许箭
- 作品数：22 被引量：25H指数：1
- 供职机构：中国科学院化学研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：化学工程电子电信理学更多>>
- 高档光刻胶材料的分子结构
- 本文阐述了光刻技术及其光刻胶的发展过程，并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的分子结构进行了综述，特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍，以期对我国高档光刻胶的研发工作有所帮助。
- 许箭陈力田凯军胡睿李沙瑜王双青杨国强
- 关键词：感光材料紫外光刻分子结构
- 含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
- <正>设计合成了含有不同中心原子(Ga,In)的八-(4-叔丁基苯氧基)取代的萘酞菁,系统研究了其光物理性质和光限幅性质,与相应的金属酞菁相比,萘酞菁具有较高的三线态量子效率,较大的三线态基态消光系数差和较宽的光限幅窗口...
- 王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
- 关键词：光限幅酞菁萘酞菁
- 基于含多羟基结构分子玻璃的底部抗反射组合物及其应用
- 本发明涉及一种底部抗反射涂料组合物，包括：含两个或两个以上羟基结构的分子玻璃化合物、含两个或两个以上乙烯基醚封端的乙烯基醚类化合物、以及任选的产酸剂。该组合物可用于G线、365nm、248nm、193nm等光刻工艺中。可...
- 杨国强彭晓曼许箭袁华王双青李沙瑜
- 化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用
- 本发明涉及一系列以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩、五苯基吡啶、四苯基双酚A、杯芳烃型双酚A为核的分子玻璃化合物为主体材料，辅以光致产酸剂、溶剂等组合而成的化学放大型光刻胶组合物。将该光刻胶组合物旋涂于基片上可制得厚度...
- 杨国强袁华彭晓曼王亚飞王亮乾许箭郭旭东王双青
- 化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用
- 本发明涉及一系列以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩、五苯基吡啶、四苯基双酚A、杯芳烃型双酚A为核的分子玻璃化合物为主体材料，辅以光致产酸剂、溶剂等组合而成的化学放大型光刻胶组合物。将该光刻胶组合物旋涂于基片上可制得厚度...
- 杨国强袁华彭晓曼王亚飞王亮乾许箭郭旭东王双青
- 以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃光刻胶
- 本发明提供了通式(I)或(II)的以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩和五苯基吡啶为核的分子玻璃，以及以上述分子玻璃作为基体成分的光刻胶组合物，其包括：选自通式(I)或(II)中的一种或多种的基体成分、光致产酸剂、有机碱...
- 杨国强陈力许箭王双青李沙瑜
- 含双酚A骨架结构的分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用
- 本发明涉及一系列基于双酚A为主体结构的分子玻璃光刻胶（I和II）及其制备。将该分子玻璃光刻胶与光酸产生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂复配成正性或负性光刻胶，在硅片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可...
- 杨国强许箭陈力王双青李沙瑜
- 新型双酚A系列光刻胶的极紫外光刻研究
- 本研究工作主要研制了一系列以双酚A为主体结构的新型分子玻璃化合物。其具有分子量小,单分散,热力学稳定,较高玻璃化转变温度(Tg)等优点,是理想的极紫外光刻胶主体材料。将其与产酸剂、有机碱及其他添加剂复配得到正像光刻胶溶液...
- 许箭王双青杨国强
- 关键词：光刻胶极紫外光刻光刻工艺
- 含有较宽光限幅窗口的金属萘酞菁的光限幅增强作用
- 王双青陈力许箭陈军胡睿李沙瑜杨国强
- 关键词：光限幅酞菁萘酞菁
- 基于疏水作用力包覆三芳基硼的纳米水凝胶选择性识别Cys/Hcy
- 基于Cys、Hcy、GSH不同的疏水作用力,我们设计了一种三芳基硼化合物HTBNM,将其浸泡于聚氨酯PU纳米水凝胶,选择性识别生物硫醇Cys/Hcy.HTBNM是硼原子周围连接有两个萘和一个三异丙基苯结构,并在萘上连接有...
- 袁华许箭李沙瑜杨国强
- 关键词：荧光探针
