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周卓帆

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇第一性原理
  • 2篇GAN
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化物
  • 1篇氮化镓
  • 1篇第一性原理研...
  • 1篇电子结构
  • 1篇迁移
  • 1篇迁移率
  • 1篇子结构
  • 1篇钛酸
  • 1篇钛酸钡
  • 1篇物理参数
  • 1篇纤锌矿
  • 1篇化物
  • 1篇二维电子
  • 1篇二维电子气
  • 1篇ALN
  • 1篇BATIO3
  • 1篇INN

机构

  • 3篇电子科技大学

作者

  • 3篇周卓帆
  • 2篇张继华
  • 2篇杨传仁
  • 2篇陈宏伟
  • 2篇赵强
  • 2篇刘伟
  • 1篇刘颖

传媒

  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇物联网技术

年份

  • 3篇2012
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
双轴应变下GaN有效质量的计算及其对迁移率的影响
2012年
通过计算双轴应变下氮化镓的电子能带结构,给出了GaN有效质量与应变的变化关系。在弛豫时间近似的条件下,这种关系决定了双轴应变AlGaN/GaN中二维电子气(2DEG)的迁移率的改变。在其他物理参量不变的情况下,这种二维电子气迁移率将随着张应变的增加而增加,并随着压应变的增加而减小。计算结果表明,张应变对2DEG迁移率的影响要比压应变大。此外,GaN有效质量的变化在低温时对迁移率的作用更明显。而在低温低浓度的条件下,迁移率却对有效质量的依赖很小。
刘伟张继华周卓帆刘颖杨传仁陈宏伟赵强
关键词:迁移率二维电子气
双轴应变对纤锌矿GaN、AlN、InN及其合金电子有效质量的影响(英文)
2012年
利用第一性原理计算方法密度泛函理论的局域密度近似计算了纤锌矿氮化铝(AlN)、氮化镓(GaN)、氮化铟(InN)及其合金在双轴应变下的电子有效质量。对于GaN和AlN,张应变使电子有效质量增大而压应变使电子有效质量减少,但却使InN电子有效质量在张应变和压应变下都增大。由于三元合金(AlxGa1-xN,InxGa1-xN和AlxIn1-xN)与GaN异质结的新颖特性,同时计算了三元合金在松弛和应变下电子有效质量的变化趋势。受制于GaN基板的平面应力,外延AlxGa1-xN和AlxIn1-xN电子有效质量将减少,而InxGa1-xN电子有效质量增大,且随着In含量变大而更显著。对铟氮化合物应变下电子有效质量异常的机制也做了讨论。
周卓帆张继华刘伟杨传仁陈宏伟赵强
关键词:第一性原理
应变GaN与BaTiO3电子结构和物理参数的第一性原理研究
GaN等Ⅲ族氮化物半导体作为下一代新型宽禁带半导体在发光领域和高电子迁移率晶体管等方面得到广泛的研究和应用,而无论在异质外延薄膜的制备还是异质结器件的设计应用过程中,存在的界面应力对材料的基本性质和器件性能都有不可忽视的...
周卓帆
关键词:氮化镓钛酸钡电子结构物理参数第一性原理
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共1页<1>
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