李敏
- 作品数：5 被引量：7H指数：2
- 供职机构：复旦大学现代物理研究所更多>>
- 发文基金：上海市教育委员会重点学科基金国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程更多>>
- RBS和XRD研究Fe、N共掺ZnO薄膜的制备
- 用热氧化Zn3N2∶Fe薄膜成功制备了一组Fe、N共掺杂的ZnO薄膜.首先,用射频反应磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备Zn3N2∶Fe薄膜；然后,这些薄膜在不同温度、氧气气氛下退火2h.卢瑟福背散射(RBS)和X射线衍射...
- 张斌荣丽媛李敏王建中施立群
- 关键词：XRD热氧化法
- SR-XRD和EXAFS研究Mn掺杂ZnO薄膜的微观结构被引量：3
- 2012年
- 用射频磁控溅射技术在蓝宝石衬底上制备了一组不同衬底温度的Mn掺杂ZnO薄膜。质子激发X射线荧光(PIXE)测量表明,薄膜中仅有含量为5 at.%的Mn,未见其它磁性杂质元素(如Fe、Co、Ni等)。同步辐射X射线衍射(SR-XRD)表明,这些Mn掺杂ZnO薄膜具有纤锌矿ZnO结构。SR-XRD和扩展X射线吸收精细结构谱(EXAFS)分析显示,薄膜中未发现Mn团簇或MnO、MnO2、Mn2O3、Mn3O4等二次相,Mn原子是通过替代Zn原子而进入了ZnO晶格。
- 张斌李敏王建中施立群承焕生杨铁莹文闻胡凤春
- 关键词：微观结构
- SiO_2/Si表面电子谱的因子分析法研究被引量：1
- 1994年
- 用因子分析法在扫描俄歇微探针（SAM）上研究了SiO2／Si的俄歇深度剖面分析。采用Ar＋离子刻蚀SiO2／Si样品，分别采录具有高表面灵敏度和化学态灵敏度的低能SiLVV俄歇跃迁和OKLL俄歇跃迁。用因子分析法可得到一致的结果：SiO2／Si界面上存在中间过渡化学态SiOx（0＜x＜2），以及SiO2经Ar＋离子刻蚀后产生少量（约10％）的SiOx及相当一部分（约30％～50％）的SiO2的另一状态SiO2*。
- 李敏张勇陆明张强基
- 关键词：氧化硅硅
- RBS和XRD研究Fe、N共掺ZnO薄膜的制备被引量：1
- 2013年
- 以Zn3N2:Fe为前驱物,用热氧化法在石英玻璃衬底上成功制备了一组Fe、N共掺杂的ZnO薄膜。用卢瑟福背散射(RBS)和X射线衍射(XRD)研究了Zn3N2:Fe在不同热氧化温度下的退火行为和结构演变。实验结果显示:刚长成的样品为Zn3N2:Fe薄膜;300oC氧化后,样品表层的Zn3N2:Fe转化为ZnO:(Fe,N),表层以下的膜层未被氧化;退火温度高于400oC时,Zn3N2:Fe薄膜全部转化为多晶结构的ZnO:(Fe,N)薄膜;500oC退火,薄膜开始向衬底扩散;600oC–700oC退火,薄膜向衬底扩散明显。在XRD灵敏度范围内,薄膜中未发现Fe团簇或与Fe相关的二次相(如Fe3O4、Fe2O3、FeO)。SQUID测量显示:在500oC退火条件下,ZnO:(Fe,N)薄膜的室温饱和磁化强度(Ms)最大。
- 张斌荣丽媛李敏王建中施立群
- 关键词：卢瑟福背散射热氧化法ZNO
- 因子分析法在Ta_2O_5/Ta俄歇深度剖析上的应用被引量：2
- 1993年
- 将一种基于多元统计方法的因子分析法用于俄歇深度剖面分析,采用Ar^+离子轰击Ta_2O_5/Ta样品,俄歇峰采用具有高表面灵敏度和化学态灵敏的NOO俄歇跃迁,用因子分析可得到Ta的三种可区别的不同化学态即Ta、Ta_2O_5和Ta_xO_y,并且能提高探测灵敏度。
- 李敏张强基
- 关键词：俄歇电子谱法氧化钽钽
