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杨磊磊

作品数：40 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 38篇专利
  • 2篇科技成果

领域

  • 8篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 3篇理学

主题

  • 18篇光刻
  • 12篇多层膜
  • 11篇纳米
  • 10篇衍射
  • 9篇等离子体
  • 9篇超分辨
  • 8篇掩模
  • 8篇表面等离子体
  • 7篇透镜
  • 7篇金属
  • 6篇纳米加工技术
  • 6篇光刻胶
  • 5篇刻蚀
  • 5篇成像
  • 4篇湿法腐蚀
  • 4篇牺牲层
  • 4篇离子束
  • 4篇离子束刻蚀
  • 4篇空间频率
  • 4篇光场

机构

  • 40篇中国科学院

作者

  • 40篇杨磊磊
  • 39篇罗先刚
  • 39篇赵泽宇
  • 38篇王长涛
  • 32篇王彦钦
  • 27篇黄成
  • 26篇陶兴
  • 22篇冯沁
  • 17篇胡承刚
  • 14篇刘玲
  • 12篇刘利芹
  • 11篇姚纳
  • 10篇刘凯鹏
  • 10篇蒲明薄
  • 9篇杨欢
  • 8篇高平
  • 7篇崔建华
  • 6篇罗云飞
  • 6篇赵波
  • 6篇沈同圣

年份

  • 2篇2016
  • 6篇2015
  • 7篇2014
  • 11篇2013
  • 12篇2012
  • 1篇2010
  • 1篇2000
共 40 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法
本发明提供一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法，该方法选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让一定偏振态的单色光垂直于金属膜上表面入射；选取金属膜上表面的中心点为坐标原点，过中心点的坐标轴分别为x轴和...
罗先刚赵泽宇王长涛冯沁王彦钦胡承刚黄成陶兴杨磊磊姚纳
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一种尖劈型超透镜的制备方法
本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做...
罗先刚王长涛赵泽宇冯沁刘凯鹏胡承刚黄成杨磊磊陶兴张鸶懿
一种超长工作距表面等离子体超衍射光刻装置及方法
本发明公开一种超长工作距表面等离子体超衍射光刻装置及方法，该装置包括以下结构，光学棱镜，光学棱镜底面沉积的是一层金属薄膜，金属薄膜下沉积了一层光电转换材料膜层，光学棱镜放置在涂敷有电子光刻胶的光学基片表面上方。该方法采用...
罗先刚冯沁王长涛赵泽宇王彦钦杨欢黄成杨磊磊陶兴姚纳
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一种双平面超分辨成像透镜的制备方法
本发明提供一种双平面超分辨成像透镜的制备方法，其步骤为：在紫外透明的基片上制备亚微米级深度的平底凹槽，凹槽平行于基片表面的截面形状为圆形、正方形、正八边形或长方形；在基片上涂布一层银的前驱体溶液，银的前驱体溶液在表面张力...
罗先刚赵泽宇王长涛刘凯鹏冯沁胡承刚黄成杨磊磊陶兴张鸶懿
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一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜
本发明提供一种实现曲面到平面超分辨缩小成像光刻的透镜，该透镜包括：可以传输光的平面多层金属-介质膜、可以缩小成像的曲面多层膜、金属掩模结构、粘连剂层及基底。本发明所述透镜简单，可行性高，只需要常规的涂胶、光刻和工艺镀膜，...
罗先刚赵泽宇王彦钦冯沁王长涛罗云飞陶兴黄成杨磊磊姚纳
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一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法
本发明公开了一种波导共振耦合表面等离子体光场的激发和调控方法，采用器件主要由透明基底、纳米结构层和波导共振多层膜构成。对于确定波长的平面波照射透明基底，透明基底上的纳米结构层将照明平面波衍射为各级次平面波。利用波导共振多...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦姚纳胡承刚蒲明薄王炯刘利芹杨磊磊
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移动掩模法制作连续浮雕微透镜列阵
陈波杜春雷曾红军郭履容王菁潘丽邓启凌周礼书邱传凯罗红心白临波王永茹林大键候德胜杨磊磊
该项目针对科学领域对连续浮雕微透镜列阵（CMLA）的需求，提出和研究了制作CMLA的新方法----移动掩模连续光刻技术。该方法采用投影光刻或接近接触式光刻设备，通过对掩模结构的特殊设计、曝光过程中掩模的位移控制、及光刻材...
关键词：
关键词：微透镜列阵
一种光栅辅助纳米成像的光刻方法
本发明提供一种光栅辅助纳米成像的光刻方法，纳米物体或纳米图形掩模位于物方区域，在纳米物体或纳米图形掩模前放置一物方光栅，该光栅作用在于将高频倏逝波转化为传输波；在物方光栅外的远场区域放置一光学成像镜头组，利用该镜头组实现...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦黄成陶兴刘玲杨磊磊蒲明薄杨欢
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一种超衍射材料光传输特性的测试分析方法
本发明公开了一种超衍射材料光传输特性的测试分析方法，利用测试激发光栅、待测超衍射材料样品和检测光栅实现测试分析，其特点是：光源从激发光栅侧入射，产生多级携带高空间频率的衍射波，然后通过待测超衍射材料样品，样品的透射波与检...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦陶兴黄成蒲明薄杨欢刘利芹杨磊磊
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一种利用两次离子束刻蚀技术制备成像面为平面的超透镜制备方法
本发明提供一种利用两次离子束刻蚀技术制备成像面为平面的超透镜制备方法，其主要步骤为：利用IBE刻蚀半圆柱形沟槽得到和其曲率半径相同但是径深减小的圆弧形曲面沟槽，然后在圆弧形曲面沟槽内沉积多层膜，之后利用IBE对多层膜进行...
罗先刚赵泽宇王长涛王彦钦高平刘玲冯沁黄成杨磊磊陶兴
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