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许箭

作品数:21 被引量:25H指数:1
供职机构:中国科学院化学研究所更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:化学工程电子电信理学更多>>

文献类型

  • 11篇专利
  • 9篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 6篇化学工程
  • 4篇电子电信
  • 4篇理学

主题

  • 18篇光刻
  • 16篇光刻胶
  • 12篇紫外光刻
  • 8篇极紫外
  • 7篇极紫外光刻
  • 6篇光刻工艺
  • 5篇双酚
  • 4篇电子束光刻
  • 4篇四苯基
  • 4篇苯基
  • 3篇双酚A
  • 3篇组合物
  • 2篇旋涂
  • 2篇旋涂法
  • 2篇压印光刻
  • 2篇乙烯基
  • 2篇乙烯基醚
  • 2篇正性
  • 2篇双酚A型
  • 2篇酞菁

机构

  • 21篇中国科学院

作者

  • 21篇杨国强
  • 21篇许箭
  • 20篇王双青
  • 12篇李沙瑜
  • 10篇陈力
  • 7篇袁华
  • 6篇彭晓曼
  • 4篇胡睿
  • 2篇陈军
  • 2篇郭旭东
  • 2篇田凯军
  • 1篇熊磊

传媒

  • 2篇第十三届全国...
  • 2篇中国化学会第...
  • 1篇影像科学与光...
  • 1篇中国化学会第...

年份

  • 3篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 3篇2016
  • 3篇2015
  • 7篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
21 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
高档光刻胶材料的分子结构
本文阐述了光刻技术及其光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的分子结构进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国高档光刻胶的研发工作有所帮助。
许箭陈力田凯军胡睿李沙瑜王双青杨国强
关键词:感光材料紫外光刻分子结构
含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
<正>设计合成了含有不同中心原子(Ga,In)的八-(4-叔丁基苯氧基)取代的萘酞菁,系统研究了其光物理性质和光限幅性质,与相应的金属酞菁相比,萘酞菁具有较高的三线态量子效率,较大的三线态基态消光系数差和较宽的光限幅窗口...
王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
关键词:光限幅酞菁萘酞菁
文献传递
基于含多羟基结构分子玻璃的底部抗反射组合物及其应用
本发明涉及一种底部抗反射涂料组合物,包括:含两个或两个以上羟基结构的分子玻璃化合物、含两个或两个以上乙烯基醚封端的乙烯基醚类化合物、以及任选的产酸剂。该组合物可用于G线、365nm、248nm、193nm等光刻工艺中。可...
杨国强彭晓曼许箭袁华王双青李沙瑜
文献传递
化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用
本发明涉及一系列以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩、五苯基吡啶、四苯基双酚A、杯芳烃型双酚A为核的分子玻璃化合物为主体材料,辅以光致产酸剂、溶剂等组合而成的化学放大型光刻胶组合物。将该光刻胶组合物旋涂于基片上可制得厚度...
杨国强袁华彭晓曼王亚飞王亮乾许箭郭旭东王双青
文献传递
化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用
本发明涉及一系列以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩、五苯基吡啶、四苯基双酚A、杯芳烃型双酚A为核的分子玻璃化合物为主体材料,辅以光致产酸剂、溶剂等组合而成的化学放大型光刻胶组合物。将该光刻胶组合物旋涂于基片上可制得厚度...
杨国强袁华彭晓曼王亚飞王亮乾许箭郭旭东王双青
文献传递
以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶
本发明提供了通式(I)或(II)的以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃,以及以上述分子玻璃作为基体成分的光刻胶组合物,其包括:选自通式(I)或(II)中的一种或多种的基体成分、光致产酸剂、有机碱...
杨国强陈力许箭王双青李沙瑜
文献传递
含双酚A骨架结构的分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用
本发明涉及一系列基于双酚A为主体结构的分子玻璃光刻胶(I和II)及其制备。将该分子玻璃光刻胶与光酸产生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂复配成正性或负性光刻胶,在硅片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可...
杨国强许箭陈力王双青李沙瑜
文献传递
一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用
本发明涉及一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用。所述硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶是立体不对称的无定形小分子化合物,具有较高的熔点和玻璃化转变温度(熔点均高于100℃),能够满足光刻技术要求,在高温烘...
杨国强袁华许箭彭晓曼王亮乾王双青
新型双酚A系列光刻胶的极紫外光刻研究
本研究工作主要研制了一系列以双酚A为主体结构的新型分子玻璃化合物。其具有分子量小,单分散,热力学稳定,较高玻璃化转变温度(Tg)等优点,是理想的极紫外光刻胶主体材料。将其与产酸剂、有机碱及其他添加剂复配得到正像光刻胶溶液...
许箭王双青杨国强
关键词:光刻胶极紫外光刻光刻工艺
文献传递
含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
关键词:光限幅酞菁萘酞菁
共3页<123>
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