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高印博

作品数:8 被引量:7H指数:1
供职机构:沈阳理工大学理学院更多>>
发文基金:博士科研启动基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇发光
  • 4篇粉体
  • 3篇球磨
  • 3篇脉冲激光
  • 3篇脉冲激光沉积
  • 2篇荧光
  • 2篇退火
  • 2篇光致
  • 2篇光致发光
  • 2篇发光性
  • 2篇发光性能
  • 2篇CR3+
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化铝薄膜
  • 1篇荧光光谱
  • 1篇真空
  • 1篇真空退火
  • 1篇能隙
  • 1篇球磨法
  • 1篇紫外

机构

  • 8篇沈阳理工大学

作者

  • 8篇高印博
  • 6篇柳峰
  • 6篇孙乃坤
  • 4篇蔡宗岐
  • 3篇赵美星
  • 2篇徐送宁
  • 2篇杨健
  • 1篇胡杰
  • 1篇徐志洁

传媒

  • 3篇功能材料
  • 2篇半导体光电
  • 1篇材料研究学报

年份

  • 1篇2013
  • 4篇2012
  • 3篇2011
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
退火对Cr^(3+)离子掺杂Al_2O_3薄膜的结构及发光性能影响被引量:1
2013年
用脉冲激光沉积技术在Si(100)基底上制备了纯Al2O3、掺杂浓度为0.3%、1%(质量分数)的Cr3+∶Al2O3薄膜。制备态的薄膜为立方γ-Al2O3结构,经800℃真空条件下退火1h样品的结晶度有所提高,呈现α-Al2O3相与γ-Al2O3相的衍射峰。薄膜基本保持了靶材中原有各元素成分比例,平均粒径为250nm,形貌为条形。与Al2O3粉体相比,制备态薄膜在386nm处的发光峰强度明显提高。这可归因于薄膜中氧空位的增加使双氧空位吸收电子所产生的F2+色心浓度提高。薄膜经真空退火后在332、398nm附近的发光峰强度明显增强,这是由于薄膜中氧空位的增加提高了F+、F色心浓度。与此同时,制备态薄膜在386nm附近发光峰经退火后由386nm蓝移至381nm,可归因于退火后制备态薄膜的内应力得到了释放。1%(质量分数)Cr3+掺杂薄膜在646、694nm出现Cr3+离子由4 T2能级跃迁至4 A2能级及由E-能级跃迁至4 A2能级产生的荧光发光峰。
孙乃坤杜宝盛高印博柳峰蔡宗岐赵美星
关键词:脉冲激光沉积荧光光谱真空退火
微观应力对MnAs0.97P0.03磁性及磁热效应的影响
作者认为磁滞的消除主要是由于母相边界处形成了Fe-Si第二相,减缓了结构转变过程中的压应力进而抑制了正交相的形成。本文中用球磨法制各了MnP型正交结构的MnAs0.97P0.03化合物。通过分析球磨与退火样品的磁性,提出...
孙乃坤柳峰高印博
关键词:磁性材料磁热效应
Ho^(3+)掺杂Al_2O_3粉体、薄膜的结构及其发光性能
2012年
采用高能球磨法及脉冲激光沉积法(PLD)分别制备了不同浓度的Ho3+∶Al2O3纳米粉体及薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、分光光度计、荧光光谱仪等分析手段研究了Ho3+离子掺杂对Al2O3结构及发光性能的影响。XRD图谱显示粉体样品为六方α-Al2O3结构,薄膜样品为体立方γ-Al2O3结构。1wt%Ho3+掺杂的Al2O3纳米粉体在454nm、540nm附近出现由Ho3+离子能级跃迁引起的吸收峰。采用579nm的激发光源对样品进行荧光光谱检测,发现两种样品在466~492nm波段均出现F+心所引起的缺陷发光峰,且发光峰的强度随Ho3+浓度的增加而增强。
徐志洁柳峰高印博赵美星孙乃坤
关键词:AL2O3球磨脉冲激光沉积发光性能
微量Co^(2+)掺杂ZnO粉体的结构和光学性能研究
