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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电学
  • 1篇电学特性
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇锡合金
  • 1篇光学
  • 1篇光学特性
  • 1篇合金
  • 1篇

机构

  • 1篇中国科学院兰...

作者

  • 1篇何延春
  • 1篇赵印中
  • 1篇邱家稳
  • 1篇许民
  • 1篇李强勇

传媒

  • 1篇真空与低温

年份

  • 1篇2000
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
退火温度对铟锡合金薄膜结构和性能的影响被引量:6
2000年
采用铟锡合金作为溅射源,通过直流反应磁控溅射和在大气环境下高温退火,制备出了性能优良的ITO薄膜,其太阳光谱透射率大于90%。在放电参数、工作气体压力、反应气体流量、沉积时间等工艺参数相同的条件下,研究了退火温度对薄膜表面形貌、化学成分、晶体结构、光学和电学性能的影响。
李强勇许民赵印中何延春邱家稳
关键词:光学特性电学特性退火温度
共1页<1>
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