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陈旺富

作品数:27 被引量:43H指数:4
供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 18篇专利
  • 9篇期刊文章

领域

  • 10篇电子电信
  • 6篇理学
  • 5篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 16篇光刻
  • 9篇条纹
  • 8篇纳米光刻
  • 6篇掩模
  • 6篇投影光刻
  • 6篇图像
  • 5篇衍射
  • 5篇图像探测器
  • 5篇光栅
  • 4篇双光栅
  • 4篇偏振
  • 4篇分光
  • 4篇分光镜
  • 4篇成像系统
  • 3篇照明
  • 3篇平行光
  • 3篇纳米
  • 3篇光刻系统
  • 2篇单点
  • 2篇单幅

机构

  • 27篇中国科学院
  • 6篇中国科学院研...
  • 1篇许昌职业技术...
  • 1篇乐山师范学院
  • 1篇中国科学院微...

作者

  • 27篇陈旺富
  • 27篇胡松
  • 25篇周绍林
  • 16篇杨勇
  • 15篇严伟
  • 13篇赵立新
  • 12篇徐锋
  • 10篇唐小萍
  • 9篇蒋文波
  • 8篇谢飞
  • 8篇李金龙
  • 6篇李兰兰
  • 6篇盛壮
  • 6篇罗正全
  • 4篇陈明勇
  • 4篇马平
  • 3篇徐峰
  • 3篇张博
  • 2篇陈铭勇
  • 2篇邢薇

传媒

  • 2篇光学学报
  • 2篇光电工程
  • 2篇微纳电子技术
  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇电子工业专用...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 6篇2012
  • 7篇2011
  • 4篇2010
  • 4篇2009
  • 6篇2008
27 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
纳米光刻中莫尔对准模型与应用被引量:4
2008年
在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程。
周绍林陈旺富杨勇唐小萍胡松马平严伟张幼麟
关键词:纳米光刻
一种适用于投影光刻系统的检焦系统
一种适用于投影光刻系统的检焦系统包括:光弹调制系统,对称成像系统,光栅调制系统,偏振调制系统以及光电探测系统,通过光栅以及偏振调制系统将被测面的偏移量转换成信号光的相对强弱变化,应用光弹调制系统来提高信噪比,从而获得高精...
陈旺富胡松严伟陈铭勇周绍林徐锋李金龙谢飞
文献传递
基于表面等离子体的微纳光刻技术被引量:1
2008年
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米光刻作为一种新兴技术有望突破45nm节点从而极大提高光刻的分辨力。介绍了表面等离子体的特性,对表面等离子体(SPs)在光刻中的应用作了回顾和分析,指出在现有的利用表面等离子体进行纳米光刻的实验装置中,或采用单层膜的超透镜(Superlens),或采用多层膜的Super-lens,但都面临着如何克服近场光刻这一难题;结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发展方向,认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向。
杨勇胡松姚汉民严伟赵立新周绍林陈旺富蒋文波李展
关键词:表面等离子体纳米光刻倏逝波
一种接近式纳米光刻中的间隙测量方法
一种接近式纳米光刻中的间隙测量方法,主要针对纳米压印、波带片阵列成像等纳米制造技术中的掩模硅片间隙控制。其基本过程可由图1简单说明:入射平面波透过两个周期接近、以一定间隙重叠的硅片光栅与掩模光栅并发生多次衍射,来自于两个...
周绍林胡松唐小萍赵立新杨勇徐锋陈旺富陈明勇
文献传递
偏振光栅自参考自准直二维测角装置
本发明是一种偏振光栅自参考自准直二维测角装置,包括照明光源、物光栅、分光镜、物镜、被测面、偏振片、石英晶体、参考光栅、第一及第二偏振分光镜、第一及第二光电探测器,物光栅被物镜成像到无穷远处,经被测面反射后再次被物镜成像到...
陈旺富胡松
纳米光刻双光栅对准莫尔条纹分析被引量:3
2008年
为了给实际的纳米光刻对准工作提供理论研究基础,主要分析推导了莫尔条纹复振幅以及光强的空间分布规律。在理论分析的基础上通过仿真,定量地确定了莫尔条纹复振幅分布的近似数学模型。分析表明,当对准光路通过掩模硅片上的两个对准标记受到两次光栅的调制并发生复杂的衍射和干涉时,将形成有规律的、呈一定周期分布的莫尔条纹。并且当两光栅周期相近时,莫尔条纹将表现为一个与两光栅周期相关的空间拍信号。在近似模型中该拍信号主要由两光栅基频的乘积调制与振幅调制信号组成。两调制信号的群峰值周期相等、与拍信号的群峰值周期一致,并且该周期相对于两光栅周期被大幅度放大,因而具有很好的位移探测灵敏度,有利于纳米级对准的实际应用。
周绍林唐小萍胡松马平陈旺富严伟
关键词:莫尔条纹纳米光刻
基于矢量衍射理论的振幅型光子筛设计与分析被引量:6
2010年
光子筛作为一种新兴的纳米成像器件,具有分辨力高、体积小、重量轻、易复制等优点,被广泛地应用到纳米光刻、大型天文望远镜、航空航天摄像等领域。为了追求高分辨力,须将光子筛的小孔直径做得非常小,但当光子筛的小孔直径远小于入射光波波长时,标量衍射理论已不再成立,必须采用矢量衍射理论来进行光子筛的设计。利用矢量衍射理论建立了光子筛的衍射模型,并基于此模型进行了光子筛结构的设计与优化。为了考察模型的有效性,进行了数值模拟。数值模拟结果表明,基于矢量衍射模型设计的光子筛的聚焦性能良好;在近场区,标量衍射模型不再适用,而矢量衍射模型却能较好地满足设计要求。
蒋文波胡松赵立新杨勇严伟周绍林陈旺富
关键词:成像系统矢量衍射理论数值模拟
一种用于接近式纳米光刻双光栅自动对准系统
一种用于接近式纳米光刻双光栅自动对准系统,由光路部分、图像处理和电路控制部分组成;光路部分包括激光光源、透镜组、掩模、硅片、掩模光栅、硅片光栅、分光镜、物镜、CCD图像探测器;激光经过透镜组后形成均匀准直的平行光,透过两...
徐锋胡松罗正全周绍林陈旺富李金龙谢飞李兰兰盛壮
文献传递
一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统
本发明是一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统,由光路、图像处理模块、电路控制模块组成。光路包括准直激光束、两个光栅标记、四个透镜、硅片台、CCD图像探测器;准直激光束垂直照明一光栅标记,并沿着一、二透镜的光轴对硅片台表面...
徐锋胡松罗正全周绍林陈旺富李金龙谢飞李兰兰盛壮
一种单幅封闭条纹相位提取方法
一种单幅封闭条纹相位提取方法,包括步骤:条纹图像噪声滤波、通过小波脊提取相位和移除符号不确定性,其中相位提取方法中通过构造具有很好的尺度和角度方向选择性的二维解析小波函数,能同时对封闭条纹进行滤波和相位提取。本发明能更好...
徐锋胡松罗正全周绍林陈旺富李金龙谢飞李兰兰盛壮
文献传递
共3页<123>
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