何智兵
- 作品数：203 被引量：243H指数：10
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国防科技重点实验室基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>
- 射频功率对氢气与反式二丁烯的低压电感耦合等离子体的影响（英文）
- 2016年
- 利用等离子体聚合技术制备的GDP壳层是目前ICF靶丸的主要烧蚀层材料。为了了解GDP薄膜沉积过程中的CH等离子体的状态,采用朗缪尔探针和质谱仪对C4H8/H2等离子体的组分和状态参数进行了诊断,并对等离子体的电子能量分布函数、电子密度、电子温度等进行了深入分析。同时讨论了等离子体状态与放电参数之间的关系。研究发现,射频功率对等离子体参数有明显的影响。从10W到35W,电子密度正比于射频功率。随着射频功率的增加,在两步电离机制作用下,电子温度和等离子体电势呈现先减小后增大的变化趋势。另外,在高气压下,质谱诊断中发现了大量的稳定的小质量碎片离子,这表明在高气压下等离子体气相中的离子碎片聚合反应被抑制。
- 陈果何智兵何小珊张玲唐永建
- 关键词：质谱仪等离子体诊断
- 空心微球表面抛光装置及方法
- 本发明公开了一种空心微球表面抛光装置及方法，涉及惯性约束聚变用靶丸制备领域，解决空心微球按现有抛光装置及方法进行抛光，空心微球表面易产生微小划痕导致表面粗糙度差的问题。本发明采用的方案是：空心微球表面抛光装置，包括驱动部...
- 刘艳松何智兵陈果谢军黄景林易泰民汪建何小珊王涛谢春平
- 辐射烧蚀CH掺杂Si、Ge样品的透射能流研究
- 激光聚变点火靶通常由烧蚀层、DT冰层及DT气体组成。烧蚀层是实现内爆的动力来源，需在外源作用下产生高的烧蚀速率，以及抑制高能X射线对DT冰的预热，在低Z材料中掺杂中高Z元素可满足该种需求。
- 张璐杜凯杨家敏李丽灵江少恩张继彦郭亮李志超赵阳何智兵袁光辉
- 关键词：掺杂预热
- B掺杂对Ti薄膜结构与性能的影响被引量：2
- 2012年
- 采用双靶共溅射方法制备了微量B掺杂的Ti薄膜样品,利用X射线光电子能谱、扫描电子显微镜和X射线衍射仪对样品的掺杂原子浓度、表面形貌、晶型结构、晶粒尺寸和应力进行了分析表征.研究表明:掺杂后的Ti薄膜晶粒得到明显细化,并随着掺杂浓度的增大,薄膜的晶粒尺寸呈减小趋势,当掺杂浓度为5.50 at%时,Ti薄膜晶粒尺寸减小为1.3 nm,呈现出致密的柱状结构.B掺杂后的Ti薄膜应力由压应力转变为张应力.
- 张玲何智兵廖国谌家军许华李俊
- 制备参数对辉光放电聚合物薄膜力学与热稳定性能的影响
- 在惯性约束聚变(ICF)靶丸制备中,辉光放电聚合物(GDP)靶丸具有及其重要地位,其不仅作为点火实验的首选靶丸,而且也可被用作气相沉积聚酰亚胺和铍(Be)靶丸的芯轴。因而GPD靶丸的制备技术成为靶丸制备技术的研究重点。国...
- 何智兵阳志林严建成冯建鸿张林
- 文献传递
- 消除微球表面静电的装置及方法
- 本发明公开了一种消除微球表面静电的装置及方法，解决现有消除微球表面静电的装置在大气下进行，会引入杂质以导致微球表面氧化的问题，采用的技术方案是：消除微球表面静电的装置，包括石英谐振腔以及盘绕于石英谐振腔外侧的天线，天线为...
- 张玲陈果何小珊何智兵王涛刘艳松李俊
- 文献传递
- 空心微球上Al-W多层涂层的制备与表征
- 2018年
- 在惯性约束聚变研究中,高-低Z金属涂层对提高靶丸的性能具有重要的作用。本实验采用直流磁控溅射技术和驱动微球运动的倾斜旋转托盘与敲击装置,在GDP空心微球表面溅射了不同工作气压的Al-W多层涂层,利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)研究气压变化对多层涂层质量的影响规律。结果表明:多层涂层的厚度均匀性好,达90%以上,涂层均呈致密的柱状晶生长,残余应力小,涂层质量受工作气压影响显著。涂层结构的致密度随气压增大而下降,涂层的形貌与颗粒尺寸发生相应的变化,致使多层涂层的表面粗糙度随气压增大呈现出先减小后增大的变化趋势。当工作气压为0.5Pa时,Al-W涂层的综合性能最好,表面颗粒形貌为细小均匀的塔形,表面粗糙度值低至331.1nm,残余应力小。
- 孙书兵刘艳松何小珊王锋何智兵黄景林刘磊
- 关键词：工作气压柱状晶表面粗糙度
- 气浮式微球运动装置
- 本发明提供了一种气浮式微球运动装置。所述装置中，通过气体分流杯的气流将微球带离微球盘，依据不同直径的微球与不同大小的气体流量，微球将停留在距微球盘不同的高度悬停下来，并伴随随机的自转运动。气体分流杯中圆周外沿的四排气体管...
- 何小珊何智兵刘艳松许华陈志梅李玉红
- 文献传递
- 用于ICF的非晶SiC微球制备及微观结构研究被引量：3
- 2017年
- 以四甲基硅烷、反式二丁烯和氢气为工作气源,采用化学气相沉积-高温热解法成功制备了壁厚约21μm的非晶SiC微球。利用能量色散X射线光谱仪、X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪、Raman光谱仪、扫描电子显微镜、白光干涉仪和X射线照相机对SiC微球的化学成分、结晶状态、表面形貌与粗糙度以及密度与球形度等进行了测量和分析。结果表明:在无氧环境下,通过450~900℃的高温热解及致密化可将在聚α甲基苯乙烯芯轴上沉积的掺硅碳氢聚合物涂层转变成致密的SiC微球。SiC微球呈非晶态,其C/Si原子比约为1.3,主要含有C—Si键和C=C键,微观结构呈无规则状且颗粒分布均匀,密度、球形度和壁厚均匀性分别为2.62 g/cm^3、99.8%和96.8%。
- 唐翠兰王涛黄景林何小珊张玲刘磊王红斌易勇何智兵
- 关键词：化学气相沉积高温热解微观结构表面粗糙度
- 溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响被引量：10
- 2011年
- 实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究。利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大。X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1～17.9nm;应力先随溅射功率的增大而增大,在40W时达到最大值(2.383GPa),后随溅射功率的增大有所减小。
- 廖国何智兵陈太红许华李俊谌加军唐永建
- 关键词：直流磁控溅射MO薄膜溅射功率表面形貌X射线衍射
