磁电阻效应的关系。在低Co含量时，薄膜磁电阻变化率随着Co含量的增加和退火温度的升高而变大。
郑远开李佐宜于军林更琪卢正启彭子龙邱进军谢基凡
磁电子学讲座 第七讲 自旋阀巨磁电阻效应及其应用被引量：23
1998年
自旋阀巨磁电阻材料具有工作磁场小、灵敏度高、频率特性好、信噪比高等优点，成为新一代高密度读出磁头的首选材料，在计算机信息存贮和高灵敏传感器方面有着广阔的应用前景．
卢正启
关键词：自旋阀巨磁电阻信息存贮
保护膜厚度对磁光记录薄膜磁特性的影响
1996年
本文利用射频磁控溅射方法制备出AIN／TbFeCo／基片磁光薄膜，在磁光记录薄膜上覆盖一层AIN介质薄膜不仅可以防止磁光记录薄膜的氧化而且可以增强磁光克尔效应。在实验中发现AIN薄膜厚度的变化也会影响磁光记录薄膜的磁特性。当AIN厚度从0开始增加时，薄膜的矫顽力随着AIN膜厚的增加而增加，在一定AIN厚度时达到最大值。然后随着AIN膜厚的增加，矫顽力逐渐减小。垂直各向异性常数随AIN膜厚的变化有着同样的规律。研究清楚这一现象对制备实用化磁光盘有着重要的意义。
卢正启李佐宜缪向水黄煜梅刘卫忠林更琪胡用时
关键词：磁光记录磁性能
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