李新曦
- 作品数：5 被引量：16H指数：3
- 供职机构：南昌大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：江西省自然科学基金上海市自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学电气工程电子电信更多>>
- 基于PZT薄膜的集成光学谐振腔结构的制备及其光学性质
- 本文的主要工作是利用磁控溅射法制备集成光学谐振腔结构来提高的PZT薄膜红外吸收率。制备了LaNiO3(LNO)薄膜—PZT薄膜—LNO薄膜和LNO薄膜—PZT薄膜—Pt薄膜两种集成光学谐振腔。主要结果有：
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- 李新曦
- 关键词：光学谐振腔铁电薄膜集成光学谐振腔结构红外吸收
- 文献传递
- 组分离子浓度对铁电铌酸钾锂晶体Raman光谱的影响被引量：3
- 2005年
- 测量了一批不同组分的铌酸钾锂晶体Raman光谱,发现晶体中位于C格位的Li离子浓度对晶体Raman光谱产生了强烈的影响:低Li含量晶体中[NbO6]7-八面体所对应的3个Raman特征光谱线没有发生峰分裂,在100～400cm-1范围出现的小峰与C格位Li离子浓度相关;当晶体中Li离子浓度增加时,与v5所对应的Raman峰在散射几何为X(ZY)Z对应的光谱中加宽,v2振动模式在两种散射几何中均出现分裂峰,并在100～400cm-1范围出现小峰数量增多;当Li离子浓度接近晶体化学组分时,微扰进一步加强,v5所对应峰分裂成3个峰,v1和v2振动模式发生部分分裂,在100～400cm-1范围小峰更为突出.
- 万尤宝杨培志吴宇容袁国祥李新曦Rong-Min Kang
- 关键词：铁电晶体
- 后退火温度对溅射沉积Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜结构和性能的影响被引量：8
- 2003年
- 在具有Ti缓冲层的Pt(111)底电极上,用射频溅射工艺在较低的衬底温度(370℃)和纯Ar气氛中沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜,沉积过程中基片架作15°摇摆以提高膜厚的均匀性。然后将样品在大气中进行5min快速热退火处理,退火温度550-680℃。用XRD、SEM分析薄膜的微结构,RT66A标准铁电测试系统测量样品的铁电和介电性能。结果表明,所沉积的Pt为(111)取向,仅当后退火温度高于580℃,沉积在Pt(111)上的PZT薄膜才能形成钙钛矿结构的铁电相,退火温度在580-600℃时结晶为(110)择优取向,退火温度高于600℃时结晶为(111)择优取向。PZT薄膜的极化强度随退火温度的升高而增加,但退火温度超过650℃时漏电流急剧上升,因此退火处理的温度对PZT薄膜的结构和性能有决定性的影响。
- 赖珍荃李新曦俞进王根水郭少令褚君浩
- 关键词：PZT铁电薄膜铁电性能射频磁控溅射
- 溅射沉积功率对PZT薄膜的组分、结构和性能的影响被引量：5
- 2004年
- 用射频 (RF)溅射法在镀LaNiO3 (LNO)底电极的Si片上沉积PbZr0 .52 Ti0 .48O3 (PZT)铁电薄膜 ,沉积过程中基底温度为 370℃ ,然后在大气环境中对沉积的PZT薄膜样品进行快速热退火处理 (6 5 0℃ ,5min) .用电感耦合等离子体发射光谱 (ICP AES)测量其组分 ,X射线衍射 (XRD)分析PZT薄膜的结晶结构和取向 ,扫描电子显微镜 (SEM)分析薄膜的表面形貌和微结果 ,RT6 6A标准铁电综合测试系统分析Pt/PZT/LNO电容器的铁电与介电特性 .结果表明 ,PZT薄膜的组分。
- 李新曦赖珍荃王根水孙璟兰赵强褚君浩
- 关键词：射频溅射钙钛矿结构铁电薄膜PZT
- 电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响被引量：1
- 2007年
- 采用射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)工艺在Si片上分别制备Pt/Ti和LaNiO3(LNO)底电极,然后在不同的底电极上沉积PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)铁电薄膜,在大气环境中对沉积的PZT薄膜进行快速热退火处理(RTA)。用X射线衍射(XRD)分析PZT薄膜的相结构和结晶取向,原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌和微结构。再沉积LNO作为顶电极制成"三明治"结构的LNO/PZT/Pt和LNO/PZT/LNO样品,用RT66A标准铁电测试系统分析样品的电学特性,傅立叶红外光谱仪分别测得样品的反射谱和透射谱。分析了不同电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响。
- 张景基赖珍荃王震东李新曦钟双英范定寰黄志明
- 关键词：射频磁控溅射PZT铁电薄膜
