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吴鼎祥

作品数:12 被引量:48H指数:3
供职机构:上海大学理学院更多>>
相关领域:电子电信理学电气工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 12篇中文期刊文章

领域

  • 8篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇激光
  • 2篇电池
  • 2篇电路
  • 2篇振子
  • 2篇太阳电池
  • 2篇全息
  • 2篇全息光栅
  • 2篇准分子
  • 2篇准分子激光
  • 2篇减反射膜
  • 2篇光学
  • 2篇光栅
  • 2篇非晶
  • 2篇分子
  • 2篇SPP
  • 1篇等离激元
  • 1篇点运算
  • 1篇电路板
  • 1篇掩模
  • 1篇印刷电路

机构

  • 9篇上海大学
  • 3篇上海科学技术...
  • 2篇上海空间电源...
  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 12篇吴鼎祥
  • 2篇杨文华
  • 2篇李红波
  • 1篇傅志晖
  • 1篇徐克西
  • 1篇李娇
  • 1篇薛忠杰
  • 1篇程东方
  • 1篇梅其元

传媒

  • 3篇光子学报
  • 2篇Journa...
  • 2篇应用科学学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇应用激光
  • 1篇微电子学
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇上海大学学报...

年份

  • 2篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇2002
  • 1篇1996
  • 1篇1995
  • 3篇1994
  • 2篇1993
  • 1篇1992
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
空间高效硅太阳电池减反射膜设计与数值分析被引量:16
2004年
结合 AM0太阳光谱特性对空间硅太阳电池的减反射膜进行了设计分析 ,得到了最小反射时的最佳膜厚 .分别讨论了单、双、三层减反射膜厚度变化对反射率的影响 ,并对有钝化层的 Si O2 (94 nm) / Ti O2 (6 0 nm)双层减反射膜进行了优化设计 ,优化后硅太阳电池的短路电流和效率分别提高了 2 .1%和 1.4 % .
杨文华吴鼎祥李红波
关键词:减反射膜反射率
无掩模全息衍射光栅的形成
1993年
本文主要讨论利用激光的光化学反应,在Ag金属膜表面、GaAs半导体表面无掩模全息衍射光栅的形成。
吴鼎祥孙迺疆
关键词:掩模
n-GaAs表面全息光栅的形成及表面等离振子电磁耦子发光测定被引量:2
1992年
本文讨论n-GaAs表面采用H_2O_2-H_2SO_4系光加速腐蚀形成衍射光栅的方法,以及Ag/n-GaAs肖脱基势垒二极管表面等离振子电磁耦子发光的测定。
吴鼎祥
关键词:全息光栅SPP激光
光激励C_2HCl_3原子团对铜薄膜的微细刻蚀被引量:1
1995年
本文主要讨论在由O_2携带的C_2HCl_3气氛中,利用准分子激光对铜薄膜印刷板进行微细刻蚀的机理和实验研究结果.
吴鼎祥
关键词:光激励铜薄膜
激光CVD制备a-Si∶H/a-SiC∶H多层非晶薄膜的方法及其光学特性研究
1993年
介绍利用激光的光化学反应来分解气体制备α-Si:H/α-SiC:H多层非晶薄膜的方法,并对应用XPS等手段测得的这种非晶薄膜的光学特性进行了讨论.
吴鼎祥
关键词:光学性质
太阳电池减反射膜设计与分析被引量:20
2004年
根据光学薄膜原理,利用计算机程序对太阳电池减反射膜进行模拟仿真,得到反射率R(λ)与波长λ的关系曲线,并利用曲线对减反射膜进行优化.设计出几种常用材料制备单、双、三层减反射膜时的最佳膜系参数,为太阳电池减反射膜的制备提供理论依据.分析了电池封装和电池表面钝化对反射曲线的影响,并验证了实验结果.
杨文华李红波吴鼎祥
关键词:太阳电池减反射膜
GaAs表面等离激元偏振子的激励以及它的偏光依赖性
1994年
本文讨论GaAs表面采用CH3Br:He=1:99系光加速腐蚀形成全息衍射光栅的方法、GaAs表面等离激元偏振子的激励以及它的偏光依赖性.
吴鼎祥
关键词:SPP振子全息光栅
载气对固体表面光化学微刻蚀的影响
1996年
本文主要讨论利用准分子激光对铜薄膜印刷电路板进行微刻蚀过程中,载气对微刻蚀的影响。
吴鼎祥
关键词:准分子激光光化学反应集成电路
非晶超晶格多层膜的形成及其光学特性的研究
1994年
介绍利用波长为193nm的ArF准分子激光的光化学反应,分解Si_2H_6和C_2H_2原料气体制备a-Si:H/a-Sic:H非晶超晶格多层膜以及讨论这种膜的量子尺寸效应,紫外吸收等光学特性.
吴鼎祥徐克西
关键词:超晶格半导体光学特性
激基激光对铜膜印刷板表面微细蚀刻的初期化过程被引量:1
2002年
用 Kr F激基激光 ,在稀释的 Cl2
吴鼎祥
关键词:表面处理
共2页<12>
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