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周文龙

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 1篇庞磁电阻
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米金刚石
  • 1篇纳米金刚石薄...
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇刚石
  • 1篇SR
  • 1篇LA
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇场发射
  • 1篇场发射性能
  • 1篇磁电
  • 1篇磁电阻
  • 1篇磁性
  • 1篇磁性材料
  • 1篇粗糙度

机构

  • 2篇北京工业大学
  • 1篇北京有色金属...

作者

  • 2篇严辉
  • 2篇张铭
  • 2篇周文龙
  • 1篇李喜露
  • 1篇郭宏瑞
  • 1篇宋雪梅
  • 1篇王光明
  • 1篇李扩社
  • 1篇李廷先

传媒

  • 2篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2011
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
Si(100)衬底上(110)取向La_(2/3)Sr_(1/3)MnO_3薄膜的制备与性能
2011年
用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜,研究了环境氧压对薄膜结晶度、取向、表面形貌和微结构的影响。结果表明:10Pa氧压下沉积的薄膜具有高结晶度的(110)择优取向,晶粒分布均匀,晶粒分布均匀,表面均方根粗糙度Rrms为1.35 nm。与无明显择优取向的薄膜相比,(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜具有较高的饱和磁化强度(Ms)、金属-绝缘体相变温度(TM-I)和较低的电阻率(ρ)。
李廷先张铭王光明郭宏瑞李扩社李喜露周文龙严辉
关键词：庞磁电阻磁性材料脉冲激光沉积
大面积纳米金刚石薄膜的制备及场发射性能被引量：4
2014年
以CH4和H2为反应气,采用微波等离子体增强化学气相沉积方法在直径为10 cm的硅原片上制备纳米金刚石薄膜。用X射线衍射仪、拉曼光谱、扫描电镜和原子力显微镜对薄膜的组成结构及性能进行表征。结果表明:薄膜的平均晶粒尺寸约为13.8 nm,厚度可达10.8μm,表面粗糙度约为11.8 nm;其拉曼光谱是典型的纳米金刚石薄膜的特征峰峰形,同时在高真空条件下对所制备的薄膜样品进行场发射性能测试。
周文龙张铭宋雪梅严辉
关键词：纳米金刚石薄膜表面粗糙度场发射性能
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