您的位置: 专家智库 > >

李昌敏

作品数:6 被引量:20H指数:3
供职机构:上海交通大学更多>>
发文基金:上海市教育发展基金会“曙光计划”项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术医药卫生更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇医药卫生

主题

  • 2篇微结构
  • 2篇离子刻蚀
  • 2篇刻蚀
  • 2篇反应离子
  • 2篇反应离子刻蚀
  • 2篇高深宽比
  • 2篇PMMA
  • 2篇DEM技术
  • 1篇射频识别
  • 1篇深层刻蚀
  • 1篇深刻蚀
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微机械
  • 1篇微机械电子系...
  • 1篇机电系统
  • 1篇检验检疫
  • 1篇检验检疫机构
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇光刻胶

机构

  • 6篇上海交通大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 6篇李昌敏
  • 4篇陈迪
  • 3篇倪智萍
  • 3篇毛海平
  • 2篇唐敏
  • 2篇郭晓芸
  • 1篇章吉良
  • 1篇丁桂甫
  • 1篇朱军
  • 1篇李以贵
  • 1篇杨帆
  • 1篇杨春生
  • 1篇蔡炳初
  • 1篇张卫平
  • 1篇赵小林
  • 1篇雷蔚
  • 1篇伊福廷
  • 1篇俞爱斌
  • 1篇周狄

传媒

  • 3篇微细加工技术
  • 1篇第四届全国微...
  • 1篇第五届全国微...

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2001
  • 4篇2000
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
LIGA技术X光深层光刻工艺研究被引量:8
2000年
通过在北京高能所 3W 1束线上进行的X光深层光刻工艺研究 ,获得了侧壁光滑、陡直 ,厚度达 1 0 0 μm ,深宽比达 2 0的光刻胶和金属微结构 ,表明该光束线适用于LIGA技术的研究。
陈迪李昌敏章吉良伊福廷周狄郭晓芸
关键词:LIGA技术VLSI微机电系统
DEM技术中微复制工艺研究被引量:7
2000年
利用DEM (Deepetching ,Electroforming ,Microreplication)技术获得的微复制金属模具进行了微复制工艺研究。对微复制工艺参数进行了优化 ,在PC、PMMA和POM塑料上获得了高深宽比的微结构 ,并对PC。
陈迪雷蔚李昌敏张卫平蔡炳初
关键词:DEM技术微结构
SU-8厚胶光刻工艺研究
本文对一种新的负性近紫外光刻胶SU-8的光刻工艺进行了详细研究.SU-8是一种基于环氧树脂的光刻胶,专为要求超厚和高深宽比的MEMS应用而设计,但它对工艺参数的改变非常敏感,难于控制.本文以30μm厚的SU-8为例,详细...
唐敏陈迪赵小林倪智萍朱军李昌敏毛海平
关键词:SU-8高深宽比光刻工艺光刻胶
文献传递
基于RFID的熏蒸管理系统的设计与实现
每年我国出口的集装箱箱量巨大,许多集装箱在出口之前都要经过熏蒸,以确保出口的植物产品没有病虫害。检验检疫机构在日常工作中只能检验检疫其中的一部分集装箱,这就造成了很多有“问题”的集装箱侥幸输出国外。通常采用的随机抽查查验...
李昌敏
关键词:射频识别检验检疫机构
DEM技术中PMMA深层刻蚀工艺研究
DEM技术是由上海交通大学开发出来的一种全新的三维微细加工技术.本文旨在研究DEM技术中利用反应离子刻蚀(RIE)深层刻蚀塑料PMMA的工艺.主要研究了刻蚀功率、工作气压、刻蚀气体流量等对刻蚀速率、侧壁和底部状态等的影响...
杨帆陈迪李以贵唐敏毛海平李昌敏倪智萍
关键词:DEM技术反应离子刻蚀PMMA深层刻蚀微机械电子系统
文献传递
O_(2)反应离子深刻蚀PMMA被引量:6
2000年
高深宽比结构是提高微器件性能的重要环节之一。利用RIE深刻技术加工具有高深宽比结构的图形 ,方法简单 :它不象LIGA技术那样 ,需昂贵的同步辐射光源和特制的掩模板 ,对光刻胶的要求也不是特别高 ,利用这种技术深刻蚀PMMA膜 ,以Ni作掩模 ,采用普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀的方法将Ni掩模图形化 ,然后利用O2 RIE技术刻蚀PMMA ,可以得到深度达 1 0 0 μm ,深宽比大于 1 0的微结构 ,图形表面平整 ,侧壁光滑垂直。在刻蚀过程中 ,氧气压、刻蚀功率等工艺参数对刻蚀结果影响较大。
俞爱斌丁桂甫杨春生郭晓芸李昌敏毛海平倪智萍
关键词:反应离子刻蚀高深宽比微结构PMMA
共1页<1>
聚类工具0