2012年
采用球磨法制备了Zn1-xCoxO(x=0,0.004,0.008)纳米粉体,分别利用XRD,PL光谱和紫外-可见吸收光谱对样品进行了表征。XRD图谱显示样品呈六方纤锌矿结构,随着Co2+离子掺杂量的增加,晶格常数和平均晶粒尺寸略有减小。在PL光谱上观察到三个发光带:370nm处的本征发光峰、468nm附近的强蓝光发光峰,以及533nm附近的绿光发光峰。和球磨样品相比,1 200℃退火的样品的发光强度明显增强,这归因于退火使样品晶粒长大。在紫外-可见吸收谱上可以观察到两个吸收带:由ZnO的带隙吸收引起的360~388nm的强紫外吸收带和由Co2+离子的d-d跃迁引起的565nm附近的可见光吸收带。因此通过调节Co2+掺杂量和选择适当的退火温度可制备高质量的发光材料。
胡杰柳峰高印博蔡宗岐
关键词:球磨退火光致发光紫外吸收
Cr^(3+)离子掺杂对Al_2O_3粉末结构及发光性能影响被引量:5
2011年
采用球磨法制备了不同浓度Cr_2O_3掺杂的Al_2O_3粉体,并在700℃、1200℃空气中退火2 h。1200℃退火后样品,除掺杂浓度为1.6%的样品中出现少量γ-Al_2O_3相外,其余样品相均为纯α-Al_2O_3。样品晶格常数随着Cr^(3+)离子浓度的增加而增加。采用波长为579 nm的激发光源对佯品进行荧光光谱检测发现所有样品在469-492 nm波段,均出现F^+心所引起的缺陷发光峰.1200℃退火的所有样品都出现一个由Cr^(3+)离子中电子由2A能级到~4A_2能级跃迁引起的在694 nm的强烈发光带,掺杂浓度为0.3%时发光强度最高。当掺杂浓度高于0.3%时,样品中Cr^(3+)未能完全替代Al_2O_3中的Al^(3+)离子,出现耦合,产生浓度猝灭现象,导致该波长发光强度减弱。对比而言,700℃退火样品仅掺杂浓度为0.3%时出现694 nm的发光,且强度较低。
孙乃坤高印博杨健柳峰蔡宗岐徐送宁
关键词:无机非金属材料荧光纳米粉体球磨
Ni^(2+)掺杂ZnO薄膜及粉体的结构和发光性能研究被引量:1
2012年
采用激光脉冲沉积法,用XeCl准分子激光器在Si(100)基片、真空和5Pa氧气气氛下制备了Ni 2+(0.8%(原子分数))掺杂的呈六角纤锌矿结构的ZnO薄膜。氧气气氛下制备的薄膜沿(002)取向生长,表面比较平整,平均颗粒尺寸为80nm。真空条件下制备的薄膜出现Zn2SiO4杂相,平均颗粒尺寸为150nm。和真空条件下制备的薄膜相比,氧气气氛下制备的薄膜具有较强的ZnO本征发光,在425nm附近出现由于填隙Zn缺陷引起的较宽的蓝光发光带,并且在482nm处出现了由于氧空位和氧间隙间的转换引起的较强的蓝光发光峰,同时由于氧缺陷引起的449nm附近的蓝光发光峰强度明显降低。
徐送宁蔡宗岐孙乃坤柳峰高印博赵美星
关键词:ZNO薄膜光致发光
Cr3+、Ho3+掺杂的Al2O3粉体、薄膜的制备及发光性能研究
作为第一种投入使用的激光介质材料,Al2O3以其良好的机械性能、抗腐蚀性能和光学性能被广泛应用于生产、医疗、科研等多个领域。其中,Cr3+掺杂的红宝石激光器仍是当今制备大功率激光器的主要材质之一;Ti掺杂的飞秒级蓝宝石激...
高印博
关键词:AL2O3粉体AL2O3薄膜发光性能球磨法脉冲激光沉积法
文献传递
Mn_2Sb_(0.95)Bi_(0.05)化合物的磁性和电输运性能
2011年
通过首先熔炼Sb0.95Bi0.05固溶体,然后再把该固溶体和Mn一起熔炼的多步骤熔炼法,成功地制备了Mn2Sb0.95Bi0.05化合物。样品的热磁曲线测量表明在亚铁磁的Mn2Sb基体中,通过Bi对Sb的替代可以在90K附近诱发亚铁磁到反铁磁转变。与这个一级变磁转变相对应,随着温度的降低,该化合物的电阻曲线在90K附近呈现异常的向上跳跃。电阻异常变化的机理可以被归结为反铁磁态下的超级布里渊区带隙的形成。
孙乃坤高印博杨健
关键词:金属间化合物巨磁电阻效应
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