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张晔

作品数:13 被引量:36H指数:4
供职机构:江苏大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:江苏高校省级重点实验室开放课题国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺机械工程理学更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇一般工业技术
  • 6篇金属学及工艺
  • 3篇机械工程
  • 2篇理学

主题

  • 12篇溅射
  • 12篇磁控
  • 11篇磁控溅射
  • 4篇结合力
  • 4篇SIC薄膜
  • 3篇钢基
  • 2篇润滑
  • 2篇耐磨
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇NI
  • 2篇SIC
  • 2篇MOS
  • 1篇形状记忆
  • 1篇形状记忆合金
  • 1篇性能研究
  • 1篇中间层
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射

机构

  • 12篇江苏大学
  • 1篇东南大学
  • 1篇淮安信息职业...

作者

  • 13篇张晔
  • 7篇李长生
  • 4篇邵红红
  • 4篇田明霞
  • 3篇高建昌
  • 2篇姚固文
  • 2篇孙建
  • 2篇李学超
  • 2篇金岚
  • 1篇陈玮
  • 1篇纪嘉明
  • 1篇华戟云

传媒

  • 4篇机械工程材料
  • 2篇摩擦学学报(...
  • 1篇金属热处理
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第六届中国国...
  • 1篇第四届中国热...
  • 1篇全国首届青年...

年份

  • 2篇2009
  • 3篇2008
  • 5篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁控溅射MOS_2/Ni复合膜的制备及其摩擦性能被引量:1
2007年
采用磁控溅射法制备了MoS_2/Ni复合膜,同时对影响膜层性能的工艺参数进行了初步探讨,并对复合膜进行了成分与结构分析以及摩擦试验。结果表明:在本试验工艺参数(本底真空度为7.0×10^(-4)Pa,沉积气压为0.5 Pa,溅射功率为160 W,溅射氩气流量为80 cm^3/s,靶基距为60 mm,基片温度为70℃)下制备的MoS_2/Ni复合膜能够大大降低不锈钢等基底表面的摩擦因数,并且在高速重载的条件下具有更低的摩擦因数和更小的摩擦因数波动值。
姚固文李长生张晔
关键词:磁控溅射
钛铝系金属间化合物薄膜的制备和摩擦性能被引量:2
2008年
应用射频磁控溅射方法沉积钛铝系金属间化合物薄膜;用X射线衍射仪(XRD)、配有能谱仪(EDS)的扫描电子显微镜(SEM)和UMT-2型摩擦试验机对薄膜的相组成、形貌和摩擦性能进行了分析。结果表明:该薄膜是由TiAl、TiAl3、Al2O3和TiO2相组成;薄膜表面晶粒均匀细小;对于不同钛、铝含量的薄膜,当铝含量(原子分数)为45%时具有最低的摩擦因数;摩擦因数随着载荷、转速和摩擦时间的增加而减小。
田明霞李长生张晔金岚孙建
关键词:射频磁控溅射
磁控溅射Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究被引量:4
2009年
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAlN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对薄膜的表面状态,如粗糙度、化学成分及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分TiAlN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在Ti0.82Al0.18N和Ti0.12Al0.88N的范围内发生变化;在700℃经1h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,Ti2AlN,TiN0.30AlN,TiAlN等多种物相结构;表面粗糙度和形貌的试验结果表明了不同薄膜在不同位置的生长方式也不同;x值在0.57及0.65的薄膜具有高硬度、低粗糙度,并在摩擦过程中形成了摩擦转移膜,从而导致薄膜具有最佳的摩擦学性能.
张晔李长生李学超
关键词:TIALN薄膜反应磁控溅射
钢基SiC耐磨薄膜制备研究
材料科学的各分支中,薄膜材料科学的发展一直占据了极为重要的地位。薄膜材料是相对块体材料而言的,是人们采用特殊的方法,在块体材料的表面沉积或制备的一层与块体材料性质完全不同的物质层。薄膜材料受到重视的原因在于它往往具有特殊...
张晔
关键词:SIC薄膜磁控溅射结合力
文献传递
MoS2基复合润滑薄膜制备研究
用磁控溅射的方法在不锈钢基体上制备了MoS2/Ni薄膜并通过添加DLC中间层研究了中间层对于MoS2/Ni薄膜的影响,初步探讨了复合润滑薄膜的减摩机理.EDS与XRD试验结果显示了MoS2复合薄膜中的主要成分以及主要晶面...
张晔李长生姚固文田明霞
关键词:磁控溅射类金刚石薄膜
文献传递
磁控溅射法制备铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的力学性能研究被引量:6
2009年
Ni-Mn-Ga是一种磁致伸缩材料、它兼具形状记忆效应和磁致伸缩效应等多种功能特点,具有响应频率高,变相量大的优点。而PbZrTiO3(PZT)是一种压电陶瓷,具有力-电转换的功能,而且也具有较高的响应频率。为实现磁-力-电的快速转换,本文使用ECR磁控溅射方法在PZT压电陶瓷片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜。并研究了不同溅射功率和热处理条件对薄膜的组织形貌、成分、表面粗糙度及薄膜硬度的影响。SEM断面形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜为柱状生长模式;AFM三维形貌显示Ni-Mn-Ga薄膜生长致密,表面粗糙度随着溅射功率的增大而增大;Ni-Mn-Ga薄膜的硬度和弹性模量随退火温度的升高而增大。
金岚李长生张晔孙建李学超
关键词:NI-MN-GA形状记忆合金ECR
钢基耐磨SiC薄膜制备研究
用磁控溅射的方法在40Cr钢的表面获得了SiC薄膜.通过X射线衍射、傅里叶红外光谱分析、摩擦磨损以及划痕试验研究了工艺参数、溅射方式对薄膜性能的影响.结果表明:溅射态下制备的SiC薄膜具有非晶态结构,且射频溅射法,在功率...
邵红红张晔高建昌
关键词:磁控溅射SIC薄膜结合力
文献传递
MoS_2基复合润滑薄膜的制备及其摩擦性能被引量:8
2008年
采用磁控溅射法在不锈钢基体上制备了MoS2/Ni复合润滑薄膜,研究了添加DLC(类金刚石薄膜)中间层对于MoS2/Ni复合薄膜的影响,探讨了复合润滑薄膜的减摩机理;使用EDS与XRD测定了复合薄膜的主要成分和物相结构,使用多功能摩擦试验机测定了薄膜的摩擦因数。结果表明:复合薄膜的主要成分为MoS2和Ni;薄膜中主要晶面为平行于基面的(002)晶面;复合薄膜的摩擦因数在0.06~0.18之间变化,且在高速重载的环境下具有更低的摩擦因数和更高的摩擦稳定性;中间层的加入进一步降低了复合薄膜的摩擦因数,达到0.04左右。
陈玮张晔
关键词:磁控溅射类金刚石薄膜
The Research on Fabrication and Tribological Performance of Ti-Al Lubricate Films
According to Ti-Al equilibrium diagram,microstructure and its influence on tribological performance of Ti-Al l...
张晔李长生田明霞
碳钢基体磁控溅射SiC薄膜结合力研究被引量:5
2007年
采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜,并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响。试验结果表明,采用功率为200 W射频法和时间为2 h的SiC/N i-P双层薄膜结合力最好。
邵红红张晔高建昌华戟云
关键词:磁控溅射SIC薄膜结合力
共2页<12>
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