李元昌
- 作品数：8 被引量：15H指数：3
- 供职机构：清华大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信金属学及工艺更多>>
- 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究被引量：6
- 2000年
- 研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM)、六氟磷酸根二苯碘盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂 ,发现二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物 ,而且可以作为阻溶剂 .用碘盐作为光敏产酸物 ,光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与 HMMM的交联反应 ;用氢氧化钠 -乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形 ;采用碘盐作为阻溶剂 ,可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中 ,用稀的氢氧化钠水溶液显影可以得到正性光刻图形 .通过优化后的光刻工艺条件 ,采用不同的显影液和光刻工艺流程 ,实现了同一光致抗蚀剂的正负性反转 ,并分别得到负性和正性光刻图形 .
- 陈明李元昌洪啸吟焦晓明程爱萍
- 关键词：光致抗蚀剂
- 金属-π电子低维体系的第一性原理研究
- 金属-π电子低维体系展现出很多新奇且有趣的物理现象，能够广泛地应用于微电子学技术、信息处理和存储以及清洁能源领域。本论文采用第一原理方法研究了一维有机金属分子线、金属-石墨烯和金属-富勒烯三种金属-π电子低维体系的电子性...
- 李元昌
- 关键词：低维结构半金属
- 文献传递
- 时间分辨傅里叶变换红外光谱法研究聚偏氟乙烯的晶变
- 1997年
- 本文用时间分辨傅里叶变换红外光谱（ＴＲ－ＦＴＩＲＳ）法研究了聚偏氟乙烯（ＰＶＤＦ）的晶型转变，并以５０８ｃｍ－１峰的增强和５２８ｃｍ－１峰的减弱表示α晶型向β晶型的转变，瞬变的初期时间约５ｍｓ。在晶型转变中伴随有“磁滞回线”的非线性效应。
- 胡鑫尧李元昌卢为琴孙素琴
- 关键词：聚偏氟乙烯
- 一种可以正负性互用的化学增幅抗蚀剂及其光刻工艺方法
- 本发明属于微电子光刻技术和印刷制版技术领域。本发明由基体成膜物质、交联剂、增感剂、光敏产酸物、溶剂组成。本发明中的光刻工艺包括:负性光刻工艺流程为:匀胶、前烘、曝光、中烘、显影、后烘、蚀刻、去胶;正性光刻工艺流程为:匀胶...
- 李元昌陈明洪啸吟
- 文献传递
- 采用正负性互用的化学增幅光致抗蚀剂的光刻工艺方法
- 本发明属于微电子光刻技术和印刷制版技术领域。本发明由基体成膜物质、交联剂、增感剂、光敏产酸物、溶剂组成。本发明中的光刻工艺包括：负性光刻工艺流程为：匀胶、前烘、曝光、中烘、显影、后烘、蚀刻、去胶；正性光刻工艺流程为：匀胶...
- 李元昌陈明洪啸吟
- 文献传递
- 甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究被引量：3
- 1998年
- 本文利用二苯碘盐为光敏产酸物，吩噻嗪为敏化剂，配制了一种甲酚醛树脂———六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）负性水型紫外化学增抗蚀剂，并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应，通过优化后的光刻工艺条件得到了分辨率为１．２４μｍ的光刻图形．
- 吴兵李元昌陈明林天舒洪啸吟焦晓明程爱萍陈建军
- 关键词：光刻胶HMMM集成电路增感剂
- 高玻璃化温度化学增幅光致抗蚀剂的制备被引量：5
- 1998年
- 本文合成了一种具有高玻璃化温度的苯乙烯和Ｎ－（４－羟基苯基）马来酰亚胺的共聚体，并将其应用于紫外负性水型化学增幅抗蚀剂中，并初步确定了该光致抗蚀剂的光刻工艺操作条件，得到了分辨率为１．３９μｍ的光刻图形．
- 王慧游凤祥陈明李元昌卢建平洪啸吟黄志齐胡德甫
- 关键词：光致抗蚀剂光刻抗蚀剂
- 微秒级时间分辨傅里叶变换红外光谱激发系统研究被引量：1
- 1992年
- 本文阐述了自行研制的、与FTIR仪器连接运行的时间分辨FTIR系统,包括光激发和电场激发两套系统。检验和测试了系统的工作参数和性能,获得了微秒-毫秒级时间分辨光谱图。
- 胡鑫尧邳艳英孙素琴卢为琴李寿春李元昌张极震杨景文魏成行
- 关键词：菌紫质FTIRTRS
