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田雨

作品数:7 被引量:14H指数:2
供职机构:河北工业大学更多>>
发文基金:天津市自然科学基金国家科技重大专项河北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇机械抛光
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇CMP
  • 1篇带宽
  • 1篇低压
  • 1篇电感
  • 1篇电感电流
  • 1篇电流
  • 1篇仪表
  • 1篇仪表放大器
  • 1篇抑制比
  • 1篇硬盘
  • 1篇占空比
  • 1篇折叠共源共栅
  • 1篇铜互连
  • 1篇铜互连线
  • 1篇能源
  • 1篇能源管理
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光速率

机构

  • 7篇河北工业大学
  • 1篇天津大学

作者

  • 7篇田雨
  • 2篇刘效岩
  • 2篇王胜利
  • 2篇刘玉岭
  • 2篇檀柏梅
  • 2篇马迎姿
  • 2篇邢少川
  • 1篇王辰伟
  • 1篇李振霞
  • 1篇牛新环
  • 1篇项霞
  • 1篇刘利宾
  • 1篇高宝红
  • 1篇胡轶
  • 1篇宋益伟
  • 1篇杨立兵
  • 1篇赵毅强

传媒

  • 2篇半导体技术
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2022
  • 1篇2018
  • 4篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
多相交错并联Buck变换器抗开关噪声干扰的电流采样方法
本发明公开了一种多相交错并联Buck变换器抗开关噪声干扰的电流采样方法,首先确定不同占空比下多相交错并联Buck变换器在开关周期内的干扰点位置;然后,根据约束条件获取获取不同占空比下开关周期内所有的采样点对;根据不同占空...
田雨韩伟健
300mm铜膜低压CMP速率及一致性被引量:6
2011年
随着铜互连结构中低k介质的应用,要求CMP抛光过程中必须将压力减小到6.89kPa以下,传统的化学机械抛光已不符合当前的工艺要求,如何兼顾超低压力下抛光速率和速率一致性成为关键问题。对300mm Blanket铜膜进行了低压化学机械抛光实验,分析研究了碱性抛光液组分及抛光工艺参数对铜膜去除速率及其一致性的影响。通过实验可得,在低压力1kPa,流量200mL/min,转速30r/min,氧化剂体积分数2%,磨料体积分数30%,螯合剂体积分数3%时,抛光速率为330nm/min,表面非均匀性为0.049,抛光后表面粗糙度为0.772nm,得到了较为理想的实验结果。
邢少川刘玉岭刘效岩田雨胡轶王辰伟
关键词:低压碱性抛光液抛光速率
合同能源管理在A节能装备公司热泵产品中的应用案例研究
随着社会经济发展水平的提升,能源需求量日益增加,如何科学地使用能源、维护生态稳定、发展绿色低碳经济成为社会普遍关注的话题。合同能源管理模式已在世界范围内广泛应用,并在节能减排、改善环境方面作出了重要贡献。目前我国合同能源...
田雨
关键词:合同能源管理热泵节能量
300mm铜膜低压低磨料CMP表面粗糙度的研究被引量:7
2011年
随着集成电路特征尺寸的减小、低k介质的引入及晶圆尺寸的增加,如何保证在低压无磨料条件下完成大尺寸铜互连线平坦化已经成为集成电路制造工艺发展的关键。采用法国Alpsitec公司的E460E抛光机在低压低磨料的条件下,研究了12英寸(1英寸=25.4 mm)无图形(blanket)铜膜CMP工艺和抛光液配比对抛光表面质量的影响。实验结果表明,在压力为0.65 psi(1 psi=6.89×103 Pa),抛光液主要成分为体积分数分别为5%的螯合剂、2%的氧化剂和3%的表面活性剂。抛光后表面无划伤,表面非均匀性为0.085,抛光速率为400 nm.min-1,表面粗糙度为0.223 nm,各参数均满足工业化生产的需要。
田雨王胜利刘玉岭刘效岩邢少川马迎姿
关键词:铜互连线粗糙度化学机械抛光
一种用于角度传感器中的仪表放大器被引量:1
2011年
主要设计了一种用于角度传感器系统中的仪表放大器。为了满足角度传感器系统中对信号频率的要求,需要仪表放大器的带宽足够宽能够达到3.3 MHz。该电路采用标准三运算放大器结构电路,以折叠共源共栅结构的放大器为基础,对共模信号进行抑制,对差分信号进行放大,提高了放大器的精度,增大了仪表放大器的带宽。采用Chartered 0.35μm CMOS双栅工艺对电路进行仿真和流片验证,测试结果表明:在0.8~2.85 V内,仪表放大器的共模抑制比达到了102 dB,带宽能够达到3.3 MHz,输出摆幅为1.7 V,电路功能良好,达到了设计要求,该电路可用于汽车电子以及医疗设备系统。
马迎姿檀柏梅赵毅强宋益伟田雨
关键词:仪表放大器角度传感器共模抑制比高带宽折叠共源共栅
计算机硬磁盘基片化学机械抛光机理与技术研究
王胜利檀柏梅李振霞牛新环高宝红田雨杨立兵刘利宾项霞
随着计算机硬盘存储密度大幅度增加,硬盘的存储容量飞速扩大,硬盘磁头的飞行高度进一步降低,必须对硬磁盘基片进行平坦化,以降低表面粗糙度和波纹度,同时必须消除凹坑、突起、划痕等表面缺陷。要求硬磁盘基片表面粗糙度和波纹度达到埃...
关键词:
关键词:计算机硬盘机械抛光
基于模糊聚类和改进混合蛙跳的协同过滤推荐
随着互联网的不断崛起,网络信息资源迅速膨胀,出现了严重的信息过载现象,导致人们很难找到自己想要的信息,于是推荐系统应运而生,能够帮助用户更快更准确地从杂乱无章的信息中找到其所需要的信息,一定程度上缓解了信息过载现象。协同...
田雨
关键词:协同过滤模糊C-均值聚类混合蛙跳算法
文献传递
共1页<1>
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