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钱进文

作品数:5 被引量:8H指数:2
供职机构:天津大学更多>>
发文基金:天津市自然科学基金更多>>
相关领域:理学自动化与计算机技术一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇化学计量
  • 2篇气相反应法
  • 2篇CIS薄膜
  • 1篇导体
  • 1篇多孔薄膜
  • 1篇英文
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶凝胶
  • 1篇染料敏化
  • 1篇子层
  • 1篇敏化
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米TIO<...
  • 1篇胶凝
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇NS2
  • 1篇SOL-GE...
  • 1篇TIO2薄膜
  • 1篇UV-VIS

机构

  • 5篇天津大学

作者

  • 5篇钱进文
  • 4篇邱继军
  • 4篇靳正国
  • 1篇刘志锋
  • 1篇武卫兵
  • 1篇石勇

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇无机化学学报
  • 1篇第十三届全国...

年份

  • 2篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
离子层气相反应法(ILGAR)制备CuInS_2薄膜的研究被引量:3
2005年
CuInS2 thin films have been prepared by ion layer gas reaction (ILGAR) using C2H5OH as solvent, CuC1and InCl3 as reagents and H2S gas as sulfuration source. The effects of cationic concentrations and numbers of cycle on the properties of CuInS2 film were investigated. The chemical composition, crystalline structure, surface topography, deposited rate, optical and electronic properties of the films were characterized by X-ray diffractrometry (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), scanning electron microscopy (SEM), ultraviolet-visible spectrometry (UV-Vis) and Hall System. The results show that the crystalline of CuInS2 thin films and the deposition rate have been improved with the increase of cationic concentration, while CuxS segregation phases appear with further increasing cationic concentration. The deposition rate is close to constant as cationic concentration is fixed.CuInS2 thin film derived form lower cationic concentration is uniform, compact and good in adhesion to the substrates. The absorption coefficient of CuInS2 thin films is larger than 104 cm^-1, and the band gap Eg is in the range of 1.30-1.40 eV. The dark resisitivity of the thin film decreases from 50 to 10 Ω·cm and the carrier concentration ranges are over 10^16 cm^-3.
邱继军靳正国钱进文石勇武卫兵
关键词:NS2C2H5OHXPSINCL3UV-VIS
ILGAR法CuInS2薄膜制备中的化学计量控制被引量:2
2005年
采用离子层气相反应法(ILGAR)法,以CuCl、InCl3为原料,C2H5OH为溶剂,H2S为硫源在常温下合成了CuInS2薄膜,建立了前驱体溶液中[Cu]/[In]比与薄膜化学计量之间的关系.利用X-ray光电子能谱仪(XPS),X-ray衍射仪(XRD)、扫描电镜(S EM)、可见-紫外分光光度计(UV-Vis)和霍尔测试系统(HALL)等技术表征了不同化学计量下CIS薄膜的相组成、结构形貌、薄膜生长、光学和电学性质.试验表明,薄膜中Cu/In与溶液中[Cu]/[In]呈线性变化,并伴随有立方闪锌矿结构→黄铜矿结构晶型转变过程;当0.94≤Cu/In≤1.27时,测定出CIS薄膜为单相,表面较致密、均匀、附着性好;薄膜的光吸收系数高于104 cm-1,禁带宽度Eg在1.27 eV~1.35 eV之间,表面暗电阻随Cu/In的增加从102Ω·cm降为10-1 Ω.cm,载流子浓度在1016cm-3~1017cm-3.
邱继军靳正国钱进文
关键词:CIS薄膜化学计量
离子层气相反应法制备CuInS_2半导体薄膜(英文)被引量:1
2006年
以CH3CH2OH为溶剂,CuCl和InCl3为反应物,H2S为硫源,用离子层气相反应法制备了CuInS2半导体薄膜。用X射线衍射、X射线光电子谱、扫描电镜和紫外-可见光谱等对薄膜的晶型、表面化学组成、表面形貌及光电性能进行了表征。分析了混合前驱体溶液中阳离子浓度比[Cu]/[In]对薄膜化学计量及性能的影响。[Cu]/[In]≥1.25时,可获得黄铜矿结构的CuInS2薄膜,其单相形成区外[Cu]/[In]为1.45~1.65。
钱进文靳正国邱继军刘志锋
关键词:化学计量
ILGAR法CuInS2薄膜制备中的化学计量控制
文采用离子层气相反应法(ILGAR)法,以CuCl、InCl3为原料,C2H5OH为溶剂,H2S为硫源在常温下合成了CuInS2薄膜,建立了前驱体溶液中[Cu]/[In]比与薄膜化学计量之间的关系.利用X-ray光电子能...
邱继军靳正国钱进文
关键词:CIS薄膜化学计量
Sol-Gel法纳米TiO<,2>薄膜制备及染料敏化性能研究
本实验以钛酸丁酯为原料,以无水乙醇和稀硝酸为溶剂配制溶胶.凝胶,经过浓缩干燥得干凝胶,然后经煅烧得用于制备太阳能电池阳极多孔薄膜的高比表面的TiO<,2>纳米粉。对溶胶一凝胶过程发生的物理化学变化进行了分析,优化了溶胶一...
钱进文
关键词:溶胶凝胶TIO2薄膜染料敏化多孔薄膜
文献传递
共1页<1>
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