管卫军
- 作品数：10 被引量：13H指数：2
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：中国工程物理研究院基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学核科学技术金属学及工艺一般工业技术更多>>
- Rietveld法模拟计算金属铀真空热氧化膜物相的含量
- 2007年
- 在400℃、500℃和600℃下对表面已氧化的金属铀进行真空热氧化退火处理，生成银白色的氧化膜表面。采用、XRD对氧化膜的成分进行了表征，并用Rietveld方法定量分析了金属铀真空热氧化膜中物相的含量。结果表明400℃和500℃时氧化膜主要为U和UO2，600℃时氧化膜中还出现了大量的UC，且U的含量明显增大，UO2含量减少。
- 周萍汪小琳张延志杨江荣管卫军
- 关键词：铀氧化膜RIETVELD方法
- 不同温度下U_3O_8结构的XRD研究被引量：5
- 2003年
- 在大气环境及25～850℃条件下,用X射线衍射(XRD)法研究了八氧化三铀(U3O8)的结构变化情况。在实验温度范围内发现,U3O8存在两种相结构,相变温度约为300℃。低于300℃时,U3O8为底心正交结构(Amm2),在300℃附近转变为对称性更高的简单六方结构(P 62m)。在两种相结构稳定的温度范围内,U3O8的点阵参数随温度的增加呈现出规律性变化。
- 张延志汪小琳赖新春管卫军王勤国
- 关键词：温度U3O8X射线衍射法八氧化三铀
- Al/U固相界面反应的原位高温X射线衍射研究被引量：1
- 2017年
- 采用磁控溅射沉积技术在贫铀上镀铝膜,利用X射线衍射原位研究了铝镀层与贫铀基体的界面反应,分析了界面反应产物随温度和时间的变化规律。实验结果显示,镀膜过程Al/U界面没有化合物形成,而在较高温度下(≥335℃)两相界面会发生反应并形成金属间化合物UAl_3相,反应动力学符合形核-生长机制。形成的UAl_3相为疏松的层状结构,且相应的衍射峰强度随温度的升高而逐渐降低,直至消失,文中对该现象的原因进行了分析和讨论。
- 张延志谢卫华管卫军陈林汪小琳
- 关键词：金属间化合物X射线衍射
- 铀表面中频磁控溅射离子镀铝的组织结构与界面特性研究
- 2016年
- 采用中频磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同脉冲偏压制备了铝镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进行了研究。结果表明:铝镀层为面心立方结构;镀层平整、致密,与基体结合良好且具有"伪扩散层";偏压对镀层的组织结构影响显著,随着偏压的升高,镀层在(200)(220)晶面生长增强;在低偏压时镀层呈板块状结构,随着偏压的升高,镀层向柱状结构转化。
- 刘清和王庆富陈林郎定木管卫军肖红
- 关键词：贫铀铝镀层
- 铀表面中频磁控溅射离子镀铝的组织结构与界面特性研究
- 贫铀因其独特的核性能而在核工业上具有广泛的用途，但其化学性质十分活泼，很容易被腐蚀。为了减缓铀的腐蚀，常采用致密的防腐蚀薄膜来隔离腐蚀介质。本文采用中频磁控溅射离子镀技术在铀表面沉积铝镀层，利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀...
- 刘清和王庆富陈林郎定木管卫军肖红
- 贫铀表面激光氮化层的结构和氧化动力学研究
- 2018年
- 为了研究激光氮化对金属铀表面结构和性质的影响,利用X射线衍射结合原位高温反应器,研究了不同激光氮化工艺后的贫铀表面结构,并对不同温度下UN的氧化过程进行了原位XRD实验分析,获得了相应条件下的氧化动力学曲线。结果显示,激光扫描速率对贫铀表面氮化层的相结构有显著影响,较快的扫描速率能够获得单一的UN结构,较慢的扫描速率将获得UN和U_2N_3的双相混合层。氧化动力学实验表明,表面激光氮化制备的UN层对基材有很好的保护作用,能够显著降低金属铀的氧化腐蚀速率。较低的温度下UN层的氧化非常缓慢,温度升至180℃以上时氧化速率明显加快,其氧化动力学曲线与贫铀有明显差异,文中对此现象和氮化层的氧化机制进行了分析和讨论。
- 张延志张永彬管卫军陈志磊胡殷刘柯钊汪小琳
- 关键词：氮化铀氧化动力学激光氮化
- 大气环境中铀表面结构XRD研究被引量：5
- 2003年
- 利用X射线衍射仪和Rietveld方法研究了金属铀在大气环境中经长时间氧化后表面结构与成分的变化。结果表明,铀表面UO2含量随时间分为两个增长阶段:1)扩散控制阶段,在金属铀表面快速形成一层氧化膜,UO2含量增加较快;2)线性增长阶段,出现在反应后期,UO2含量增长缓慢。在氧化过程中,金属铀晶体结构中的原子坐标y值不稳定,随时间呈现一定的上升趋势。
- 张延志汪小琳管卫军陈勇忠赖新春王勤国
- 关键词：大气环境铀UO2
- 铀表面磁控溅射镍镀层的电化学腐蚀行为研究被引量：2
- 2014年
- 采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层,利用电化学测试技术研究了镍镀层在Cl-溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明:在含50μg/g Cl-的KCl溶液中,镍镀层的腐蚀电位-100.8mV高于贫铀的腐蚀电位-641.2mV,相对于贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护基于对腐蚀介质的物理屏障;镀镍贫铀样品的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,其腐蚀电流远小于贫铀;约70h的连续腐蚀实验中镍镀层未出现镀层破裂、剥落现象,且腐蚀电位、电流保持稳定。说明镍镀层对贫铀基体具有良好的防腐蚀性能。
- 陈林李科学王庆富王小红管卫军
- 关键词：贫铀磁控溅射镍镀层电化学腐蚀
- 脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射镀镍层显微形貌与组织结构的影响研究
- 采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层，利用X 射线衍射技术、电子扫描显微观察研究了镍镀层在不同阴极偏压下的组织结构和显微形貌。结果表明：镍镀层为立方结构，随着阴极偏压幅值的增加结晶取向发生变化;镍镀层断面显微...
- 陈林魏强龙重王庆富郎定木管卫军
- 关键词：磁控溅射镍镀层显微形貌
- 脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射镀镍层显微形貌与组织结构的影响研究
- 采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层,利用X射线衍射技术、电子扫描显微观察研究了镍镀层在不同阴极偏压下的组织结构和显微形貌。结果表明:镍镀层为立方结构,随着阴极偏压幅值的增加结晶取向发生变化;镍镀层断面显微形...
- 陈林魏强龙重王庆富郎定木管卫军
- 关键词：磁控溅射镍镀层显微形貌
- 文献传递
