郭力军
- 作品数：5 被引量：10H指数：1
- 供职机构：西北工业大学更多>>
- 相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术更多>>
- a－C：H膜折射率的变化规律及红外应用
- 1994年
- 本文对ａ－Ｃ：Ｈ膜的性质如折射率和生长速率的变化规律进行了研究，并且在增透原理的指导下制备了具有高红外透过率的单波段。
- 郭力军许念坎郑修麟
- 关键词：折射率红外透过率
- 类金刚石薄膜的结构与光学性能研究
- 1992年
- 一、前言 类金刚石碳膜（Diamond-Like Carbon Films）是国际上70年代发展起来的一种新型薄膜材料。由于该薄膜具有坚硬耐磨、电阻率和热导率高、化学性能稳定、光学透明等类似于金刚石的特性,因此,自1971年美国人Aisenberg首先发表有关类金刚石碳膜的研究论文后,引起了世界各国的浓厚兴趣。与金刚石薄膜相比,类金刚石薄模有以下3个特点:（1）制备方法比较简便,成本较低,沉积温度低,在二、三百摄氏度以下;（2）沉积膜的微观表面光滑;（3）依赖膜的组分和结构,其性质可在很宽的范围内变化。例如,根据所采用的气源种类等因素的不同,折射率可在1.7～2.9之间变化。这些优点表明:类金刚石薄膜特别适用于作光学零部件的增透膜和保护膜。类金刚石薄膜的性质由其结构所决定,而结构又与制备方法和制备条件有关。因此,研究类金刚石薄膜的性质、结构和沉积工艺间的关系是非常重要的课题。 二、试验方法 改装GDM-300BN型高真空镀膜机。采用平板型阴阳极平行安装,屏蔽的阴极水冷并接13.56MHz射频电源功率极,阳极与真空罩相连并接地。Ar、CH4、C2H2气体流量由质量流量计控制,直流负偏压大小用WYG-30B高压速调管电源调节,设备示意如图1所示。衬底材料为单晶硅和锗。
- 张贵锋郭力军刘正堂许念坎郑修麟
- 关键词：类金刚石薄膜类金刚石碳膜真空镀膜机沉积温度速调管电源功率
- α-C:H膜在红外光学领域中的应用技术研究
- 郭力军
- 类金刚石薄膜的高红外透过率研究被引量：1
- 1992年
- 类金刚石薄膜最主要应用在光学领域,尤其在红外领域,它非常适合于作红外窗口材料的增透兼保护膜。本文采用电容耦合射频外加直流设备,裂解碳氢化合物产生等离子体,进行离子增强化学气相沉积,制备类金刚石薄膜。采用平板式电极,衬底样品放在阴极极板上。
- 郭力军张贵锋刘正堂许念坎郑修麟
- 关键词：类金刚石红外透过率
- 全文增补中
- 极板负偏压对类金刚石薄膜性质的影响被引量：9
- 1994年
- 用射频－直流辉光放电系统制备类金刚石薄膜，研究了极板负偏压（Ｖ）对类金刚薄膜性质的影响．结果表明，类金刚石薄膜的性质明显依赖于极板负偏压，在所研究的范围（－３００－９００Ｖ）内，随Ｖ绝对值的增加，薄膜的折射率、消光系数、生长速率、及硬度增加，电阻率下降．Ｖ的变化使膜中Ｈ含量及ｓｐ３／ｓｐ２的比例发生变化，从而使膜的性质发生变化．
- 郭力军许念坎刘正堂张贵锋郑修麟
- 关键词：类金刚石薄膜
